【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及用于光刻机的机器视觉成像镜头结构。
技术介绍
在半导体封装光刻设备及平板显示光刻中，位置对准装置是非常重要的装置之一，其对准方式经常采用基于机器视觉技术的测量方法实现，其中成像镜头是机器视觉系统的核心部件之一，其光学性能的优劣将直接决定最终对准测量精度的高低。一般地，高精度的测量光学系统在保证其图像锐利度和较 大的放大倍率以外，其照明均匀性需要小于5%而畸变最好小于O. 1%，当然如果该系统同时又是双远心系统的话，那么最后的测量精度将更能得到保证。在申请号为201010242686. 7的中国专利中给出了一种用于半导体行业的机器视觉成像镜头，特别用于硅片背面对准方面，该专利的缺陷是对现有市场上的光源功率考虑不足，要得到足够亮的近红外照明比较困难，需要重新考虑镜头的参数，另外装配也相对较复杂。在美国专利6，639，653B2中，提出了一种双远心镜头结构，该专利的不足是运用于高倍率中等数值孔径的系统中，该结构过于复杂，增加了装校难度和成本。在美国专利6，707，617B2中，提出了一种双远心测量镜头，相对来说镜头结构还是比较复杂，增加...
【技术保护点】
一种机器视觉成像镜头，从物面至像面依次包括：成像前组、孔径光阑和成像后组，其中，成像前组包括正透镜、由负透镜和正透镜胶合而成的第一胶合透镜和由正透镜和负透镜胶合而成的第二胶合透镜；成像后组包括一负透镜和一正透镜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨晓青，徐兵，张冲，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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