触控装置结构制造方法及图纸

技术编号:8513715 阅读:133 留言:0更新日期:2013-03-30 12:36
本实用新型专利技术提供一种触控装置结构,包括一基底,基底区分有一可视区;复数第一感测电极,相互间隔地设置于可视区的基底上;一绝缘层,设置于第一感测电极上;一转印基膜;以及复数第二感测电极,相互间隔地设置于转印基膜上,其中第二感测电极通过转印制程形成于绝缘层上,且其中第一感测电极与第二感测电极交错排列,且通过绝缘层相互绝缘。本实用新型专利技术提供的触控装置结构,通过转印制程制作绝缘层及感测电极,以降低或排除形成次一层结构时对前一步骤已形成之层结构产生的不良影响,进而提升良率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

触控装置结构
本技术涉及触控
,特别是有关于一种触控装置结构。
技术介绍
随着资讯科技的发展,触控装置成为人机之间资讯传递的方式之一。触控装置分 为可视区及边框区,在可视区中制作电极,在边框区分布电极引线,电极引线通过软性电路 板将电极的讯号传递到讯号处理器中,完成触控感应的功能。通常电极是由复数X方向电 极及复数Y方向电极交错排列所构成,X方向电极及Y方向电极形成于不同的层位,且X方 向电极与Y方向电极通过绝缘层相互绝缘。这种具有多层电极的触控装置的制作方法,通常是通过溅镀及光刻制程在基底上 依序制作出X方向电极、覆盖X方向的绝缘层以及Y方向电极。然而,上述触控装置的制作 方法中,形成次一层结构时会对前一步骤已形成之层结构产生影响。例如,上述制作方法中 经过多次真空溅镀、曝光、显影与蚀刻制程后,电极可能会出现裂纹或脱离基底等问题。另外,上述制作方法需要真空镀膜及光刻制程的多道程序,所需设备昂贵,制作成 本较高,且化学药剂污染性大。因此,有必要寻求一种新的触控装置结构之制造方法,其能够解决或改善上述的 问题。
技术实现思路
本技术提供一种触控装置结构,通过转印制程制作绝缘层及感测电极,以降 低或排除形成次一层结构时对前一步骤已形成之层结构产生的不良影响,进而提升良率。本技术提供一种触控装置结构,包括一基底,基底区分有一可视区;复数第一 感测电极,相互间隔地设置于可视区的基底上;一绝缘层,设置于第一感测电极上;一转印 基膜;以及复数第二感测电极,相互间隔地设置于转印基膜上,其中第二感测电极通过转印 制程形成于绝缘层上,且其中第一感测电极与第二感测电极交错排列,且通过绝缘层相互 绝缘。本技术提供另一种触控装置结构,包括一基底,基底区分有一可视区;复数第 一感测电极,相互间隔地设置于可视区的基底上;一转印基膜;复数第二感测电极,相互间 隔地设置于转印基膜上;以及一绝缘层,设置于第二感测电极上,其中第二感测电极及绝缘 层通过转印制程形成于第一感测电极上,且其中第一感测电极与第二感测电极交错排列, 且通过绝缘层相互绝缘。本技术提供另一种触控装置结构,包括一基底,基底区分有一可视区,且具有 第一表面及与第一表面相对的第二表面;复数第一感测电极,相互间隔地设置于基底的第 一表面上;第二转印基膜;以及复数第二感测电极,相互间隔地设置于第二转印基膜上,其 中第二感测电极通过转印制程设置于基底的第二表面上,且其中第一感测电极与第二感测 电极交错排列,且通过基底相互绝缘。进一步的,更包括一第一转印基膜,该等第一感测电极设置于该第一转印基膜上, 且该等第一感测电极通过额外的转印制程设置于该基底的该第一表面上。进一步的,该基底更区分有围绕该可视区的一边框区,且该触控装置结构更包括 复数引线,该等引线设置于该边框区的该基底上,以分别电性连接于该等第一感测电极及 该等第二感测电极。进一步的,该基底更区分有围绕该可视区的一边框区,且该触控装置结构更包括 复数引线,该等引线设置于该转印基膜上,且对应于该边框区,以分别电性连接于该等第一 感测电极及该等第二感测电极。进一步的,该等第二感测电极的材质包括纳米银溶胶、铟锡氧化物溶胶、铟锌氧化 物溶胶、铟锡氟氧化物溶胶、铝锌氧化物溶胶、氟锌氧化物溶胶、纳米碳管溶胶或导电高分 子溶胶。根据本技术实施例,由于通过转印制程制作触控装置的绝缘层及感测电极, 可将多层结构分成两部分形成,因此与通过溅镀及光刻制程的传统制造方法相比,可以降 低形成次一层结构时对前一步骤已形成之层结构产生的不良影响,进而提升良率。再者,以 转印制程取代溅镀及光刻制程,可简化制程,进而提高生产效率。另外由于无需昂贵的制程 (例如,溅镀及光刻制程)设备,因此可提高价格竞争优势以及降低化学药剂的污染。附图说明图1A至IE为本技术一实施例之触控装置结构制造方法剖面示意图;图2A至2E为本技术另一实施例之触控装置结构制造方法剖面示意图;图3A至3C为本技术另一实施例之触控装置结构结构制造方法剖面示意图;图1D、2D、3B_2及3B_2为本技术不同实施例之触控装置结构剖面示意图;以 及图4为图1D所示触控装置结构的爆炸图。具体实施方式以下说明本技术实施例之触控装置结构及其制造方法。然而,可轻易了解本 技术所提供的实施例仅用于说明以特定方法制作及使用本技术,并非用以局限本 技术的范围。再者,在本技术实施例之图式及说明内容中使用相同的标号来表示 相同或相似的部件。请参照图1D及图4,为根据本技术一实施例之触控装置结构剖面示意图及 爆炸图。在本实施例中,触控装置结构包括一基底100、一绝缘层220、复数第一感测电极 230、复数第二感测电极240及一转印基膜200。基底100区分有一可视区110。第一感测电极230相互间隔地设置于可视区110 的基底100上,且沿第一轴向(例如X方向)排列。绝缘层220设置于第一感测电极230 上。第二感测电极240相互间隔地设置于转印基膜200上,且沿第二轴向(例如Y方向) 排列。第二感测电极240通过转印制程形成于绝缘层220上,并与第一感测电极230交错 排列。其中第一轴向与第二轴向相互交叉,例如第一轴向与第二轴向相互垂直,但不以此为 限。绝缘层220位于第一感测电极230与第二感测电极240之间,以使第一感测电极230与第二感测电极240通过绝缘层220相互绝缘。本实施例中,第二感测电极240通过转印形成于绝缘层220上。举例而言,先通过印刷制程,例如凹版印刷制程,在转印基膜200上形成第二感测电极240,接着,将具有第二感测电极240的转印基膜200贴附于基底100上,使绝缘层220位于第一感测电极230与第二感测电极240之间。第一感测电极230也可通过相似的转印制程形成于基底100上。 在其他实施例中,第一感测电极230也可以通过印刷直接形成于基底100上。相较于传统的溅镀及光刻制程,由于进行转印制程时不需要高温处理,因此第一感测电极230及第二感测电极240的材料不受限于耐高温的导电材料。第一感测电极230及第二感测电极240 的材料可为光学透明导电油墨,透明导电油墨包括纳米银溶胶、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)溶胶、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide, IZO)溶胶、铟锡氟氧化物(Indium Tin Fluorine Oxide, ITF0)溶胶、招锋氧化物(Aluminum Zinc Oxide, ΑΖ0)溶胶、氟锋氧化物 (Fluorine Zinc Oxide, FZ0)溶胶、纳米碳管溶胶或导电高分子溶胶(例如,聚乙烯二氧噻吩(poly (3,4-ethylenedioxythiophene), PEDOT)),其中透明导电油墨的导电率高于I/ Qcm。在其他实施例中,可通过溅镀、微影及蚀刻制程取代上述转印制程,以形成第一感测电极230。在此情形中,第一感测电极230可由含IT0、IZ0、ITF0、AZ0或FZO的耐高温材料所构成。在本实施例中,基底100更包括围绕可视区110的边框区130。再者,触控装置结构更包括复数引线300,设置于边框区130的基底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控装置结构,其特征在于,包括:基底,该基底区分有一可视区;复数第一感测电极,相互间隔地设置于该可视区的该基底上;绝缘层,设置于该等第一感测电极上;转印基膜;以及复数第二感测电极,相互间隔地设置于该转印基膜上,其中该等第二感测电极通过一转印制程形成于该绝缘层上,且其中该等第一感测电极与该等第二感测电极交错排列,且通过该绝缘层相互绝缘。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张恒耀张振炘吴孟学伍哲毅陈丽娴
申请(专利权)人:宝宸厦门光学科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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