【技术实现步骤摘要】
本技术涉及氧化钨还原系统，具体为一种圆管还原炉。
技术介绍
在氧化钨还原工艺中，需要用到圆管还原炉。圆管还原炉是以氢气作为还原气氛，在设定的工艺温度条件下，对粉末料进行还原的大型设备，现在一般使用十五根炉管的还原炉，炉子全长约16米，宽约3米，高约2. 3米，热最高工艺温度可达1050°C，日产量可达I 吨以上。现有的十五管炉在正常生产时，需要输入的氢气流量为40m3/h，这样虽然能满足生产需要，但是由于氢气输入速度较大，造成大量过余氢气的浪费，提高了生产成本。
技术实现思路
本技术所解决的技术问题在于提供一种圆管还原炉，以解决上述
技术介绍
中的缺点。本技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现一种圆管还原炉，包括回氢管、上排管和下排管，所述上排管为八根管道，所述下排管为七根管道，所述回氢管与所述上排管和下排管相通，所述回氢管上连接有氢气旁通管，氢气通过氢气旁通管回流至所述回氢管，所述氢气旁通管上设有自动阀。本技术中，所述氢气旁通管的氢气回流入口处设有自动开闭的弹片。有益效果本技术结构简单，能保证进料和出料过程中氢气的流量稳定，而且减少了氢气浪费，降低了生产成本。附图说明图I为一种圆管还原炉的结构图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本技术。参见图1，一种圆管还原炉的结构图，一种圆管还原炉，包括回氢管4、上排管3和下排管2，所述上排管3为八根管道，所述下排管2为七根管道，所述回氢管4与所述上排管和下排管相通，所述回氢管4上连接有氢气旁通管I，氢气通过氢气旁通管I回流至所述回氢管4，所述氢气旁通...
【技术保护点】
一种圆管还原炉，包括回氢管、上排管和下排管，所述上排管为八根管道，所述下排管为七根管道，其特征在于，所述回氢管与所述上排管和下排管相通，所述回氢管上连接有氢气旁通管，氢气通过氢气旁通管回流至所述回氢管，所述氢气旁通管上设有自动阀。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：肖民，陈风雷，林桂生，王伟杰，殷宏华，
申请(专利权)人：赣州远驰新材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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