显影设备用清洗剂及其使用方法技术

本发明专利技术公开了一种显影设备用清洗剂，包括5～30重量份的主剂和3～15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。通过将上述重量比的主剂和辅剂混合构成的清洗剂配置成清洗液对显影设备的进行清洗，在保证对显影设备内结垢和结晶物有效清洗除去的同时，降低清洗时清洗液对显影设备的腐蚀速率，保护显影设备，延长显影设备的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及印刷版材生产领域，具体涉及用于印刷版材生产过程中的。
技术介绍
显影机主要用于PS版、CTP版材制作过程中的显影工序，现阶段常用的PS版、CTP版的显影都是利用酸碱中和的原理，使非图纹部分感光膜层溶解，从而完成显影工作。显影机通过其内部机构的机械传动以及操纵的喷淋、刷辊操作，将曝光的版材浸泡在显影液中，在连续运行状态对版面进行清洗而达到显影的目的。显影液的主剂大多为氢氧化钠、氢氧化钾、偏硅酸钠等碱性组分构成；感光膜层被溶解后在显影液中会形成大量絮状不溶物质；这些絮状不溶物质和显影液内的碱性组分作用后容易出现结晶、沉淀，吸附结垢在显影机内表面上，这样显影机经过一段时间运行后，就会出现毛刷和传输胶辊上结聚大量结晶物质以及显影喷啉管、显影液供液系统、阀门等被堵塞的现象，导致显影机无法正常使用。目前，版材生产厂家在出现上述问题后，大多直接采用单一的盐酸、硫酸或磷酸对显影机进行清洗，以求除去结垢和结晶物。但利用这些纯酸性清洗液在清洗时，容易对显影机内部的金属部件造成腐蚀，使得显影机胶棍出现老旧、刷磨辊变硬等问题，进而造成显影过程中出现版材版面划伤、显影机漏液等现象，另外，显影机的使用寿命也被大大缩短，因此有必要提供一种清洗液对显影机内的结垢和结晶物进行有效可靠的清洗、且对显影机内部部件的腐蚀作用小的清洗剂或清洗液。
技术实现思路
本专利技术的首要目的是提供一种显影设备用清洗剂，清洗效果好且对显影设备内部部件的腐蚀作用小，延长显影设备的使用寿命。为实现上述目的，本专利技术采用了以下技术方案一种显影设备用清洗剂，包括5 30重量份的主 剂和3 15重量份的辅剂,所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、朽1檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。本专利技术的另一个目的是提供该显影设备用清洗剂的使用方法，其特征在于是将清洗剂与水按重量比1:8 10进行混合稀释搅拌均匀成清洗液待用，然后将清洗液倒入显影设备内清洗即可。通过将上述重量比的主剂和辅剂混合构成的清洗剂配置成清洗液对显影设备的进行清洗，在保证对显影设备内结垢和结晶物有效清洗除去的同时，降低清洗时清洗液对显影设备的腐蚀速率，保护显影设备，延长显影设备的使用寿命。进一步的方案为该清洗剂还包括2 5重量份的阻垢缓蚀剂和/或2 5重量份的酸洗缓蚀剂，所述的阻垢缓蚀剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四甲膦酸钠、氨基三甲叉膦酸中的一种或几种构成，所述的阻垢缓蚀剂为六次甲基四胺、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉、十七烯基咪唑啉季胺盐中的一种或几种构成。通过增加的阻垢缓蚀剂和/或酸洗缓蚀剂组分，在清洗时，阻垢缓蚀剂组分能够有效的分散、阻止或干扰难容物质在显影设备的内表面的沉淀和结垢，同时在显影设备的内表面形成保护膜，防止清洗液对显影设备造成腐蚀，保护显影设备不受损坏；酸洗缓蚀剂主要作用也是减缓清洗剂对金属基体的腐蚀作用，降低金属腐蚀的速率，并抑制酸洗过程中Fe对金属的腐蚀，使金属不产生孔蚀，进一步更好的保护显影设备。该清洗剂还包括O. 5 5重量份的表面活性剂，所述的表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基二甲基磺丙基甜菜碱、烷基苯磺酸钠中一种或几种混合构成。该清洗剂还包括O. 5 2. 5重量份的助剂和87 37. 5重量份的水，所述的助剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸单丁酯、丙三醇中的一种或几种构成。表面活性剂和助剂的加入，主要是增强显影液对显影设备内部待清洗表面的润湿性能、使得清洗剂能够快速的渗透、乳化、分散结垢和结晶物，同时增强结垢和结晶物在清洗液内的溶解性，增加清洗液的除垢性能和减小清洗操作的耗时。综上所述，本申请提供的清洗剂可对显影设备内的结垢和结晶物进行有效的清洗，且清洗快、除垢效果好、对显影设备内器件的腐蚀作用小。更为具体的方案为，该清洗剂的组分构成为柠檬酸15. 4 21. 6重量份、磷酸7. 7 8. 7重量份、顺丁烯二酸酐3. 9 4. 3重量份、葡萄糖酸钠1. 9 2. 2重量份、邻苯二甲酸二丁酯O. 8 O. 9重量份、六次甲基四胺3. 9 4. 3重量份、乙二胺四乙酸四钠1. 5 2. 6重量份、辛基酚聚氧乙烯醚2. 3 2. 2重量份、十二烷基苯磺酸钠O. 8 1. 3重量份、水61. 8 51. 9重量份。 本申请优选按照上述重量组分的试剂配制清洗剂，其相对于实现本专利技术的其他技术参数的方案可更好的保护显影设备，减小清洗时间约5 20个百分点。在清洗时，将显影设备内的显影液排空，先用水清洗显影设备2 3遍，然后再将配置好的清洗液倒入显影设备内浸泡O. 8 1. 2h，再启动显影设备内部的流体循环系统，在20 27°C条件下循环清洗4 6小时，然后将清洗液倒出，最后用水循环清洗显影设备2 4次即可。当然，对于一些显影设备内的结垢严重或结晶物较多的部件可将其拆卸来，用本配置好的清洗液进行较长时间的浸泡，已取得更加的清洗效果。通过上述操作可有效的将显影设备上的结垢和结晶物除去和保护显影设备具体实施例方式以下通过具体实施方式，对本专利技术作进一步的说明，其中实施例1 8是利用不同组分构成的清洗剂配置清洗液，实施9是利用各种清洗液对结垢的显影设备进行清洗，并比较各清洗剂对显影设备的腐蚀作用和清洗效果。实施例1按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂柠檬酸5kg、磷酸2k g、顺丁烯二酸酐Ik g、葡萄糖酸钠O. 5kg、邻苯二甲酸二丁酯O. 2kg、六次甲基四胺Ik g、乙二胺四乙酸四钠O. 4kg、辛基酹聚氧乙烯醚O. 5kg、十二烧基苯磺酸钠O. 3kg、水12kg。将配置好的清洗剂与水按重量比1:10稀释混合搅拌配置成待用清洗液。实施例2按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂柠檬酸2kg、磷酸Ik g、顺丁烯二酸酐O. 5kg、葡萄糖酸钠O. 25kg、邻苯二甲酸二丁酯O. 1kg、六次甲基四胺O. 5kg、乙二胺四乙酸四钠O. 2kg、辛基酹聚氧乙烯醚O. 3k g、十二烧基苯磺酸钠O. 1kg、水8kg。将配置好的清洗剂与水按重量比1:9稀释混合搅拌配置成待用清洗液。实施例3按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂磺基水杨酸O. 2kg、乙醇酸O. 5kg、顺丁烯二酸酐1. 5kg、聚乙烯磷酸O. 6kg、乙二胺四乙酸二钠O. 3kg、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉O. 3kg、十二烷基二甲基磺丙基甜菜碱O. 07kg、苯甲酸钠O. 02kg、邻苯二甲酸单丁酯O. 05kg、水 10. 85kg。将配置好的清洗剂与水按重量比1:8稀释混合搅拌配置成待用清洗液。实施例4按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂氨基磺酸3. 84kg、磺基水杨酸3. 0kg、草酸O. 3kg、氟化氢铵O. 35kg、氨基三甲叉膦酸1. 14kg、六次甲基四胺O. 5kg、十七烯基咪唑啉季胺盐O. 65k g、丙基酹聚氧乙烯醚1. 0kg、壬基二甲基磺丙基甜菜碱O. 15kg、葡萄糖酸钠 O. 4kg、丙三醇 O. 15kg、水 11. 3kg。将配置好的清洗 剂与水按重量比1:10稀释混合搅拌配置成待用清洗液。实施例5按下列配比准确称取各药品配置成清洗剂柠檬酸2kg、氨基磺酸5kg、葡萄糖酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影设备用清洗剂，包括5～30重量份的主剂和3～15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。

【技术特征摘要】
1.一种显影设备用清洗剂，包括5 30重量份的主剂和3 15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。2.如权利要求1所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括2 5重量份的阻垢缓蚀剂和/或2 5重量份的酸洗缓蚀剂，所述的阻垢缓蚀剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四甲膦酸钠、氨基三甲叉膦酸中的一种或几种构成，所述的阻垢缓蚀剂为六次甲基四胺、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉、十七烯基咪唑啉季胺盐中的一种或几种构成。3.如权利要求1或2所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括O.5 5重量份的表面活性剂，所述的表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基二甲基磺丙基甜菜碱、烷基苯磺酸钠中一种或几种混合构成。4.如权利要求1或2或3所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括O.5 2. 5重量份的助剂和87 37. 5重量份的水，所述的助剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸单丁酯、丙三...

【专利技术属性】
技术研发人员：李煜，王翔，
申请(专利权)人：黄山金瑞泰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：