【技术实现步骤摘要】
·本专利技术涉及一种束流调节装置，特别是涉及一种束流调节装置以及一种包括有该束流调节装置的离子注入系统。
技术介绍
在离子注入系统中通常需要对离子束的状态进行调节，以使其符合注入要求。为了实现对工件的均匀注入，在大部分场合下都需要将离子束在整体上调节均匀，或是至少将离子束在会对注入均匀性产生关键影响的方向上调节均匀。例如，在采用带状离子束来执行离子注入的情况下，则尤其需要将离子束在其横截面的长度方向上调节均匀，而离子束在其横截面的宽度方向上的不均匀性则可以通过在工件上的扫描过程来弥补。其中，所谓带状离子束，其横截面通常呈现为近似的长椭圆形，该长椭圆形的长轴方向便为该离子束的横截面的长度方向，而该长椭圆形的短轴方向便为该离子束的横截面的宽度方向。在现有的离子注入系统中，一般都需要采用各种精密复杂的电磁元件来实现对离子束的上述种种调节。然而，这些电磁元件却往往有着结构复杂、可靠性低并且成本高昂等诸多劣势。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中的束流调节装置结构复杂、可靠性低并且成本高昂的缺陷，提供一种结构简单可靠且成本较低的束流调节装置以及一种包...
【技术保护点】
一种束流调节装置，其特征在于，其包括至少一对磁性杆，每对磁性杆中的两个磁性杆相互对置、且该两个磁性杆的相互对置的两端极性相反。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：洪俊华，陈炯，钱锋，
申请(专利权)人：上海凯世通半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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