三氟化硼-11电子特气的生产装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及三氟化硼-11电子特气的生产装置，由合成装置2、化学交换塔3、裂解装置5串联而成；裂解塔顶设置有塔顶冷凝器4、塔底设置有加热釜6；从合成装置中喷流而下的液相，通过泵打至化学交换塔顶，再经泵打至裂解装置塔顶；经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器，从化学交换塔底部进入，与喷淋而下的液相逆流，发生交换反应，使11B在气相中富集；裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后，先由换热器7换热，再经泵打至合成装置塔顶，重新发生合成反应。本实用新型专利技术的效果是为高丰度高纯度11BF3电子特气的工业化生产，提供一条可行的工艺技术及生产装置，获得的11BF3产品气丰度达到家99.7%，纯度达到99.995%以上，满足目前国内外11BF3电子特气的产品要求。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及三氟化硼-11 (11BF3)电子特气的生产装置及方法，技术适用于电子、医药等行业，为之提供高丰度、高纯度需要的11BF3的生产工艺。
技术介绍
三氟化硼-11 (11BF3)气体在工业生产上的有很多方面的应用，可以用于电子工业和光纤工业，可作为制备光纤预制件的原料，是硅和锗外延、扩散和离子注入过程的P型掺杂源。在半导体制造过程中11BF3是重要的离子注入气，同时作为硼掺杂剂用于硅离子布植方面，生产出的芯片具有高集成、高密度特点，且体积小、性能优越。随着电子、通讯行业的飞速发展，11BF3气体的应用还有很大的发展前景。对于11BF3的生产，发达国家如美国、德国、日本等都有大规模工业生产厂，其中美国的联合信号公司及德国的BASF公司生产的瓶装11BF3在国际上有较高的影响，日本钢铁化学公司生产的11BF3尽管有较高的纯度，但其规模相对较小。我国目前尚不具备1&气体的生产能力。11BF3气体生产的工艺技术主要有两个难点一是丰度要求。11BF3电子特气的丰度要求彡99. 7%，而11B天然丰度为80%左右。二是纯度要求。11BF3作为电子特气，对各种杂质的要求相当严本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种三氟化硼?11电子特气的生产装置，其特征是由合成装置（2）、化学交换塔（3）、裂解装置（5）串联而成；裂解塔顶设置有塔顶冷凝器（4）、塔底设置有加热釜（6）；从合成装置中喷流而下的液相，通过泵打至化学交换塔顶，再经泵打至裂解装置塔顶；经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器，从化学交换塔底部进入，与喷淋而下的液相逆流，发生交换反应，使11B在气相中富集；裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后，先由换热器（7）换热，再经泵打至合成装置塔顶，重新发生合成反应。

【技术特征摘要】
1.一种三氟化硼-11电子特气的生产装置，其特征是由合成装置(2)、化学交换塔(3)、裂解装置(5)串联而成；裂解塔顶设置有塔顶冷凝器(4)、塔底设置有加热釜(6);从合成装置中喷流而下的液相，通过泵打至化学交换塔顶，再经泵打至裂解装置塔顶；经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器，从化学交换塔底部进入，与喷淋而下的液相逆流，发生交换反应，使nB在气相中富集；裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后，先由换热器(7 )换热，再经泵打至合成装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：张卫江，徐姣，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：实用新型
国别省市：