【技术实现步骤摘要】
本专利技术关于一种，特别是涉及一种集成电路制造工艺中的。
技术介绍
随着集成电路技术的不断地提升，最小的设计尺寸也在不断降低，缺陷对良率的影响越来越大，同时新工艺、新材料的引入也使缺陷的种类越来越多，成因越来越复杂。目前缺陷最常用最直观的表述方式是图形，图I为现有技术中常用的缺陷数据库的图形示意图。对于图I的缺陷数据库，往往只能通过关键词进行查询，因此即使已经建立缺陷数据库，也无法通过检索的方式从数据库中找到相关资料，只能依靠原始的经验积累来查找问题，解决一个缺陷问题往往耗费大量的人力物力。
技术实现思路
为克服上述现有技术存在的不足，本专利技术之目的在于提供一种，其通过图形边界轮廓算法建立数字化的缺陷数据库，使得进行缺陷检索时只需取得待查缺陷的轮廓特征数据与缺陷数据库进行比较，找到以前的缺陷数据信息进行相关解决方案作参考，实现了检索缺陷数据库的目的，节省了人力物力资源。为达上述及其它目的，本专利技术提出一种基于图形识别的缺陷检索系统，至少包括缺陷数据库建立模组，建立缺陷数据库，并采用图形边界轮廓算法对缺陷数据库中的各种缺陷图形进行计算，一一对应的建立各种缺陷的轮廓...
【技术保护点】
一种基于图形识别的缺陷检索系统，至少包括：缺陷数据库建立模组，建立缺陷数据库，并采用图形边界轮廓算法对缺陷数据库中的各种缺陷图形进行计算，一一对应的建立各种缺陷的轮廓特征数据；图片接收模组，接收所输入的待查缺陷的图片；提取模组，采用图形边界轮廓算法对待查缺陷的图片运算后取得其轮廓特征数据；比对模组，将提取模组取得的轮廓特征数据与该缺陷数据库的轮廓特征数据进行比对；以及比对结果处理模组，根据比对的结果，找到相同或相似的缺陷数据信息及相关解决方案。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：龙吟，范荣伟，王洲男，倪棋梁，陈宏璘，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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