【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种支撑装置，特别涉及一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架。
技术介绍
用于校准瞬变电磁场的场均匀性的系统通常需要测试多个位置。校准瞬变电磁场的场均匀性时，不但需要支架支撑和固定测试探头，而且需要通过支架调节测试探头的位置和角度。具体地，校准瞬变电磁场的场均匀性时，通常需要通过调节支架来改变固定有探头的测试杆的角度和长度，甚至需要通过调节支架实现测试杆绕固定轴的转动。现有技术中的支架都不能直接实现上述功能，因此在用于校准瞬变电磁场的场均匀性时非常不便。目前，非常需要一种能够用于校准瞬变电磁场的场均匀性的支架。·
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架。本技术提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架包括底座、转轴、圆拱形的第一拱衬、圆拱形的第二拱衬、第一测试杆、第二测试杆、第一旋钮、第二旋钮、第一探头固定装置和第二探头固定装置；所述底座的上表面设有凸起，所述转轴固定于所述凸起上，所述第一拱衬和所述第二拱衬设于所述底座的上表面，且所述凸起和所述转轴穿过所述第一拱衬和所述第二拱衬的中空部分，所述第一拱衬所在的平面和所述第二拱衬所在的平面分...
【技术保护点】
用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架，其特征在于，该支架包括底座(1)、转轴(2)、圆拱形的第一拱衬(31)、圆拱形的第二拱衬(32)、第一测试杆(41)、第二测试杆(42)、第一旋钮(51)、第二旋钮(52)、第一探头固定装置(61)和第二探头固定装置(62)；所述底座(1)的上表面设有凸起(7)，所述转轴(2)固定于所述凸起(7)上，所述第一拱衬(31)和所述第二拱衬(32)设于所述底座(1)的上表面，且所述凸起(7)和所述转轴(2)穿过所述第一拱衬(31)和所述第二拱衬(32)的中空部分，所述第一拱衬(31)所在的平面和所述第二拱衬(32)所在的平面分别与所述底座(1)的...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：姚利军，沈涛，黄建领，
申请(专利权)人：北京无线电计量测试研究所，
类型：实用新型
国别省市：
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