一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置制造方法及图纸

技术编号:8381896 阅读:218 留言:0更新日期:2013-03-06 22:25
本发明专利技术公开了一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,应用于中大口径光学元件主动高速抛光加工,由主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成止转的导轨滑块装置,转轴支座固定在主体上,滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,使转轴支座通过微小的转动,消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差;这种滑块结构的直线运动,在限制抛光头主体的旋转运动的同时,提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度,改善了运动平稳性,加工中可以得到最大的去除函数,满足抛光盘高速回转快速抛光时抑制振动的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,该装置适用于中大口径光学元件主动高速抛光加工。
技术介绍
国内外现有光学小工具抛光机床中的抛光头结构系统均采用燕尾槽调整偏心、四连杆结构限制主体转动的机构。四连杆结构是在抛光头平转动过程中,限制抛光头主体旋转运动,使抛光头平动,起到抛光头的止转作用。由于平行四连杆部件结构复杂,零件多,零件间的相对运动多,正反向交换运动频繁,易产生振动,限制了平行四连杆式抛光头的高转速运动,影响抛光去除函数的准确性,抛光收敛效率低,故障率高,难以实现中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,该装置能够有效地控制抛光头主体的平转动运动,使双偏心抛光头的公转、自转速度均可以达到400r/min,保证公转和自转不产生任何干涉,不产生振动,提高了抛光加工中运动的平稳性,满足抛光盘高速旋转、快速抛光、减小振动的要求,实现了中大口径光学元件的快速、高效、高可靠性的抛光要求。实现本专利技术目的的技术解决方案为 采用止转的导轨滑块装置主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成,转轴支座固定在主体上,滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,使转轴支座通过微小的转动,消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差。这种滑块结构的直线运动,在限制抛光头主体的旋转运动的同时,提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度,改善了运动平稳性,加工中可以得到最大的去除函数。本专利技术与现有技术相比,其显著优点是 (I)在结构上,由原四连杆部件结构改为导轨滑块结构,将转动运动变为直线运动,精简了结构,大幅度减少机械传动的部件关系,减少了零件的安装误差,提高了传动效率,降低了故障率,最大程度地避免了机械频繁正反转引起到振动。(2)在功能上,止转的导轨滑块装置在抛光过程中能够提高自转的速度,抛光盘可以平稳作用在元件表面进行抛光加工,满足抛光盘高速回转、快速抛光时抑制振动的要求。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图I是本专利技术用于抛光头主体止转的导轨滑块装置结构图。图2是图I的俯视图。图3是图I的A向视图。图4是图I的局部放大图B,放大比例4 :1。图5是运动方向图解图。具体实施例方式参照图1,图2,图3,本专利技术提供的用于抛光头止转的导轨滑块装置,包括抛光盘(I)、抛光轴(2)、主体(3)、偏心体(4)、主轴(5)、转轴支座(6)、球面轴承(7)、销(8)、套(9)、滑座(10)、滑块(11)、直线导轨(12)、连接板(13)。参照图1,图2,图4,转轴支座(6)固定在主体(3)上,滑座(10)与转轴支座(6)通过销(8)及套(9)进行轴向连接,滑座(10)与滑块(11)通过螺钉固定连接,铰接处用球面轴承(7)连接,滑块(11)在直线导轨(12)上做直线运动,直线导轨(12)固定连接在连接板(13)中。·参照图3,抛光盘(I)通过抛光轴(2)与主体(3)连接,偏心体(4)与主轴(5)连接,偏心体(4)与主体(3)之间有径向轴线距离偏心尺寸。参照图5,滑块(11)与滑座(10)沿直线导轨(12)在平面内做Xich11向直线运动,转轴支座(6 )与滑座(10 )通过球面轴承(7 )连接,转轴支座(6 )与主体(3 )固定联接在一起,在平面内以角速度《3_6作平转动运动,偏心体(4)与主体(3)之间有径向轴线距离偏心尺寸,偏心体(4)以角速度转动。抛光轴(2)与主体(3)同轴心,偏心体(4)与主轴(5)同轴心,主轴(5)的动力通过偏心体(4)传递,通过偏心体(4)与主体(3)之间圆周相对位置变化,调整径向轴线距离偏心尺寸,使抛光盘(I)获得不同公转半径;滑座(10)与转轴支座(6)通过销(8)及套(9)进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承(7)连接,使转轴支座(6)通过微小的转动,消除抛光头主体(3)转动在平面方向与直线导轨(12)的不平度误差。权利要求1.一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,包括抛光盘、抛光轴、主体、偏心体、主轴、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板;其特征在于抛光盘通过抛光轴与主体连接,偏心体与主轴连接,抛光轴与主体同轴心,偏心体与主轴同轴心, 主轴的动力通过偏心体传递,通过偏心体与主体之间圆周相对位置变化,调整径向轴线距离偏心尺寸,使抛光盘获得不同公转半径;直线导轨固定连接在连接板中,滑块在直线导轨上做直线运动,滑座与滑块通过螺钉固定连接,滑座与转轴支座通过销及套进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,转轴支座固定在体上;滑块与滑座沿直线导轨在平面内做X10-H向直线运动,转轴支座与滑座间通过球面轴承连接,转轴支座与主体固定联接在一起,在平面内以角速度ω3_6作平转动运动,偏心体与主体之间有径向轴线距离偏心尺寸,偏心体以角速度ω4转动。全文摘要本专利技术公开了一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,应用于中大口径光学元件主动高速抛光加工,由主体、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板组成止转的导轨滑块装置,转轴支座固定在主体上,滑座与转轴支座通过套及销进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,使转轴支座通过微小的转动,消除抛光头主体在平面方向与直线导轨的不平度误差;这种滑块结构的直线运动,在限制抛光头主体的旋转运动的同时,提高了主轴旋转公转速度以及抛光头抛光轴的主动自转速度,改善了运动平稳性,加工中可以得到最大的去除函数,满足抛光盘高速回转快速抛光时抑制振动的要求。文档编号B24B41/00GK102950540SQ201210488029公开日2013年3月6日 申请日期2012年11月7日 优先权日2012年11月7日专利技术者吴庆堂, 聂凤明, 郭波, 康战, 刘振栓, 吴焕, 王凯, 魏巍, 修冬, 陈洪海, 卢政宇, 胡宝共, 张维杰 申请人:长春设备工艺研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于高转速抛光头主体止转的导轨滑块装置,包括抛光盘、抛光轴、主体、偏心体、主轴、转轴支座、球面轴承、销、套、滑座、滑块、直线导轨、连接板;其特征在于:抛光盘通过抛光轴与主体连接,偏心体与主轴连接,抛光轴与主体同轴心,偏心体与主轴同轴心,主轴的动力通过偏心体传递,通过偏心体与主体之间圆周相对位置变化,调整径向轴线距离偏心尺寸,使抛光盘获得不同公转半径;直线导轨固定连接在连接板中,滑块在直线导轨上做直线运动,滑座与滑块通过螺钉固定连接,滑座与转轴支座通过销及套进行轴向连接,在铰接处采用球面轴承连接,转轴支座固定在体上;滑块与滑座沿直线导轨在平面内做X10?11向直线运动,转轴支座与滑座间通过球面轴承连接,转轴支座与主体固定联接在一起,在平面内以角速度ω3?6作平转动运动,偏心体与主体之间有径向轴线距离偏心尺寸,偏心体以角速度ω4转动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴庆堂聂凤明郭波康战刘振栓吴焕王凯魏巍修冬陈洪海卢政宇胡宝共张维杰
申请(专利权)人:长春设备工艺研究所
类型:发明
国别省市:

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