图像显影装置、包括该图像显影装置的处理盒和成像设备制造方法及图纸

一种图像显影装置，包括显影剂支撑体；其中布置第一传送元件的第一传送路径；其中布置第二传送元件的第二传送路径；以及分隔第一传送路径和第二传送路径的分隔元件，所述分隔元件具有第一连通口和第二连通口。所述第一传送路径和第二传送路径通过所述第一连通口和第二连通口彼此连通。所述图像显影装置包括显影剂量探测单元，其包括光学探测单元，该光学探测单元布置在所述第二传送路径中并且被构造成光学上探测所述图像显影装置内的显影剂的量，并且，使得所述显影剂累积在所述显影剂量探测单元的附近。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的各实施方式涉及利用支撑显影剂的显影剂支撑体将潜像支撑体上的潜像显影的图像显影装置、利用该图像显影装置的处理盒和成像设备。
技术介绍
利用电子照相方法的成像设备已经被广泛使用，例如在家庭办公室中或被普通用户。为了响应这种家庭办公室内或者被普通用户的使用，需要成本降低、更长的寿命、尺寸减小以及操作过程中的稳定性。为了实现成像设备的更长的寿命，与它们的使用相关的功能材料的磨损要最小化。例如，对于作为图像支撑体的感光体来说，在充电过程、显影过程、转印过程和清洁过程中分别被相应元件接触而导致的表面磨损需要被考虑。已经知道提供 一种用于抑制磨损的抑制措施，如用于施加润滑剂的施加元件，以防止感光体的表面被磨损。但是，由于感光体随着设备尺寸减小而尺寸减小，难于布置这种用于抑制磨损的抑制措施。因此，最近考虑了各种方法，使得包括润滑剂成分的外部添加剂被增加到调色剂中，并且感光体表面的摩擦系数被减小。另一方面，为了稳定显影装置的长期操作，对应于图像显影过程中消耗的调色剂的量的调色剂的量被供给。由于显影单元内存储的调色剂的量随着显影单元的使用而减少，可以利用残留量探测单元来探测显影剂的剩余量是否大于或等于预定量。已经知道基于这种残留量探测单元的探测结果来供给调色剂。例如，专利文件1(日本公开的未审专利申请第2011-002526号)公开了一种两轴显影剂循环类型的图像显影装置，使得两个显影剂传送元件布置在存放单组分显影剂的显影单元的上部和下部。显影剂容器连续地设置在上部显影剂传送元件的延伸部分的上部处，这是传送方向的上游端部。残留量探测单元布置在显影剂容器中。残留量探测单元通过布置在显影剂容器的侧壁上的透明探测窗口光学探测显影剂的表面。由此，残留量探测单元确定显影剂的残留量。但是，当包括润滑剂成分的外部添加剂被加入到调色剂中时，调色剂颗粒之间的粘附力增加，并且调色剂的粘着特性增加。当调色剂的流动性减小时，调色剂的表面趋于不平整，并且调色剂的表面趋于不会稳定地形成在与调色剂的量相对应的适当位置处。因此，通过探测窗口光学探测显影剂的表面的残留量探测单元所探测的调色剂的探测量趋于变化。例如，当显影剂的残留量小于或等于预定量时残留量探测单元不能探测显影剂的表面，或者当显影剂的残留量大于预定量时残留量探测单元可以探测到显影剂的表面。于是，由于调色剂的量不足而导致图像模糊，或由于调色剂的流动不足而发生调色剂凝块。专利文件I中公开的图像显影装置的目的在于通过简单和廉价的结构探测显影单元内的显影剂的残留量。但是，在这种情况下，由于显影剂容器连续地布置在上部显影剂传送元件的延伸单元的上部处，图像显影装置趋于变大，由此，这种结构不适于设备的尺寸减小。此外，为了探测显影剂的残留量，总是需要到达显影剂容器的显影剂的量。因此，会需要更大量的显影剂，并因此成本增加。此外，当低流动性的显影剂被使用以对应于长寿命时，在显影单元内过分量的显影剂会导致显影剂传送元件断裂，这是由于扭矩负载所致，或者导致设备的损坏，这是由凝块的调色剂所致。本专利技术的实施方式是鉴于上述问题而研制。该实施方式的目的在于提供一种图像显影装置，利用该图像显影装置的处理盒以及利用该图像显影装置的成像设备，在使用具有低流动性的显影剂以对应于更长寿命时，其能够正确探测图像显影装置内的显影剂的量，可以防止错误探测造成的图像模糊，可以防止调色剂凝块，并且可以长时间保持高图像质量
技术实现思路
在一个方面，提供了一种图像显影装置，其包括支撑显影剂并且将显影剂传送到面对潜像支撑体的部分的显影剂支撑体；其中布置第一传送元件的第一传送路径，该第一传送元件用于沿着显影剂支撑体的轴线方向传送显影剂；其中布置第二传送元件的第二传送路径，该第二传送元件用于在与第一传送元件的显影剂传送方向相反的方向上传送显影齐U，第二传送路径布置在第一传送路径的上方；以及分隔元件，该分隔元件分隔第一传送路径和第二传送路径，并且具有第一连通口和第二连通口，第一传送路径和第二传送路径在轴线方向的第一端部和第二端部通过第一连通口和第二连通口彼此连通。图像显影装置包括显影剂量探测单元，其包括光学探测单元，该光学探测单元布置在第二传送路径内并且光学探测成像设备内的显影剂的量。使得显影剂累积在图像显影装置的显影剂量探测单元的附近。在另一方面，提供了一种处理盒，该处理盒可拆卸地安装到成像设备上，该处理盒一体地支撑用于支撑潜像的潜像支撑体和从均匀充电潜像支撑体的充电单元、显影潜像支撑体上的潜像的显影单元、以及清洁潜像支撑体的清洁单元中选出的至少一个单元。所述处理盒包括图像显影装置，该图像显影装置包括支撑显影剂并且将显影剂传送到面对潜像支撑体的部分的显影剂支撑体；其中布置第一传送元件的第一传送路径，该第一传送元件用于沿着显影剂支撑体的轴线方向传送显影剂；其中布置第二传送元件的第二传送路径，该第二传送元件用于在与第一传送元件的显影剂传送方向相反的方向上传送显影剂，第二传送路径布置在第一传送路径的上方；以及分隔元件，该分隔元件分隔第一传送路径和第二传送路径，并且具有第一连通口和第二连通口，第一传送路径和第二传送路径在轴线方向的第一端部和第二端部通过第一连通口和第二连通口彼此连通。图像显影装置包括显影剂量探测单元，其包括光学探测单元，该光学探测单元布置在第二传送路径内并且光学探测成像设备内的显影剂的量。使得显影剂累积在图像显影装置的显影剂量探测单元的附近。在另一方面，提供另一种成像设备，该成像设备包括支撑潜像的潜像支撑体；以及将潜像支撑体上的潜像显影的图像显影装置。所述图像显影装置包括支撑显影剂并且将显影剂传送到面对潜像支撑体的部分的显影剂支撑体；其中布置第一传送元件的第一传送路径，该第一传送元件用于沿着显影剂支撑体的轴线方向传送显影剂；其中布置第二传送元件的第二传送路径，该第二传送元件用于在与第一传送元件的显影剂传送方向相反的方向上传送显影剂，第二传送路径布置在第一传送路径的上方；以及分隔元件，该分隔元件分隔第一传送路径和第二传送路径，并且具有第一连通口和第二连通口，第一传送路径和第二传送路径在轴线方向的第一端部和第二端部通过第一连通口和第二连通口彼此连通。图像显影装置包括显影剂量探测单元，其包括光学探测单元，该光学探测单元布置在第二传送路径内并且光学探测成像设备内的显影剂的量。使得显影剂累积在图像显影装置的显影剂量探测单元的附近。在实施方式中，第一传送路径内的显影剂被第一传送元件沿着显影剂支撑体的轴线方向传送，并且显影剂通过第二连通口被提升到第二传送路径。在第二传送路径内的显影剂被第二传送元件沿着与第一传送路径内的传送方向相反的方向传送，并且显影剂通过第一连通口被掉落并返回到第一传送路径。以这种方式，显影剂在第一传送路径和第二传送路径之间循环。在此时，由于显影剂趋于围绕布置在第二传送路径内侧的显影剂量探测单元的探测单元累积，第二传送路径内的显影剂表面被形成为倾斜的，使得显影剂表面的高度沿着从显影剂传送方向的上游侧部分朝显影剂量探测单元的探测单元的方向增加。因此，与显影剂不会趋于累积在探测单元附近的传统结构相比，即使利用具有低流动性的显影剂，也可以减小探测单元附近的显影剂表面的不平整。从而，取决于显影剂的量，显影剂表面可以形成在更适当本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中武直树，久保田智广，钓谷翔，长友雄司，松野泰英，加藤博秋，足立知哉，宫崎瑠美，宫崎贵史，山下刚司，阿部杏子，藤原泰宏，真田贵宽，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：
国别省市：