【技术实现步骤摘要】
图像处理装置、校正方法和成像装置
本技术涉及图像处理装置、校正方法和成像装置。更具体地，本技术涉及能够通过其更精确地执行黑电平校正的图像处理装置、校正方法和成像装置。
技术介绍
在现有技术(例如，参考日本未审专利申请公开No. 2008-048244)中，存在这样的方法，当出现光泄露到光屏蔽像素区域的光泄露时，该光屏蔽像素区域提供为对其屏蔽来自外部的入射光的像素的区域，通过使用该区域的黑电平执行校正。在该方法的情况下，当利用足够强到在整个光屏蔽像素区域中导致光泄露的光照射成像元件时，在光屏蔽像素区域中检测以便成为参考的黑电平浮动，因此，难以精确地执行黑电平校正。此外，可以考虑这样的方法，远离有效像素区域提供光屏蔽像素区域，以便避免整个光屏蔽像素区域中出现光泄露。然而，与有效像素区域的物理距离增加，使得线数进一步增加。相应地，存在可能增加芯片面积和成本的问题。此外，这样的方法已经设计在确定在这样的光屏蔽像素区域中出现光泄露的情况下，使用预先记录的黑电平的值。在该方法的情况下，使用预先假设的黑电平，使得可能存在这样的问题，当在实际操作中在不希望的条件下出现光泄露时，存...
【技术保护点】
一种图像处理装置，包括：计算单元，配置为计算指示成像元件的OPB区域中的不同像素的像素信号的信号值之间的差值的改变度的参数；以及估计单元，配置为通过使用由所述计算单元计算的参数的模型估计黑电平的参考值，所述参考值用于校正所述成像元件的有效像素区域中的像素信号的信号值的黑电平。
【技术特征摘要】
2011.09.30 JP 2011-2162011.一种图像处理装置，包括 计算单元，配置为计算指示成像元件的OPB区域中的不同像素的像素信号的信号值之间的差值的改变度的参数；以及 估计单元，配置为通过使用由所述计算单元计算的参数的模型估计黑电平的参考值，所述参考值用于校正所述成像元件的有效像素区域中的像素信号的信号值的黑电平。2.根据权利要求1的图像处理装置，还包括 存储单元，配置为存储所述参数的模型；其中 所述估计单元通过使用所述存储单元中存储的模型估计黑电平的参考值。3.根据权利要求2的图像处理装置，还包括 生成单元，配置为生成所述参数的模型；其中 所述存储单元存储所述参数的模型，所述模型由所述生成单元生成。4.根据权利要求3的图像处理装置，其中， 所述生成单元生成用于每一个预定条件的所述参数的模型，以及所述存储单元存储用于每一个预定条件的所述参数的模型，所述模型由所述生成单元生成。5.根据权利要求2的图像处理装置，还包括 指定单元，配置为从所述存储单元中存储的模型中指定最接近由所述计算单元计算的所述参数的模型；其中 所述估计单元通过使用由所述指定单元指定的模型估计黑电平的参考值。6.根据权利要求1的图像处理装置，还包括 检测单元，其将OPB区域的像素信号的信号值或者其信号值相互不同的像素之间的差值与阈值比较，以便检测进入OPB区域的光泄露；其中 所述估计单元仅在所述检测单元检测到光泄露的情况下估计黑电平的参考值。7.根据权利要求1的图像处理装置，还包括 校正单元，配置为通过使用黑电平的参考值校正所述成像元件的有效像素区域中的像素信号的信号值的黑电平，所述参考值通过所述估计单元估计。8.根据权利要求1的图像处理装置，其中，所述参数是对于到有效像素区域的每一个距离的差值的改变率或改变量。9.根据权利要求1的图像处理装置，其中， 所述成像元件具有多层配置，以及 所述计算单元和所述估计单元提供在多层配置中的没有形成OPB区域和有效像素区域的层上。10.根据权利要求1的图像处理装置，其中， 所述成像元件具有垂直光散射配置，通过其在每个像素中检测到多个颜色信号， 所述计算单元计算用于每个颜色信号的参数，以及 所述估计单元估计用于每个颜色信号的黑电平的参考值。11.根据权利要求1的图像处理装置，其中， 所述成像元件检测红外光， 所述计算单元计算指示所述成像元件的OPB区域中的不同像素的红外光的像素信号的信号值之间的差值的改变度的参数，以及 所述估计单元通过使用由所述计算单元计算的参数的模型估计黑电平的参考值，所述参考值用于校正所述成像元件的有效像素区域中的红外光的像素信号的信号值的黑电平。12.一种用于校正成像元件的有效像素区域中的像素信号的信号值的黑电平的校正方法，包括 通过计算单元，计算指示成像元件的OPB区域中的不同像素的像素信号的信号值之间的差值的改变度的参数； 通过估计单元，通过使用计算的参数的模型估计黑电平的参考值，所述参考值用于校正所述有效像素区域中的像素信号的信号值的黑电平；以及 ...
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