【技术实现步骤摘要】
本专利技术一般涉及一种准分子激光束辐照装置，用来通过一种具有待形成在工件上的图形掩模，对一工件(例如一多层印刷板)进行光学加工、作业或处理(例如刻蚀)，从而形成眼孔(例如所谓的通路孔、通孔)之类的眼孔。更具体地说，本专利技术涉及一种准分子激光束辐照装置，采用该装置，可以用具有均匀强度分布的准分子激光束以一种稳定状态对工件进行处理。为了能够更好地理解本专利技术的基本原理，首先参照附图说明图14和图16较为详细地描述具有上述类型的现有光学处理或加工设备中所采用的已知准分子激光束辐照装置，其中，图14是典型的已知光学处理装置的示意透视图。该装置的更详细描述，可参见《日本激光处理工程师第28次大会论文集(Collection of Theses in 28th Conven-tion of Laser Processing Engineer of Japan)》第51—58页(1992年7月)。参见图14，该图中所描述的光学处理装置包括一由一个准分子激光振荡器1组成的光源系统，用来产生一个截面为矩形的准分子激光束L0沿准分子激光束L0光通路在激光振荡器1输出口下游的...
【技术保护点】
一种用准分子激光束对工件进行处理的准分子激光束辐照装置，其特征在于，它包含：一准分子激光振荡器，用来辐射一准分子激光束；一具有透光部分和反射层的图形掩模，所述透光部分用来使所述准分子激光振荡器辐射的所述准分子激光束能够从中通过，所述 反射层用来反射所述准分子激光束，所述透光部分形成一在所述工件上待形成的图形；处于所述图形掩模的所述反射层相对位置上的反射装置，用来将从所述反射层反射的准分子激光束反射到所述图形掩模上，从而所述准分子激光束在反射装置和所述图形掩模之间经受 多次反射，并发生位移；一成像光学系统，用来将透过所述图形掩模的准分子激光束图形成像到它所...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：村上和之，中谷元，杉立厚志，皆川忠郎，八木俊，伊藤子，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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