低反光雾面离型纸制造技术

技术编号:8467162 阅读:180 留言:0更新日期:2013-03-24 09:57
本实用新型专利技术公开一种低反光雾面离型纸,包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层,此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接;所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层,此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um~3.324um,离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部,所述凸起部高度为0.5~1um,所述雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.921um或者3.12umum。本实用新型专利技术低反光雾面离型纸解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题;且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率,从而有效避免了静电引起的严重损失。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

低反光雾面离型纸
本技术涉及一种雾面离型纸,尤其涉及一种低反光雾面离型纸。
技术介绍
离型纸又称隔离纸、防粘纸,主要用于贴覆在胶带的表面用于保护胶带表面的胶粘剂层。现有的离型纸一般是在离型纸底纸层的表面淋膜一层淋膜层(采用的材料主要有聚乙烯),然后在淋膜层的表而涂布一层离型剂层(采用的材料主要为硅油)得到离型纸。 但是由十淋膜层平整度高,离型剂涂层与淋膜层之间附着力差,当离型纸与涂覆有高粘度粘合剂的贴膜贴附时,容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更大的粘合剂带走,从而在贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域,破坏了贴膜整体的纯净、一致性。虽然原纸或淋膜以后的纸的表面具有凹凸状的花纹结构,可以使得感压胶的胶面有一定的雾度,但是由于凹凸形状的不均匀,使得有机感压胶胶面的雾度不均匀,有反光发亮的现象。
技术实现思路
本技术提供一种低反光雾面离型纸,此低反光雾面离型纸解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题;且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率,从而有效避免了静电引起的严重损失。为达到上述目的,本技术采用的技术方案是一种低反光雾面离型纸,包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层,此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接; 所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层,此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2. 821um 3. 324um,离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。上述技术方案中进一步改进的技术方案如下I、上述方案中,所述凸起部高度为O. 5 lum。2、上述方案中,所述雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2. 921 um 或者 3. 12um um。3、上述方案中,所述薄膜层为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。由于上述技术方案运用,本技术与现有技术相比具有下列优点本技术低反光雾面离型纸,其雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面具有若干均匀凹凸结构,此凹槽深度为O. 5 lum,然后在此雾面抗静电涂层表面涂布硅离型剂涂层,硅离型剂涂层的底面在液态下渗入所述雾面抗静电涂层表面的凹缺处,硅离型剂涂层在凝固后通过凹缺与雾面抗静电涂层固定相连,因此,结合力更加牢固、可靠,而且还可以通过调节雾面涂层的粗糙度,来自由调整硅离型剂涂层与离型纸原纸之间剥离力的大小;其次,其雾面抗静电涂层,阻抗值达到上IO9 Κ^Ω/ φ,大大降低了吸附灰尘和杂质的几率,从而有效避免了静电引起的严重损失。附图说明3附图I为本技术低反光雾面离型纸结构示意图。以上附图中1、雾面抗静电涂层;2、原纸层;3、薄膜层;4、胶粘剂层;5、离型剂涂层;6、凸起部。具体实施方式以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述实施例I :一种低反光雾面离型纸,包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层I的原纸层2和薄膜层3,此薄膜层3和原纸层2通过一胶粘剂层4粘接;所述雾面抗静电涂层I另一表面涂覆有离型剂涂层5,此雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为2.98Ium或者3. 224um,离型剂涂层5另一表面具有若干个凸起部6,所述雾面抗静电涂层I 为有机硅改性聚酯雾面涂层。上述凸起部6高度为O. 5 lum。上述雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为2. 921 um或者3.12um um。上述薄膜层3为聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。实施例2 :—种低反光雾面离型纸,包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层I的原纸层2和薄膜层3,此薄膜层3和原纸层2通过一胶粘剂层4粘接;所述雾面抗静电涂层I另一表面涂覆有离型剂涂层5,此雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为2.921um或者3. 124um,离型剂涂层5另一表面具有若干个凸起部6,所述雾面抗静电涂层I 为有机硅改性聚酯雾面涂层。上述凸起部6高度为O. 6um。上述雾面抗静电涂层I与离型剂涂层5接触的表面的粗糙度为2. 921 um或者3.12um um。上述薄膜层3为聚丙烯薄膜。采用上述低反光雾面离型纸时,其雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面具有若干均匀凹凸结构,此凹槽深度为O. 9um,然后在此表面涂布硅离型剂涂层,硅离型剂涂层的底面在液态下渗入所述雾面抗静电涂层表面的凹缺处,硅离型剂涂层在凝固后通过凹缺与雾面抗静电涂层固定相连,因此,结合力更加牢固、可靠,而且还可以通过调节雾面涂层的粗糙度,来自由调整硅离型剂涂层与离型纸原纸之间剥离力的大小;其次,其雾面抗静电涂层,阻抗值达到上IO9 101° Ω/sp,大大降低了吸附灰尘和杂质的几率,从而有效避免了静电引起的严重损失。上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本技术的内容并据以实施,并不能以此限制本技术的保护范围。 凡根据本技术精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种低反光雾面离型纸,其特征在于包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层(I)的原纸层(2 )和薄膜层(3 ),此薄膜层(3 )和原纸层(2 )通过一胶粘剂层(4 )粘接;所述雾面抗静电涂层(I)另一表面涂覆有离型剂涂层(5 ),此雾面抗静电涂层(I)与离型剂涂层(5 )接触的表面的粗糙度为2. 821um 3. 324um,离型剂涂层(5)另一表面具有若干个凸起部(6)。2.根据权利要求I所述的低反光雾面离型纸,其特征在于所述凸起部(6)高度为O.5 Ium03.根据权利要求I所述的低反光雾面离型纸,其特征在于所述雾面抗静电涂层(I)与离型剂涂层(5)接触的表面的粗糙度为2. 921 um或者3. 12 um。4.根据权利要求I所述的低反光雾面离型纸,其特征在于所述薄膜层(3)为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。专利摘要本技术公开一种低反光雾面离型纸,包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层的原纸层和薄膜层,此薄膜层和原纸层通过一胶粘剂层粘接;所述雾面抗静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层,此雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.821um~3.324um,离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部,所述凸起部高度为0.5~1um,所述雾面抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.921um或者3.12umum。本技术低反光雾面离型纸解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题;且能大大降低了吸附灰尘和杂质的几率,从而有效避免了静电引起的严重损失。文档编号D21H19/22GK202809389SQ20122039270公开日2013年3月20日 申请日期2012年8月9日 优先权日2012年8月9日专利技术者金闯, 张庆杰 申请人:斯迪克新型材料(江苏)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低反光雾面离型纸,其特征在于:包括上表面涂覆有雾面抗静电涂层(1)的原纸层(2)和薄膜层(3),此薄膜层(3)和原纸层(2)通过一胶粘剂层(4)粘接;所述雾面抗静电涂层(1)另一表面涂覆有离型剂涂层(5),此雾面抗静电涂层(1)与离型剂涂层(5)接触的表面的粗糙度为2.821um~3.324um,离型剂涂层(5)另一表面具有若干个凸起部(6)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:金闯张庆杰
申请(专利权)人:斯迪克新型材料江苏有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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