高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺，包括一基材层，此基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层，此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层，此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层；制备一塑料基膜；在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层；在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层；然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层。本发明专利技术防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所；本发明专利技术同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺，属于胶粘材料

技术介绍
磁控溅射镀膜玻璃自上世纪80年代进入国内建筑玻璃市场以来，已经有30多年了。国内引进镀膜玻璃生产线40多条自主设计、制造小型连续生产线多条。有很多科研院所和镀膜玻璃设备制造厂家，以及镀膜玻璃生产一线的技术人员，都从不同层次、不同角度、不同需求，对镀膜玻璃生产的工艺、技术、控制等等各方面不断地进行研究和探索。磁控溅射的工艺原理在充入少量工艺气体的真空室内，当极间电压很小时，只有少量离子和电子存在，电流密度在l(Tl5A/cm2数量级，当阴极(祀材)和阳极间电压增加时，带电离子在电场的作用下加速运动，能量增加，与电极或中性气体原子相碰撞，产生更多的带电离子，直至电流达到l(T6A/cm2数量级；当电压再增加时，则会产生负阻效应，即〃雪崩现象。此时离子轰击阴极，击出阴极原子和二次电子，二次电子与中性原子碰撞，产生更多离子，此离子再轰击阴极，又产生二次电子，周而复始。当电流密度达到O.OlA/cm2数量级左右时，电流将随电压的增加而增加，形成高密度等离子体的异常辉光放电，高能量的离子轰击阴极(靶材)产生溅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）一表面磁控溅射有第一金属铟层（2），此第一金属铟层（2）另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层（31）或金属铝层（32），此金属银层（31）或金属铝层（32）另一表面磁控溅射有第二金属铟层（4）；所述第一金属铟层厚度为2~15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8~55nm，所述第二金属铟层5~20nm。

【技术特征摘要】
1.一种高透高隔热节能防爆膜，其特征在于包括一基材层(1)，此基材层(I)一表面磁控溅射有第一金属铟层(2)，此第一金属铟层(2)另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层(31)或金属铝层(32)，此金属银层(31)或金属铝层(32)另一表面磁控溅射有第二金属铟层(4);所述第一金属铟层厚度为2 15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8 55nm，所述第二金属铟层5 20nm。2.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层磁控溅射前在15(Tl60°C下进行预热收缩处理。3.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述塑料基膜和第一金属铟层之间涂覆有厚度为0. 5飞u m丙烯酸乳液层。4.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层厚度为12 75 u m05.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层为聚酯薄膜层或聚甲基丙烯酸甲酯薄膜层或聚丙烯薄膜层或聚酰胺薄膜层。6.—种权利要求1所述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺，其特征在于包括以下步骤 步骤一、制备一塑料基膜，为聚酯薄膜或者是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜或聚丙烯(PP)薄膜或聚酰胺(PA)薄膜，厚度为12 75 u m，所述塑料基膜为热稳定性塑料基膜； 步骤二、在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟(In)的靶材，尺寸为都为1600X300X 100mm，溅射气体为99. 999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1X 10_4Pa，工作压力设为0. 7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22 sccm...

【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，杨晓明，
申请(专利权)人：斯迪克新型材料江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：