透明导电性薄膜的制造方法技术

本发明专利技术提供透明导电性薄膜的制造方法。课题在于在透明导体层被图案化了的透明导电性薄膜中，即使在将基材的厚度减小至80μm以下时，也可抑止由可看到透明导体层的图案边界导致的美观性降低。本发明专利技术的制造方法包括：层叠体准备工序，准备在挠性透明基材上形成有未图案化的透明导体层的层叠体；图案化工序，将一部分透明导体层去除，图案化为在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部；以及热处理工序，对透明导体层图案化之后的前述层叠体进行加热。优选热处理工序中的、图案形成部的尺寸变化率H1与图案开口部的尺寸变化率H2之差H1-H2的绝对值小于0.03%。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在挠性透明基材的一个面上具有透明导体层的。
技术介绍
迄今，作为触摸屏等中使用的透明导电性薄膜，已知有在透明薄膜等挠性透明基材上层叠有由ITO等导电性金属氧化物形成的透明导体层的薄膜。近年来，可多点输入(多点触摸)的投影型静电容量方式的触摸屏、矩阵型的电阻膜方式触摸屏受到注目，在这些触摸屏中，透明导电性薄膜的透明导体层被图案化为规定形状(例 如条纹状)。这种透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部。透明导体层被图案化的情况下，有时起因于形成有透明导体层的部分(图案形成部)与未形成透明导体层的部分(图案开口部)之间的反射率差，可看到图案，作为显示元件的美观性变差。从抑制这种由透明导体层的有无导致的视觉识别性的差异的角度出发，提出了 在薄膜基材与透明导体层之间设置多个光学干涉层作为底涂层，将光学干涉层的折射率等调整至规定范围(例如专利文献广4)。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2010-15861号公报专利文献2 :日本特开2008-98169号公报专利文献3 :日本特许第4364938号说明书专利文献4 日本特开2009-76432号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题如上所述，透明导体层被图案化的情况下，要求其边界不容易被看到，在此基础上，从显示装置的轻量化、薄型化的角度出发，要求触摸屏等中使用的透明导电性薄膜薄型化。为了减小透明导电性薄膜的厚度，需要减小占其大部分厚度的薄膜基材的厚度。然而，本专利技术人等进行了研究，结果弄清，如果减小薄膜基材的厚度，则即使在基材与透明导体层之间设置有光学干涉层，在将透明导电性薄膜组装到了触摸屏中时，有时透明导体层的图案边界也容易被看到，美观性变差。鉴于上述情况，本专利技术的目的在于提供即使在基材的厚度较小为80 y m以下时，在组装到触摸屏中时透明导体层的图案也不容易被看到的透明导电性薄膜。用于解决问题的方案鉴于上述技术问题，本专利技术人等研究的结果发现通过减小将透明导电性薄膜的透明导体层图案化之后进行的热处理工序中图案形成部与图案开口部的尺寸变化率之差，透明导体层的图案变得不容易被看到，从而完成了本专利技术。本专利技术涉及在厚度80 μ m以下的挠性透明基材上具备图案化了的透明导体层的。透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部。本专利技术的制造方法包括下述工序层叠体准备工序，准备在具有透明薄膜基材的挠性透明基材上形成有未图案化的透明导体层的层叠体；图案化工序，将一部分透明导体层去除，图案化为在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部；以及热处理工序，对透明导体层被图案化之后的前述层叠体进行加热。在本专利技术中，优选热处理工序中的图案形成部的尺寸变化率H1与图案开口部的尺寸变化率H2之差H1-H2的绝对值较小。具体而言， H1-H2优选小于O. 03%,更优选为O. 025%以下，进一步优选为O. 02%以下，特别优选为O. 015%以下。在一个实施方式中，优选对透明导体层被图案化之后的前述层叠体进行加热的热处理工序中的温度小于100°c。在本专利技术的一个实施方式中，一部分透明导体层的去除可以通过使用蚀刻剂的湿法蚀刻适宜地进行。该情况下，优选在热处理工序中将前述层叠体加热干燥。在本专利技术的一个实施方式中，挠性透明基材在透明薄膜基材的透明导体层形成面侧形成有底涂层。此外，优选透明导体层由掺锡氧化铟形成，优选挠性透明基材使用聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜作为透明薄膜基材。专利技术的效果根据本专利技术，在将透明导体层图案化之后的透明导电性薄膜中，图案形成部与图案开口部的加热时的尺寸变化率之差在规定范围内。因此，即使在加热后，在透明导体层与挠性透明基材的界面产生的应力仍较小，薄膜不容易产生起伏。在将如此得到的透明导电性薄膜与玻璃板等刚性的基体贴合来形成触摸屏等时，图案边界处的台阶差减小，可抑制由图案边界被看到而导致的美观性降低。附图说明图I是透明导体层被图案化了的透明导电性薄膜的示意剖视图。图2是示出带粘合剂层的透明导电性薄膜的一个方式的剖视图。图3是示出将透明导电性薄膜与其他基体贴合的方式的示意剖视图。图4是示出透明导体层被图案化了的透明导电性薄膜的一个方式的示意俯视图。图5是表示图案边界处的表面形状(台阶差)的测定结果的一个例子的图。图6是用于概念性说明在将透明导电性薄膜与基体贴合时在图案边界产生台阶差的图。图7是绘制实施例和比较例中的(H1-H2)的值与图案边界处的台阶差的关系的图。附图标记说明I挠性透明基材11透明薄膜基材12底涂层2透明导体层3粘合剂层50 基体100透明导电性薄膜具体实施例方式图I是示出具有图案化了的透明导体层的透明导电性薄膜的一个方式的示意剖视图。图I所示的透明导电性薄膜100在挠性透明基材I的一个面具有图案化了的透明导体层2。挠性透明基材在透明薄膜基材11的表面根据需要而形成有底涂层12等。透明导电性薄膜100由形成有透明导体层2的图案形成部P和未形成透明导体层的图案开口部O构成。图2是示出在挠性透明基材I的未形成透明导体层2侧的面具有粘合剂层3的带粘·合剂层的透明导电性薄膜的一个方式的示意剖视图。图3是示出透明导电性薄膜借助于该粘合剂层3被贴合在玻璃等刚性的基体50上的带粘合剂层的透明导电性薄膜110的示意首1J视图。首先，讨论在具有上述这种构成的透明导电性薄膜中，在减小挠性透明基材I的厚度时透明导体层2的图案边界变得容易被看到的原因。借助于粘合剂层3将透明导电性薄膜100贴合在玻璃板50上时的、透明导体层侧的表面形状轮廓的一个例子示于图5，所述透明导电性薄膜100在厚度23 μ m的由PET薄膜基材形成的挠性透明基材I上形成有由ITO形成的图案化了的透明导体层2。在图5中，在形成有透明导体层的图案形成部P与未形成透明导体层的图案开口部O的边界处产生了 150nm以上的高低差(台阶差)。在该例子中，图案边界处的高低差要远远大于透明导体层的厚度(22nm)，可认为该台阶差是使得图案边界容易被看到的主要原因。进一步研究在如此贴合在玻璃板上的透明导电性薄膜的图案边界处产生较大台阶差的原因，结果发现，如图6的(a)所概念性示出，贴合到玻璃板上之前的透明导电性薄膜以图案形成部P的透明导体层2形成面侧为凸起产生了波浪状的起伏。如此产生了起伏的薄膜如果借助于粘合剂层被贴合在平坦的玻璃板上，则由于玻璃板的刚性要比薄膜大，因此薄膜的起伏本身基本被消除而变平坦。而在透明导电性薄膜的起伏被消除而变平坦时，由于应变会集中在弯曲成凸状的图案形成部P的边界部，如图6的(b)所概念性示出，透明导体层在端部的边界附近凸起，推定这是在边界产生台阶差的原因。另外，在图3和图6的(b冲，图示出了透明导电性薄膜100的挠性透明基材I侧借助于粘合剂层3与刚性的基体贴合的方式，可认为透明导体层2侧与其他基体(例如触摸屏的窗口层)贴合时，也会由于薄膜的起伏而在图案边界产生台阶差，图案边界变得容易被看到。认为为了消除台阶差而使图案边界不容易被看到，重要的是消除贴合在玻璃等刚性基体上之前的透明导电性薄膜的起伏。进一步考察透明导电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性薄膜的制造方法，其是制造在具有透明薄膜基材的挠性透明基材的一个面上具备图案化了的透明导体层的透明导电性薄膜的方法，该透明导电性薄膜包括在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部，挠性透明基材的厚度为80μm以下，该方法包括下述工序：层叠体准备工序，准备在挠性透明基材上形成有未图案化的透明导体层的层叠体；图案化工序，将一部分所述透明导体层去除，图案化为在挠性透明基材上具有透明导体层的图案形成部和在挠性透明基材上不具有透明导体层的图案开口部；以及热处理工序，对透明导体层被图案化之后的所述层叠体进行加热，热处理工序中的、图案形成部的尺寸变化率H1与图案开口部的尺寸变化率H2之差H1?H2的绝对值小于0.03%。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田部真理，安藤豪彦，菅原英男，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：