一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架制造技术

技术编号:8357687 阅读:210 留言:0更新日期:2013-02-22 04:16
本实用新型专利技术公开了一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架,该支架包括支撑杆(1)、安装座(2)、旋转环(3)、定位环(4)、旋转盘(5)、旋钮(6)和测试杆(7),安装座(2)设于支撑杆(1)的顶端,定位环(4)的一侧设有第一凸缘(41),第一凸缘(41)穿过旋转环(3)与安装座(2)固接,定位环(4)的内周侧设有多个凹槽(42),其中心设有至少一个连接键(43),每个连接键(43)的一端与旋钮(6)固接,其另一端与定位键(44)铰接,旋转盘(5)的一侧设有第二凸缘(51),第二凸缘(51)上设有缺口(52),旋转盘(5)的中心设有转轴(53),第二凸缘(51)穿进定位环(4),旋钮(6)安装于转轴(53)上,旋钮(6)能绕转轴(53)转动,旋转环(3)与旋转盘(5)固接,测试杆(7)与旋转盘(5)固接。所述支架能够使校准瞬变电磁场的场均匀性的速度明显加快。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种支撑装置,特别涉及一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架
技术介绍
校准瞬变电磁场的场均匀性时,通常需要应用校准系统来测试多个位置点。校准瞬变电磁场的场均匀性时,不但需要支架支撑和固定测试探头,而且需要通过支架调节测试探头的位置。具体地,校准瞬变电磁场的场均匀性时,通常需要通过调节支架来改变探头的高度,甚至需要通过移动支架实现探头位置的改变。现有技术中的支架在用于校准瞬变电磁场的场均匀性时非常不便,校准速度缓慢。目前,非常需要一种用于快速校准瞬变电磁场的场均匀性的支架。·
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架。本技术提供的用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架包括支撑杆、安装座、旋转环、定位环、旋转盘、旋钮和测试杆,所述安装座设于所述支撑杆的顶端,所述定位环的一侧设有第一凸缘,所述第一凸缘的外径与所述旋转环的内径匹配,使得所述第一凸缘能够穿过所述旋转环与所述安装座固接,所述定位环的内周侧设有多个凹槽,所述定位环的中心设有至少一个连接键,每个所述连接键的一端与所述旋钮固接,每个所述连接键的另一端与定位键铰接,所述旋转盘的一侧设有外径小于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于快速校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,该支架包括支撑杆(1)、安装座(2)、旋转环(3)、定位环(4)、旋转盘(5)、旋钮(6)和测试杆(7),所述安装座(2)设于所述支撑杆(1)的顶端,所述定位环(4)的一侧设有第一凸缘(41),所述第一凸缘(41)的外径与所述旋转环(3)的内径匹配,使得所述第一凸缘(41)能够穿过所述旋转环(3)与所述安装座(2)固接,所述定位环(4)的内周侧设有多个凹槽(42),所述定位环(4)的中心设有至少一个连接键(43),每个所述连接键(43)的一端与所述旋钮(6)固接,每个所述连接键(43)的另一端与定位键(44)铰接,所述旋转盘(5)的一侧设有外径...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:姚利军沈涛黄建领
申请(专利权)人:北京无线电计量测试研究所
类型:实用新型
国别省市:

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