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提供了用于生产其中不残留磨料粒并且在其表面上不形成凹坑缺陷的硬盘基材的冲洗剂；以及利用该冲洗剂生产硬盘基材的方法。该冲洗剂是含有胶态二氧化硅作为磨料粒的冲洗溶液，其中胶态二氧化硅磨料粒的浓度(C)和胶态二氧化硅磨料粒的平均粒径(R)(C和R...
该专利属于东洋钢钣株式会社;钢钣工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东洋钢钣株式会社;钢钣工业株式会社授权不得商用。

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