【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用排列在一个或更多个洁净空间中的可常规替换的处理设备(processing tool)来支持工厂的装置和方法。
技术介绍
一种用洁净空间来辅助制造材料，比如半导体基片的已知方法是以“洁净室”来组装制造设备。在这种洁净室中，处理设备被布置成为操作人员或自动化设备提供过道空间。在由 W. Whyte 编辑、由 John ffiley& Sons 于 1999 年出版的"Cleanroom Design, SecondEdition"，ISBN 0-471-94204-9中，描述了示范性的洁净室设计(以下称为“Whyte文本”)。随着时间的推移,洁净室设计已经发展到包括在洁净风柜(clean hood)内定位处理站(processing station)。垂直的单向气流可由用于设备和过道的分开的隔间(core)引导通过高架地板(raised floor)。还已知的是,具有仅围绕处理设备以用于提高空间洁净度的专用的微环境。其他已知的方法包括“大型洁净室(ballroom) ”方法，其中设备、操作人员和自动化系统都位于相同的洁净室中。渐近的进步已经使...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：弗雷德里克·A·弗里奇，
申请(专利权)人：弗雷德里克·A·弗里奇，
类型：
国别省市：
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