一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构制造方法及图纸

技术编号:8597854 阅读:165 留言:0更新日期:2013-04-19 00:55
本实用新型专利技术公开了一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构,其设置在反应釜体的内胆内,包括补水喷嘴;所述补水喷嘴安装在反应釜体的内胆上,位于设置在内胆上的上层隔离筛的上方,并与外部水源连通。本实用新型专利技术的补水喷嘴使得能形成水流涡旋,能促进反应的进行,同时不需要任何方式的加热,如电加热、水加热、导电油循环加热、远红外加热,外(内)盘管加热等,就可以实现使补水与釜中温度环境相融,促进反应进行。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种反应釜合成装置,特别涉及一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构
技术介绍
纳米三氧化二铝在橡胶、玻璃、陶瓷、塑料、涂料、耐火材料、远红外发射、高压纳灯、集成电路基板、电池,以及化纤产品等领域有惊人的作用,其应用前景巨大。在制备时需要用到反应釜合成装置。现有的反应釜为水热合成反应釜,又称聚合反应釜,是一种能分解难溶物质的密闭容器,是用于铝水反应的水热合成反应釜。它能承载反应物,收集气体,还能让纳米材料的前驱体生长。但现有的水热合成装置容易使固体反应物堆积在釜底,随着反应的进行,所形成的絮状物沉淀在反应物之上,越积越厚,如果用排料的动力拉动,则使新老生成物一起涌出。由此,因过热而引起物料碳化、产物颜色变深、金属钝化、反应衰减甚至过早终止。不仅造成了物料的浪费,还使生成物成分不均匀,结晶不好。
技术实现思路
本技术的目的是解决现有技术存在的问题,提供一种结构简单、能形成水流涡旋并为反应釜提供冷却的涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构。实现本技术目的的技术方案是一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构,所述补水冷却机构设置在反应釜体的内胆内,包括补水喷嘴;所述补水喷嘴安装在反应釜体的内胆上,位于设置在内胆上的上层隔离筛的上方,并与外部水源连通。所述补水喷嘴的喷嘴位置对准设置在内胆中的中心柱与所述反应釜体的内胆内壁的中间点,其喷射出的水使位于所述上层隔离筛上的反应物按逆时针方向移动。进一步地,还包括补水盘管、止水阀和补水泵;所述补水盘管为紧贴在所述反应釜体的内胆外壁的不锈钢半管,并与补水喷嘴连通;所述止水阀设置在补水盘管的进水口处;所述补水泵与补水盘管相通。采用了上述技术方案,本技术具有以下的有益效果(I)本技术的补水喷嘴使得能形成水流涡旋,能促进反应的进行,同时不需要任何方式的加热,如电加热、水加热、导电油循环加热、远红外加热,外(内)盘管加热等,就可以实现使补水与釜中温度环境相融,促进反应进行。(2)本技术可以通过开启补水泵、关闭止回阀的方式,轻松使得补水反向流动即可对反应釜进行降温,因而不需要不任何方式的冷却降温,如夹套冷却或釜底盘管冷却等,更加方便,成本更低。附图说明为了使本技术的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本技术作进一步详细的说明,其中图1为本技术的结构示意图。附图中的标号为反应釜体1、外壳11、内胆12、夹层13、补水喷嘴2、补水盘管3、上层隔离筛4、中心柱5、进料装置6、排料阀7。具体实施方式见图1,本实施例的涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构设置在反应釜体I的内胆12内,包括补水喷嘴2、补水盘管3、止水阀和补水泵。补水喷嘴2安装在反应釜体I的内胆12上,位于上层隔离筛4上方,并与外部水源连通。补水喷嘴2的喷嘴位置对准中心柱5与反应釜体I的内胆12内壁的中间点,其喷射出的水使位于上层隔离筛4上的反应物按逆时针方向移动,以图1所示为例,补水喷嘴2的设置需要使其喷射的射线偏向中心柱5右侧与内胆12内壁间距的中间,也即射点与中心柱5和右侧内胆12内壁点等距。补水喷嘴2的喷嘴口径根据补水时段的用水量来确定。补水盘管3为紧贴在反应釜体I的内胆12外壁的不锈钢半管,并与补水喷嘴2连通;止水阀设置在补水盘管3的进水口处;补水泵与补水盘管3相通。反应釜体I采用316L型不锈钢制成,包括外壳11、内胆12、进料口和出料口。外壳11和内胆12之间形成夹层13。反应釜体I的外壳11和内胆12均由依次相连的圆弧顶部、垂直壁和圆弧底部组成。进料口和出料口分别设置在反应釜体I顶部和底部。进料口处设置进料装置6。出料口处设置排料阀7。上层隔离筛4、中心柱5均设置在反应釜体I的内胆12内。以上所述的具体实施例,对本技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本技术的具体实施例而已,并不用于限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构,其特征在于:所述补水冷却机构设置在反应釜体(1)的内胆(12)内,包括补水喷嘴(2);所述补水喷嘴(2)安装在反应釜体(1)的内胆(12)上,位于设置在内胆(12)上的上层隔离筛(4)的上方,并与外部水源连通。

【技术特征摘要】
1.一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构,其特征在于所述补水冷却机构设置在反应釜体⑴的内胆(12)内,包括补水喷嘴(2);所述补水喷嘴⑵安装在反应釜体⑴的内胆(12)上,位于设置在内胆(12)上的上层隔离筛(4)的上方,并与外部水源连通。2.根据权利要求1所述的一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构,其特征在于所述补水喷嘴(2)的喷嘴位置对准设置在内胆(12)中的中心柱(5)与所述反应...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚光波
申请(专利权)人:武汉金一波科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1