一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构，其设置在反应釜体的内胆内，包括补水喷嘴；所述补水喷嘴安装在反应釜体的内胆上，位于设置在内胆上的上层隔离筛的上方，并与外部水源连通。本实用新型专利技术的补水喷嘴使得能形成水流涡旋，能促进反应的进行，同时不需要任何方式的加热，如电加热、水加热、导电油循环加热、远红外加热，外(内)盘管加热等，就可以实现使补水与釜中温度环境相融，促进反应进行。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种反应釜合成装置，特别涉及一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构。
技术介绍
纳米三氧化二铝在橡胶、玻璃、陶瓷、塑料、涂料、耐火材料、远红外发射、高压纳灯、集成电路基板、电池，以及化纤产品等领域有惊人的作用，其应用前景巨大。在制备时需要用到反应釜合成装置。现有的反应釜为水热合成反应釜，又称聚合反应釜，是一种能分解难溶物质的密闭容器，是用于铝水反应的水热合成反应釜。它能承载反应物，收集气体，还能让纳米材料的前驱体生长。但现有的水热合成装置容易使固体反应物堆积在釜底，随着反应的进行，所形成的絮状物沉淀在反应物之上，越积越厚，如果用排料的动力拉动，则使新老生成物一起涌出。由此，因过热而引起物料碳化、产物颜色变深、金属钝化、反应衰减甚至过早终止。不仅造成了物料的浪费，还使生成物成分不均匀，结晶不好。
技术实现思路
本技术的目的是解决现有技术存在的问题，提供一种结构简单、能形成水流涡旋并为反应釜提供冷却的涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构。实现本技术目的的技术方案是一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构，所述补水冷却机构设置在反应釜体的内胆内，包括补水喷嘴；所述补水喷嘴安装在反应釜体的内胆上，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构，其特征在于：所述补水冷却机构设置在反应釜体(1)的内胆(12)内，包括补水喷嘴(2)；所述补水喷嘴(2)安装在反应釜体(1)的内胆(12)上，位于设置在内胆(12)上的上层隔离筛(4)的上方，并与外部水源连通。

【技术特征摘要】
1.一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构，其特征在于所述补水冷却机构设置在反应釜体⑴的内胆(12)内，包括补水喷嘴(2);所述补水喷嘴⑵安装在反应釜体⑴的内胆(12)上，位于设置在内胆(12)上的上层隔离筛(4)的上方，并与外部水源连通。2.根据权利要求1所述的一种涡旋反应釜合成装置的补水冷却机构，其特征在于所述补水喷嘴(2)的喷嘴位置对准设置在内胆(12)中的中心柱(5)与所述反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚光波，
申请(专利权)人：武汉金一波科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：