阵列基板与具有该阵列基板的液晶面板及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种阵列基板与具有阵列基板的液晶面板及其制造方法，阵列基板包括基板、多个扫描线、多个数据线、多个下接触垫、保护层以及透明导电层。基板具有第一显示区域、第二显示区域以及第一非显示区域。多个下接触垫设置于第一非显示区域。透明导电层设置于保护层上，具有第一像素电极、第二像素电极以及多个上接触垫，第一像素电极与第二像素电极分别位于第一显示区域与第二显示区域，其中第一像素电极的宽度等于或是近似第二像素电极的宽度，上接触垫位于第一非显示区域且电性连接下接触垫。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板与具有该阵列基板的液晶面板及其制造方法
本专利技术涉及一种阵列结构及其方法，具体而言是一种阵列基板与具有该阵列基板的液晶面板及其制造方法。
技术介绍
液晶显示器通常分为穿透式液晶显示器、反射液晶显示器以及半穿透/半反射液晶显示器，穿透式液晶显示器设有背光模块(BacklightModule)。背光模块使用的发光源大致可分为冷阴极荧光灯(ColdCathodeFluorescentLamp,CCFL)、热阴极荧光灯、发光二极管或其他电激发光组件(ElectroLuminescentDevice,ELdevice)。由于面板内的液晶转向均匀性攸关液晶显示器的画面显示质量。换言之，液晶转向一致时画面显示质量越佳，液晶转向不足时其透光不足，使得画面较暗，形成画面亮暗不均的波纹(mura)。具体来说，液晶转向程度与施加于像素电极(pixelelectrode)的电压所产生的电场有关，亦即电场足够大，液晶扭转程度越佳；电场不足时，液晶扭转程度越差。进一步地，电场的大小与像素电极的线宽成正比例。然而在现有技术的液晶面板制程中是进行薄膜沉积、黄光曝光、显影以及蚀刻图案化等步骤来形成面板内的像本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：形成多个下接触垫于一基板上；形成一透明导电层于所述基板上；涂布一光阻层于所述透明导电层上；对所述光阻层进行一曝光步骤，定义相对应于所述下接触垫的多个曝光图案；当在所述显影液的流动过程中，每一所述曝光图案形成多个梳状图案及/或防波墙图案；以及形成相多个上接触垫电性连接所述下接触垫。

【技术特征摘要】
2011.11.07 TW 1001406271.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：形成多个下接触垫于一基板上；形成一透明导电层于所述基板上；涂布一光阻层于所述透明导电层上；对所述光阻层进行一曝光步骤，定义相对应于所述下接触垫的多个曝光图案；在进行所述曝光步骤后进行显影步骤，使显影液在所述光阻层上开始流动；当在所述显影液的流动过程中，每一所述曝光图案形成多个梳状图案和多个防波墙图案；以及蚀刻所述透明导电层而形成相应多个上接触垫并形成多个防波墙，所述上接触垫电性连接所述下接触垫；其中所述防波墙与所述上接触垫交错排列。2.如权利要求1所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，当形成所述上接触垫时，更包括下列步骤：同时形成一本体部以及多个梳状部；其中，所述本体部电性连接所述下接触垫其中之一；以及所述多个梳状部自所述本体部延伸，使一上接触垫的梳状部与另一上接触垫的梳状部互相绝缘叉合。3.一种阵列基板，其特征在于，包括：一基板；多个下接触垫，设置于所述基板上；一保护层，用以覆盖所述下接触垫；一透明导电层，设置于所述保护层上，具有多个上接触垫电性连接所述下接触垫；其中，每一所述上接触垫包括：一本体部，电性连接所述下接触垫其中之一；以及多个梳状部，自所述本体部延伸，其中，一上接触垫的所述梳状部与另一上接触垫的梳状部互相绝缘叉合，或者所述上接触垫与多...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈永福，吴荣彬，陈柏孝，吴健豪，
申请(专利权)人：瀚宇彩晶股份有限公司，
类型：发明
国别省市：