本发明专利技术实施例提供一种处理盒及其余量检测方法和成像装置及其控制方法。该处理盒包括处理盒壳体，壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，其中：出粉刀的第一导体和显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。本发明专利技术通过采用出粉刀和显影辊的导体作为余量检测电容的两极，利用已有出粉刀与显影辊距离最为接近，且距离控制严格的特点，使得检测成本降低、受已有空间的限制小，并且精度较高的距离使得余量检测电容更加稳定，不会出现突变的电容变化，因此优化了成像装置的显影剂余量检测方案。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及成像设备检测技术，尤其涉及一种。
技术介绍
诸如打印机、复印件和传真机等成像装置，已经广泛应用于人们的工作和生活中，其能够根据输入的图像信号将图像输出到纸张等记录介质上。成像装置的基本成像原理是:通过激光扫描照射带有预定均匀电势的感光鼓，在感光鼓上形成静电潜像；然后通过将显影剂粘附到静电潜像上，使静电潜像显影为可视图像，随后将可视图像转印和定影到纸张上。实现上述成像过程的成像装置中通常都可拆卸地设置有处理盒，处理盒用于容置成像器件，并用于存储作为记录材料的显影剂。处理盒按照感光鼓与显影辊是否接触可大致分为接触式和非接触式两类。图1所示为现有非接触式处理盒的结构示意图，图2所示为现有接触式处理盒的结构示意图。两类处理盒的基本结构类似，在处理盒壳体6内均容置有充电装置1、感光鼓2、显影辊3、出粉刀4和清洁装置5。处理盒壳体6内部在显影辊3 —侧形成有显影剂容纳室7和显影室8，显影辊3设置在显影室8中，显影剂容纳室7中设置有搅拌输送装置15。在未使用之前，两室以密封条9相隔离。开始使用时，撕开密封条9，存储在显影剂容纳室7中的显影剂逐渐地供给至显影室8。在非接触式处理盒中，如图1所示，感光鼓2与显影辊3不直接接触，相应地，其显影室8中通过设置搅拌元件10来搅拌显影剂，并使其附着到显影辊3表面，由出粉刀4将显影辊3表面的显影剂刮平至维持一定厚度。在接触式处理盒中，如图2所示，感光鼓2与显影辊3直接接触，相应地，其显影室8中通过设置送粉辊11，使显影剂附着到显影辊3表面，再由出粉刀4将显影辊3表面的显影剂刮平至维持一定厚度。在处理盒工作过程中，显影剂随着形成图像而被消耗并减少。但是，由于显影剂是容纳在成像装置内部的处理盒中的，所以不能通过目视从外部来确认显影剂的剩余量。为了在显影剂即将消耗尽时可以提醒用户更换，在处理盒中增加对显影剂的检测装置被广泛的应用，其中采用静电电容检测显影剂余量是一种常见的方式。如图1所示，在非接触式处理盒中常见的检测显影剂余量的方式是，在显影室8内设置一天线12作为显影剂余量检测元件。显影辊3与天线12之间形成一余量检测电容。当显影剂的余量变化时，则显影辊3与天线12之间的介质发生变化，导致电容值变化。检测的时候，将偏压电源13加至显影辊3上，然后以检测装置14测定流向检测天线12的电流，最后将检测的电流值转换成显影剂量的余量。但是，上述显影剂余量检测方式存在诸多缺陷:一方面，天线的设置增加了处理盒的成本；另一方面，由于搅拌元件的存在，使得在显影室内设置天线的位置狭小，从而导致显影剂余量检测能力减低，影响显影剂的传输；再一方面，由于检测天线在显影室内距离显影辊位置较远，所以静电电容值很低，需在显影辊上施加频率和电压都很高的交流电压才能获得可感知电流，由此交流电压对外的辐射和损耗明显，造成了能量浪费，同时也造成了辐射。接触式处理盒中采用天线来检测显影剂余量也存在同样的缺陷。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种，以优化处理盒中的显影剂余量检测方式。本专利技术实施例提供了一种处理盒，包括处理盒壳体，所述处理盒壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且所述处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，所述显影辊位于显影室中，其中:所述出粉刀的第一导体和所述显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，所述第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。如上所述的处理盒，优选的是:所述处理盒为接触式处理盒；金属材质的出粉刀作为所述第一导体，并通过框架固定在处理盒壳体内侧；所述显影辊包括金属芯轴和外侧的橡胶套，所述金属芯轴作为第二导体。如上所述的处理盒，优选的是:所述处理盒为接触式处理盒；所述出粉刀包括金属本体和端部的橡胶条，并通过框架固定在处理盒壳体内侧；所述金属本体作为所述第一导体；所述显影辊包括金属芯轴和外侧的橡胶套，所述金属芯轴作为第二导体。如上所述的处理盒，优选的是:所述处理盒为非接触式处理盒；所述出粉刀包括金属本体和端部的橡胶条，并通过框架固定在处理盒壳体内侧，所述金属本体作为所述第一导体；金属材质的所述显影辊作为所述第二导体。如上所述的处理盒，优选的是:所述处理盒壳体的壁面在显影剂容纳室和显影室的交点处弯折且向内突出，所述出粉刀的框架固定在朝向所述显影辊的壁面上，且所述框架为导电材料制成，所述第一导体通过所述框架与检测引脚相连。本专利技术实施例还提供了一种成像装置，其中:包括本专利技术任意实施例所提供的处理盒，所述检测引脚与检测装置相连，所述电压引脚与电源相连，成像装置控制组件与所述检测装置相连，用于根据测定的余量检测电容的变化获取余量检测信号。本专利技术实施例还提供了一种处理盒余量检测方法，适用于本专利技术所提供的成像装置，其中，所述方法包括:控制电源在电压引脚上施加电压，且通过检测装置在所述检测弓I脚上测定余量检测电容的变化；根据设定的转换映射规则，将所述余量检测电容的变化转换为余量检测信号。如上所述的处理盒余量检测方法，优选的是，所述控制电源在电压引脚上施加电压，且通过检测装置在所述检测引脚上测定余量检测电容的变化包括:当识别到成像装置结束成像操作时，停止显影辊转动，且停止施加在所述出粉刀上的电信号；控制电源在电压引脚上施加电压；通过检测装置获取所述检测引脚上输出的电压值，作为所述余量检测电容的变化。如上所述的处理盒余量检测方法，优选的是，在控制电源在电压引脚上施加电压之前，还包括:控制将接触的感光鼓与显影辊分离。本专利技术实施例还提供了一种成像装置控制方法，包括:当识别到处理盒安装到成像装置上时，执行本专利技术所提供的处理盒余量检测方法;当根据所述余量检测信号判断出显影室内的显影剂量低于设定门限值时，发出密封条未去除的报警信号。本专利技术实施例所提供的，通过采用出粉刀和显影辊的导体作为余量检测电容的两极，利用已有出粉刀与显影辊距离最为接近，且距离控制严格的特点，使得显影剂余量检测方案的成本降低、受已有空间的限制小，并且精度较高的距离使得余量检测电容更加稳定，不会出现突变的电容变化，因此优化了成像装置的显影剂余量检测方案。附图说明图1所示为现有非接触式处理盒的结构示意图；图2所示为现有接触式处理盒的结构示意图；图3为本专利技术实施例一提供的处理盒的结构示意图；图4为本专利技术实施例一所提供处理盒适用的电路原理结构示意 图5为本专利技术实施例二提供的处理盒的结构示意图；图6为本专利技术实施例三提供的处理盒的结构示意图；图7为本专利技术实施例四提供的处理盒余量检测方法的流程图；图8为本专利技术实施例所适用的电压-余量映射曲线的示意图；图9为本专利技术实施例五提供的成像装置控制方法的流程图。图中，附图标记如下:1-充电装置；2_感光鼓；3_显影棍；31-金属芯轴； 32-橡胶套； 33-第二导体；4-出粉刀；43-第一导体；5-清洁装置；6-处理盒壳体；7-显影剂容纳室；8_显影室；9-密封条；10-搅拌元件；11-送粉辊；12-天线；13-电源；14-检测装置；15-搅拌输送装置；16-框架；17-转换装置；18-处理装置； 19-激光；20-记录介质；21-转印辊；22-定影部件。具体实施例方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种处理盒，包括处理盒壳体，所述处理盒壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且所述处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，所述显影辊位于显影室中，其特征在于：所述出粉刀的第一导体和所述显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，所述第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。
【技术特征摘要】
1.一种处理盒，包括处理盒壳体，所述处理盒壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且所述处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，所述显影辊位于显影室中，其特征在于: 所述出粉刀的第一导体和所述显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，所述第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。2.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于:所述处理盒为接触式处理盒；金属材质的出粉刀作为所述第一导体，并通过框架固定在处理盒壳体内侧；所述显影辊包括金属芯轴和外侧的橡胶套，所述金属芯轴作为第二导体。3.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于:所述处理盒为接触式处理盒；所述出粉刀包括金属本体和端部的橡胶条，并通过框架固定在处理盒壳体内侧；所述金属本体作为所述第一导体；所述显影辊包括金属芯轴和外侧的橡胶套，所述金属芯轴作为第二导体。4.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于:所述处理盒为非接触式处理盒；所述出粉刀包括金属本体和端部的橡胶条，并通过框架固定在处理盒壳体内侧，所述金属本体作为所述第一导体；金属材质的所述显影辊作为所述第二导体。5.根据权利要求2或3或4所述的处理盒，其特征在于:所述处理盒壳体的壁面在显影剂容纳室和显影室的交点处弯折且向内突出，所述出粉刀的框架固定在朝向所述显影辊的壁面上，且所述框架为导电材料制成，所述第一导体通过所述框架与...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫臣，
申请(专利权)人：珠海艾派克微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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