一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，应用于中大口径光学元件主动高速抛光加工，由主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成止转的导轨滑块装置，转轴支座固定在主体上，滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接，在铰接处采用球面轴承连接，使转轴支座通过微小的转动，消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差；这种滑块结构的直线运动，在限制抛光头主体的旋转运动的同时，提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度，改善了运动平稳性，加工中可以得到最大的去除函数，满足抛光盘高速回转快速抛光时抑制振动的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，该装置适用于中大口径光学元件主动高速抛光加工。
技术介绍
国内外现有光学小工具抛光机床中的抛光头结构系统均采用燕尾槽调整偏心、四连杆结构限制主体转动的机构。四连杆结构是在抛光头平转动过程中，限制抛光头主体旋转运动，使抛光头平动，起到抛光头的止转作用。由于平行四连杆部件结构复杂，零件多，零件间的相对运动多，正反向交换运动频繁，易产生振动，限制了平行四连杆式抛光头的高转速运动，影响抛光去除函数的准确性，抛光收敛效率低，故障率高，难以实现中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，该装置能够有效地控制抛光头主体的平转动运动，使双偏心抛光头的公转、自转速度均可以达到400r/min，保证公转和自转不产生任何干涉，不产生振动，提高了抛光加工中运动的平稳性，满足抛光盘高速旋转、快速抛光、减小振动的要求，实现了中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。实现本专利技术目的的技术解决方案为 采用止转的导轨滑块装置主体、转轴支座、球面轴承、销、套、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置，包括抛光盘、抛光轴、主体、偏心体、主轴、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板；其特征在于：抛光盘通过抛光轴与主体连接，偏心体与主轴连接，抛光轴与主体同轴心，偏心体与主轴同轴心，主轴的动力通过偏心体传递，通过偏心体与主体之间圆周相对位置变化，调整径向轴线距离偏心尺寸，使抛光盘获得不同公转半径；直线导轨固定连接在连接板中，滑块在直线导轨上做直线运动，滑座与滑块通过螺钉固定连接，滑座与转轴支座通过销及套进行轴向连接，在铰接处采用球面轴承连接，转轴支座固定在体上；滑块与滑座沿直线导轨在平面内做X10?11向直线运动，转轴支座与滑座间通过球...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴庆堂，聂凤明，郭波，康战，刘振栓，吴焕，王凯，魏巍，修冬，陈洪海，卢政宇，胡宝共，张维杰，
申请(专利权)人：长春设备工艺研究所，
类型：发明
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