无接缝电容式触控面板制造技术

本发明专利技术公开一种无接缝电容式触控面板，该触控面板包括基板、图案层、第一感测垫以及第二感测垫。该图案层形成于该基板上。该第一感测垫形成于该图案层上，该第二感测垫形成于该基板上，该第二感测垫与该第一感测垫被该图案层隔开而不相互导电。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电容式触控面板，尤指一种无接缝电容式触控面板。
技术介绍
近年来，触控屏幕因触控手机的采用而获得了市场的认同，因此有众多的厂商加入触控屏幕的开发与设计行列。其中，电容式触控装置由于耐受性佳且具有优选的触控感受，而成为可取代目前主流的电阻式触控屏幕的下一代产品。然而，由于电容式触控装置的成本较高，成为其尚未大量运用于消费性产品的主要原因。 请参考图1，图I为已知技术的投射电容式触控(Projective CapacitanceTouchSensor, PCT)装置的感测垫的示意图。投射电容式触控装置运用了两层感测垫，以方便进行电路的扫描动作，主要包括基板(未图示)，例如，采用玻璃基板，配置于该玻璃基板上的覆盖层(未图示)；于玻璃板的上层表面配置Y轴感测垫层12，Y轴感测垫层12以固定间隔设置多个Y轴感测垫(yl，12，y3, y4...)。在玻璃板的下层表面则配置X轴感测垫层11，以与Y轴感测垫正交并以固定间隔设置多个X轴感测垫(xl，x2，x3，x4...)。当手指触摸或靠近覆盖层时，在触摸位置的X轴感测垫及Y轴感测垫的电容发生变化，经由侦测电路的侦测，即可检测出X轴坐标数据及Y轴坐标数据。运用此种双层电容式触控装置，需要在该玻璃板的上、下表面分别铺设X轴感测垫及Y轴感测垫，或是在该玻璃板的单侧表面利用同时绝缘层制作两层透明导电层。请参考图2，图2为已知技术的电容式触控面板的剖面图。电容式触控面板包括透明基板21以及透明覆盖板25，其中下透明导电层22、绝缘层23、上透明导电层24依序形成于透明基板21的表面。接着，将透明覆盖板25以光学胶26粘合于透明基板21，即完成电容式触控面板的组装。如图I所示，电容式触控面板具有X轴感测垫以及Y轴感测垫，X轴感测垫以下形成透明导电层22，Y轴感测垫以上形成透明导电层24。然而，由于X轴感测垫以及Y轴感测垫形成于不同的透明导电层，当X轴感测垫以及Y轴感测垫的对准有误差时，在透明基板21上就可见到X轴感测垫以及Y轴感测垫的接缝处所形成的细线，进而影响触控屏幕的画面品质。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种无接缝电容式触控面板。本专利技术提供一种电容式触控面板，包括基板、图案层、第一感测垫以及第二感测垫。该图案层形成于该基板上。该第一感测垫形成于该图案层上，该第二感测垫形成于该基板上，该第二感测垫与该第一感测垫被该图案层隔开而不相互导电。本专利技术另提供一种电容式触控面板，包括基板、第一图案层、第一感测垫、第二图案层以及第二感测垫。该第一图案层形成于该基板的第一侧。该第一感测垫形成于该基板的第一侧以及该第一图案层上，形成于该基板上的第一感测垫与形成于该第一图案层上的第一感测垫被该第一图案层隔开。该第二图案层形成于该基板的第二侧。该第二感测垫形成于该基板的第二侧以及该第二图案层上，形成于该基板上的第二感测垫与形成于该第二图案层上的第二感测垫被该第二图案层隔开。附图说明图I为已知技术的投射电容式触控装置的感测垫的示意图。图2为已知技术的电容式触控面板的剖面图。图3至图6说明本专利技术的电容式触控面板的第一实施例。图7为本专利技术的第二实施例的电容式触控面板的剖面图。图8为本专利技术的第三实施例的电容式触控面板的剖面图。附图标记说明·11 X轴感测垫12 Y轴感测垫21 透明基板22 下透明导电层23 绝缘层24 上透明导电层25透明覆盖板26光学胶31、71、81 基板32、73图案层41,74,83 X 轴感测垫42、75、85 Y 轴感测垫51色缘层52贯穿孔61、72导电层62、76、86 保护层82X轴图案层84Y轴图案层具体实施例方式请参考图3至图6，图3至图6说明本专利技术的电容式触控面板的第一实施例。本专利技术的电容式触控装置包括X轴感测垫以及Y轴感测垫，电容式触控装置的架构可参考图I所示。本专利技术的电容式触控面板主要是利用图案层来隔开感测垫，使感测垫之间无接缝产生，提升触控屏幕的画面品质。如图3所示，首先，在基板31上涂布(spin-coat)光致抗蚀剂层，基板31所使用的基底可为各式软质基板，或硬质基板例如玻璃基板、塑胶基板或石英基板等。此外，本专利技术的触控面板亦可与显示面板整合以制作出触控显示面板。举例来说，以触控面板的基板31作为辅助基板，并于触控面板制作完成后贴附至显示面板上。此外，触控面板亦可与显示面板共用同基板31，即触控面板的基板31即为显示面板的基板，例如彩色滤光玻璃基板。于触控面板制作完成后，再将玻璃基板与其它组件组装成触控显示面板。在将光致抗蚀剂层涂布于基板31上之后,利用第一道光掩模对光致抗蚀剂层进行光刻(photolithography)工艺，使光致抗蚀剂层形成X轴感测垫的图案层32。前述图案化的步骤包括先于基板31上全面形成光致抗蚀剂层，接着利用灰阶光掩模、半色调光掩模、或是相位移光掩模对光致抗蚀剂层进行曝光(exposure)工艺,光致抗蚀剂层在显影(development)工艺后由于显影浓度以及曝光时产生的感光深度差，留下X轴感测垫的图案层32。X轴感测垫的图案层32与基板31具有一段高度差，且在优选实施例中，光致抗蚀剂层在进行显影工艺后，X轴感测垫的图案层32的边缘会产生底切(undercut),形成小于90度的边角33。如图4所示,利用凹凸面涂覆、派渡(sputtering)、蒸镀(evaporation)、化学气相沉积、网印或衬垫印刷等工艺将透明导电层沉积于基板31上，透明导电层可为各式透明导电材料构成，例如氧化铟锡(ITO)、氧化锑锡(ΑΤ0)、氧化铟锌(IZO)、氧化铝锌(AZO)、氧化锌镓(GZO)、氧化铟镁(MIO)或选自钛、锌、锆、锑、铟、锡、铝、及硅等所构成的金属氧化物群组中的其中之一，并利用各式薄膜技术例如物理气相沉积或化学气相沉积加以形成。由于 X轴感测垫的图案层32与基板31的高度差以及底切，X轴感测垫的图案层32将使得形成于图案层32上的透明导电层与形成于基板31上的透明导电层被隔开，如此一来，沉积于图案层32上的透明导电层将形成X轴感测垫41。另一方面，形成于基板31上的透明导电层还需要将X轴方向的连接断开，以形成Y轴感测垫42。因此，利用第二道光掩模对形成于基板31上的透明导电层进行光刻工艺以及蚀刻工艺，以形成Y轴感测垫42，而Y轴感测垫42在Y轴方向因图案层32形成底切，自然将X轴感测垫41与Y轴感测垫42分开。如图5所示，在X轴感测垫41以及Y轴感测垫42上形成绝缘层51。X轴感测垫41与Y轴感测垫42被图案层32隔开而不相互导电，但图案层32两端的Y轴感测垫42也因此隔开。因此，图案层32两端的Y轴感测垫42需利用第三道光掩模进行光刻工艺以及蚀刻工艺，以在绝缘层51上产生贯穿孔52，贯穿孔52可用来电性连接图案层32两端的Y轴感测垫42。如图6所示，在绝缘层51上形成导电层61将图案层32两端的Y轴感测垫42电性连接。之后，在基板31上形成保护层62。导电层61可为金属导电层，由于设于Y轴感测垫42间的导电层61的面积很小，所以使用不透明的金属材料并不会影响触控屏幕的透光率，而且通过金属的低电阻又可补偿Y轴感测垫42与导电层61的串接介面的影响，而得到优选的导电率。前述形成导电层61的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容式触控面板，包括：基板；图案层，形成于该基板上；第一感测垫，形成于该图案层上；以及第二感测垫，形成于该基板上，其中该第二感测垫与该第一感测垫被该图案层隔开而不相互导电。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王贵璟，林幸樵，
申请(专利权)人：宇辰光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：