核磁共振成像装置和核磁共振成像方法制造方法及图纸

技术编号:8562137 阅读:216 留言:0更新日期:2013-04-11 03:27
公开了核磁共振成像装置和核磁共振成像方法。本发明专利技术的目的是提供核磁共振成像装置等,在共同磁场被用作光学磁强计的偏磁场和作为要向样品施加的静磁场时,避免光学磁强计的零灵敏度区域并允许利用强磁共振成像。当静磁场施加单元向样品施加静磁场的方向是z方向时,标量磁强计的碱金属单元被布置为在z方向上不与所述要成像的区域重叠,并且在与z方向正交的平面内方向上不与要成像的区域相交。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
已经提出了使用碱金属气体的电子自旋、具有高灵敏度的光学磁强计。当该光学磁强计用于测量磁共振(进行磁成像)时,运行磁强计的偏磁场与施加到样品的静磁场之间的关系在某种程度上受到限制。这是因为碱金属或质子的拉莫尔频率0^为W(i=Ya|b|,与磁场的幅度|B|成正比。比例常数Ya被称为回旋磁比。质子核自旋的回旋磁比小于碱金属电子自旋的回旋磁比,例如,质子的回旋磁比为钾的回旋磁比的大约1/167。在使用具有上述性质的碱金属的光学磁强计的核磁共振成像中,存在使碱金属的拉莫尔频率与质子的拉莫尔频率匹配的方法。例如,1. Savukov, S. Seltzer和M. Romalis 的 Detection of NMR signals with a radio-frequency atomic magnetometer, Journal of Magnetic Resonance, 185, 214(2007)公开了调整要向碱金属施加的偏磁场的亥姆霍兹线圈与围绕样品的螺线管线圈的结合。利用这种结合,要向样品施加的偏磁场和静磁场被独立地调整,质子的拉莫尔频率与钾的拉莫尔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种执行核磁共振成像的核磁共振成像装置,包括:静磁场施加单元,被配置为对放置在要成像的区域中的样品施加静磁场;RF脉冲施加单元,被配置为施加RF脉冲;梯度磁场施加单元,被配置为施加梯度磁场;以及核磁共振信号检测单元,被配置为检测核磁共振信号,其中,作为核磁共振信号检测单元提供了标量磁强计,其中检测所述核磁共振信号的传感器由碱金属单元构成,使用共同磁场作为操作所述标量磁强计的偏磁场和作为在所述静磁场施加单元中要向所述样品施加的静磁场,以及当所述静磁场施加单元在z方向对所述样品施加所述静磁场时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在所述z方向上不与所述要成像的区域重叠,并且在与所述z方向正交的平面内...

【技术特征摘要】
2011.09.30 JP 2011-2162931.一种执行核磁共振成像的核磁共振成像装置,包括 静磁场施加单元,被配置为对放置在要成像的区域中的样品施加静磁场; RF脉冲施加单元,被配置为施加RF脉冲; 梯度磁场施加单元,被配置为施加梯度磁场;以及 核磁共振信号检测单元,被配置为检测核磁共振信号, 其中,作为核磁共振信号检测单元提供了标量磁强计,其中检测所述核磁共振信号的传感器由碱金属单元构成, 使用共同磁场作为操作所述标量磁强计的偏磁场和作为在所述静磁场施加单元中要向所述样品施加的静磁场,以及 当所述静磁场施加单元在z方向对所述样品施加所述静磁场时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在所述Z方向上不与所述要成像的区域重叠,并且在与所述Z方向正交的平面内方向上不与所述要成像的区域相交。2.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过90度。3.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过60度。4.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,对于所述要成像的区域,所述z方向上区域的剖面形状是薄板状的形状,而与所述z方向正交的所述平面内方向上的剖面形状是边的尺寸大于所述薄板的厚度的方形形状。5.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,对于所述要成像的区域,与所述z方向正交的所述平面内方向上的剖面形状是薄板状的形状,而所述z方向上区域的剖面形状是边的尺寸大于所述薄板的厚度的方形形状。6.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,当所述要成像的区域包括所述要成像的区域中的椭圆柱形样品区域时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在z方向上不与所述要成像的区域中的所述椭圆柱形样品区域重叠,并且被布置为在与所述z方向正交的所述平面内方向上沿着所述椭圆柱形样品区域的...

【专利技术属性】
技术研发人员:水谷夏彦小林哲生石川洁
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

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