冲洗剂及用于生产硬盘基材的方法技术

提供了用于生产其中不残留磨料粒并且在其表面上不形成凹坑缺陷的硬盘基材的冲洗剂；以及利用该冲洗剂生产硬盘基材的方法。该冲洗剂是含有胶态二氧化硅作为磨料粒的冲洗溶液，其中胶态二氧化硅磨料粒的浓度(C)和胶态二氧化硅磨料粒的平均粒径(R)(C和R分别由wt％和nm表示)具有满足以下式(1)的关系：R≥2.2C+18.2。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于硬盘基材的冲洗剂及利用这样的冲洗剂来生产硬盘基材的方法。
技术介绍
结合到磁盘存储设备诸如计算机中的硬盘已被稳定地制成更加紧凑的并且容量增加，因此需要硬盘基材具有极高的精度质量。为此目的，硬盘基材的表面通常被抛光以便平滑，且因此过程包括利用氧化铝磨料粒进行粗抛光以及利用胶态二氧化硅磨料粒进行终抛光。当在粗抛光过程中使用的这样的氧化铝磨料粒不幸地被留在基材表面上并且即使在终抛光后也未被除去时，硬盘基材作为介质的性质可能被削弱。为了处理这个问题，在已知的方法中，在粗抛光和终抛光之间提供冲洗以利用含有胶态二氧化硅磨料粒的冲洗溶液冲洗硬盘基材，从而减少基材表面上残留的氧化铝(专利文件I)。专利文件1:日本专利公开(Kokai)第62-208869A号(1987)专利技术公开内容本专利技术解决的问题然而，本专利技术人发现，在冲洗过程中用常规的冲洗剂冲洗可能会在基材表面上产生大约几十纳米深的凹坑缺陷。因此，需要能够充分地除去基材表面上的氧化铝磨料粒而不会在其上产生凹坑缺陷的优良的冲洗剂。鉴于以上情况，本专利技术的目的是提供冲洗剂以生产在其表面上没有残留的磨料粒以及凹坑缺陷的硬本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.26 JP 2010-1668401.一种含胶态二氧化硅磨料粒的冲洗剂，其中 假设所述胶态二氧化硅磨料粒具有浓度C和平均粒径R(C和R分别以重量％和nm表示)，所述胶态二氧化硅磨料粒的浓度C和平均粒径R具有匹配以下表达式(I)的关系: R 彡 2.2C+18.2....(I)。2.根据权利要求1所述的冲洗剂，其中所述胶态二氧化硅磨料粒的浓度C是从0.8至8.0重量％。3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩元畅宏，迎展彰，新井一隆，小谷竜二，
申请(专利权)人：东洋钢钣株式会社，钢钣工业株式会社，
类型：
国别省市：