显影设备用清洗剂及其使用方法技术

本发明专利技术公开了一种显影设备用清洗剂，包括5～30重量份的主剂和3～15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。通过将上述重量比的主剂和辅剂混合构成的清洗剂配置成清洗液对显影设备的进行清洗，在保证对显影设备内结垢和结晶物有效清洗除去的同时，降低清洗时清洗液对显影设备的腐蚀速率，保护显影设备，延长显影设备的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及印刷版材生产领域，具体涉及用于印刷版材生产过程中的。
技术介绍
显影机主要用于PS版、CTP版材制作过程中的显影工序，现阶段常用的PS版、CTP版的显影都是利用酸碱中和的原理，使非图纹部分感光膜层溶解，从而完成显影工作。显影机通过其内部机构的机械传动以及操纵的喷淋、刷辊操作，将曝光的版材浸泡在显影液中，在连续运行状态对版面进行清洗而达到显影的目的。显影液的主剂大多为氢氧化钠、氢氧化钾、偏硅酸钠等碱性组分构成；感光膜层被溶解后在显影液中会形成大量絮状不溶物质；这些絮状不溶物质和显影液内的碱性组分作用后容易出现结晶、沉淀，吸附结垢在显影机内表面上，这样显影机经过一段时间运行后，就会出现毛刷和传输胶辊上结聚大量结晶物质以及显影喷啉管、显影液供液系统、阀门等被堵塞的现象，导致显影机无法正常使用。目前，版材生产厂家在出现上述问题后，大多直接采用单一的盐酸、硫酸或磷酸对显影机进行清洗，以求除去结垢和结晶物。但利用这些纯酸性清洗液在清洗时，容易对显影机内部的金属部件造成腐蚀，使得显影机胶棍出现老旧、刷磨辊变硬等问题，进而造成显影过程中出现版材版面划伤、显影机漏液等现象，另外，显影机本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影设备用清洗剂，包括5～30重量份的主剂和3～15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。

【技术特征摘要】
1.一种显影设备用清洗剂，包括5 30重量份的主剂和3 15重量份的辅剂，所述的主剂为氨基磺酸、磺基水杨酸、柠檬酸、磷酸、乙醇酸中的一种或几种构成，所述的辅剂为草酸、氟化氢铵、顺丁烯二酸酐、聚乙烯磷酸中一种或几种构成。2.如权利要求1所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括2 5重量份的阻垢缓蚀剂和/或2 5重量份的酸洗缓蚀剂，所述的阻垢缓蚀剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、乙二胺四甲膦酸钠、氨基三甲叉膦酸中的一种或几种构成，所述的阻垢缓蚀剂为六次甲基四胺、聚氧乙烯环烷酸咪唑啉、十七烯基咪唑啉季胺盐中的一种或几种构成。3.如权利要求1或2所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括O.5 5重量份的表面活性剂，所述的表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基二甲基磺丙基甜菜碱、烷基苯磺酸钠中一种或几种混合构成。4.如权利要求1或2或3所述的显影设备用清洗剂，其特征在于该清洗剂还包括O.5 2. 5重量份的助剂和87 37. 5重量份的水，所述的助剂为葡萄糖酸钠、苯甲酸钠、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸单丁酯、丙三...

【专利技术属性】
技术研发人员：李煜，王翔，
申请(专利权)人：黄山金瑞泰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：