透明导电性薄膜的制造方法技术

本发明专利技术提供透明导电性薄膜的制造方法。课题在于在透明导体层被图案化了的透明导电性薄膜中，即使在将基材的厚度减小至80μm以下时，也可抑止由可看到透明导体层的图案边界导致的美观性降低。本发明专利技术的制造方法包括：层叠体准备工序，准备在挠性透明基材上形成有未图案化的透明导体层的层叠体；图案化工序，将一部分透明导体层去除，图案化为在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部；以及热处理工序，对透明导体层图案化之后的前述层叠体进行加热。优选热处理工序中的、图案形成部的尺寸变化率H1与图案开口部的尺寸变化率H2之差H1-H2的绝对值小于0.03%。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在挠性透明基材的一个面上具有透明导体层的。
技术介绍
迄今，作为触摸屏等中使用的透明导电性薄膜，已知有在透明薄膜等挠性透明基材上层叠有由ITO等导电性金属氧化物形成的透明导体层的薄膜。近年来，可多点输入(多点触摸)的投影型静电容量方式的触摸屏、矩阵型的电阻膜方式触摸屏受到注目，在这些触摸屏中，透明导电性薄膜的透明导体层被图案化为规定形状(例 如条纹状)。这种透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部。透明导体层被图案化的情况下，有时起因于形成有透明导体层的部分(图案形成部)与未形成透明导体层的部分(图案开口部)之间的反射率差，可看到图案，作为显示元件的美观性变差。从抑制这种由透明导体层的有无导致的视觉识别性的差异的角度出发，提出了 在薄膜基材与透明导体层之间设置多个光学干涉层作为底涂层，将光学干涉层的折射率等调整至规定范围(例如专利文献广4)。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2010-15861号公报专利文献2 :日本特开2008-98169号公报专利文献3 :日本特许第4364938号说明书专本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性薄膜的制造方法，其是制造在具有透明薄膜基材的挠性透明基材的一个面上具备图案化了的透明导体层的透明导电性薄膜的方法，该透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部，挠性透明基材的厚度为80μm以下，该方法包括下述工序：层叠体准备工序，准备在挠性透明基材上形成有未图案化的透明导体层的层叠体；图案化工序，将一部分所述透明导体层去除，图案化为在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部；以及热处理工序，对透明导体层被图案化之后的所述层叠体进行加热，热处理工序中的、图案形成部的尺寸变化...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田部真理，安藤豪彦，菅原英男，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：