一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品制造技术

本实用新型专利技术涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品；本实用新型专利技术包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片向外，结构依次为：Glass/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4，本实用新型专利技术不仅经得起200℃高温的烘烤，镀膜层不会烧坏，颜色不会发生变化；而且耐氧化，同时具有很高的抗刮伤性能。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品
本技术涉及镀膜玻璃
，尤其涉及一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品。
技术介绍
磁控派射真空室能通过的玻璃厚度一般是19mm,如果超过19mm厚的玻璃,则不能进行镀膜，单片玻璃的厚度一般也就是19mm。对于一些有特殊要求的工程建筑，为了得到更加安全的玻璃，则要求用夹层玻璃，如果夹层后玻璃厚度不超过19mm，也可以在溅射室内进行镀膜。但是如果夹层玻璃厚度超过了 19mm，按常规的做法则没法对夹层玻璃进行镀膜。对于没有该技术之前，镀膜如果要生产双银低辐射夹层玻璃时，只能生产19mm以下的夹层产品，先把玻璃制成夹层玻璃，然后再进行镀膜，这只是限制了夹层玻璃的厚度来实现镀膜。现有技术的缺点很明显，就是没法对超过19_厚的玻璃进行镀双银低辐射膜。这主要是由于镀膜设备设计限制了玻璃通过的厚度，设备的本身特点使得不能通过19_的玻璃。如果采用先将玻璃镀膜后再进行夹层处理，就能实现19mm以上的夹层玻璃产品生产；但是在夹层生产工艺过程中，玻璃要经过清洗机清洗，经过压辊压制成型，还要在高压釜内经过高温高压烧制，最终才能制成夹层产品，这样就对膜层提出了很高的要求1、要经得起200°C高温的·烘烤，膜层不会烧坏，颜色不会发生变化；2、要耐氧化，在夹层加工过程中不能出现出现膜层氧化；3、有很闻的抗刮伤性能。4、加工过程中，膜面不能留下任何痕迹。而目前现有技术中玻璃的镀膜达不到这样的要求。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足，本技术的目的在于提供了一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品；它的镀膜层具有优异的耐高温、耐氧化和抗刮伤不易留痕迹性能， 能在整个夹层加工过程中耐受得住工艺条件的处理，最终实现获得19mm以上的镀双银低福射I旲的夹层玻璃广品。为了实现上述目的，本技术的技术方案如下一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、AZO层、NiCr层、Ag层、NiCr层、AZO层、 Si3N4层、AZO层、NiCr层、Ag层、NiCr层、AZO层和Si3N4层，所述玻璃制品的结构为Glass/Si 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4。其中，所述AZO层是由ZnOx、AIOy烧制而成的具有陶瓷功能的氧化物。较佳地，所述ZnOx为氧化锌、过氧化锌中的一种或两种混合物。较佳地，所述AIOy为一氧化铝、二氧化铝中的一种或两种混合物。较佳地，所述Si3N4层单层的厚度为5 80nm。较佳地，所述AZO层单层的厚度为5 30nm。较佳地，所述NiCr层单层的厚度为I 10nm。较佳地，所述Ag层单层的厚度为5 25nm。本技术是先将单片玻璃镀低辐射双银，然后再将这片已经镀上低辐射双银的玻璃做成夹层产品，这就实现了超过19_厚的夹层玻璃也能镀上双银低辐射膜。本技术采用了可耐高温的双银低辐射结构，此技术结构为Glass/Si 3N4/AZO/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4其中Ag层为功能层，其对于可见光波段具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过、尤其是近红外热辐射的透过，Si3N4层是硅氮复合物层，其结构致密、硬度高、防水性好。在高温条件下底层的Si3N4层能够阻止玻璃的Na 离子穿透，避免对Ag功能层造成影响。而位于外层的Si3N4层由于其具有高硬度，保证了膜层具有良好的耐磨耐刮伤特性。NiCr层为保护层，其具有优良的抗酸碱耐腐蚀特性，能够保护Ag功能层不被氧化。AZO是由Zn0x、A10x烧制而成的具有陶瓷功能的氧化物，晶体结构十分致密，能提高膜层平整度，提高膜层的牢固程度，避免在钢化过程中对Ag功能层的氧化。总之，本技术中的镀膜不仅经得起200°C高温的烘烤，膜层不会烧坏，颜色不会发生变化；而且耐氧化，因为在夹层加工过程中不能出现膜层氧化；同时具有很高的抗刮伤和耐酸碱性能；尤其是能耐受得住夹层生产过程中的工艺条件而不变质，最终实现获得19mm以上的镀上双银低辐射膜的夹层玻璃产品。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术的具体实施方式作进一步的详细说明。实施例1见图1，一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外，依次包括厚度为5nm的S i3N4层1、厚度为30nm的AZO层 2、厚度为IOnm的NiCr层3、厚度为5nm的Ag层4、厚度为Inm的NiCr层5、厚度为30nmAZ0 层6、厚度为30nm的Si3N4层7、厚度为30nm的AZO层8、厚度为IOnm的NiCr层9、厚度为 25nm的Ag层10、厚度为IOnm的NiCr层11、厚度为30nm的AZO层12和厚度为40nm的 Si3N4层13，所述玻璃制品的结构为Glass/Si 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4实施例2见图1，一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外，依次包括厚度为30nm的Si3N4层1、厚度为20nm的AZO 层2、厚度为5nm的NiCr层3、厚度为20nm的Ag层4、厚度为8nm的NiCr层5、厚度为IOnm的AZO层6、厚度为50nm的Si3N4层7、厚度为25nm的AZO层8、厚度为5nm的NiCr层9、厚度为20nm的Ag层10、厚度为8nm的NiCr层11、厚度为20nm的AZO层12和厚度为15nm 的Si3N4层13，所述玻璃制品的结构为Glass/Si 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4。实施例3见图1，一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层O和镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层向外，依次包括厚度为15nm的Si3N4层1、厚度为5nm的AZO层 2、厚度为Inm的NiCr层3、厚度为25nm的Ag层4、厚度为IOnm的NiCr层5、厚度为5nm的 AZO层6、厚度为80nm的Si3N4层7、厚度为5nm的AZO层8、厚度为Inm的NiCr层9、厚度为 5nm的Ag层10、厚度为Inm的NiCr层11、厚度为5nm的AZO层12和厚度为IOnm的Si3N4 层13,所述玻璃制品的结构为Glass/Si 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4/AZ0/Ni Cr/Ag/Ni Cr/AZO/S i 3N4。上述实施例，只是本技术的较佳实施例，并非用来限制本技术实施范围， 故凡以本技术权利要求所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括在本技术权利要求范围之内。将本技术进行相关实验1、耐高温实验可耐高温720V以下，在钢化炉加热时间可达300秒、00秒；镀膜层不仅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于：所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次包括Si3N4层、AZO层、NiCr层、Ag层、NiCr层、AZO层、Si3N4层、AZO层、NiCr层、Ag层、NiCr层、AZO层和Si3N4层

【技术特征摘要】
1.一种可夹层的、镀低辐射双银镀膜的玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次包括Si3N4层、AZO层、NiCr层、Ag层、NiCr层、AZO 层、Si3N4 层、AZO 层、NiCr 层、Ag 层、NiCr 层、AZO 层和 Si3N4 层2.根据权利要求1所述的玻璃制品，其特征在于所述AZO层是由ZnOx和AIOy烧制而成的具有陶瓷功能的氧化物。3.根据权利要求2所述的玻璃制品，其特征在于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔平生，黄颖，余华骏，
申请(专利权)人：东莞南玻工程玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：