平行同步影像处理系统技术方案

本发明专利技术揭露一种在微影制程中将光罩数据图案透过平行同步影像处理机制施加于基板之系统及方法。在一实施例中，该平行同步影像处理系统包括：一图形引擎，其可将一对象划分为多个梯形，并取各梯形之一边，列出一代表该多个梯形之边表；以及一分配器，其可自该图形引擎接收该边表，并将该边表分配至多个扫描线影像处理单元。该系统进一步包括：一同步调度哨符机制，其可监控处理该多个扫描线影像处理单元之多元同步化运作；以及多个缓冲储存器，其可储存来自对应扫描线影像处理单元之影像数据，并根据该同步调度哨符机制输出已储存之影像数据。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术系关于计算机成像处理。更详而言之，本专利技术系关于在微影制程中利用平行同步影像处理机制以将光罩数据图案施加于基板之系统。
技术介绍
受惠于半导体集成电路(IC)技术之突飞猛进，动态矩阵液晶电视(AMLCD TV)及计算机显示器之制程已有长足进步。近年来，液晶电视及计算机显示器之尺寸不断放大，但价格则逐渐大众化。就半导体IC而言，各技术世代系由电路设计规则中之关键尺寸(⑶)加以定义。随着技术世代之演进，新世代IC之图征关键尺寸目标值逐渐缩小，误差容许度亦更趋严格。但就面板显示器(FPD)而言，各技术世代系依照制程中所用基板之实体尺寸加以分类。例如，Fro分别于2005、2007及2009年进入第六代(G6)、第八代(G8)及第十代(GlO)，其对应之基板尺寸(公厘X公厘)分别为1500xl800、2160x2460及2880x3080。无论是半导体IC或FPD基板，其微影制程所面临之挑战均为如何一方面加大产品之尺寸，一方面使产品平价化；但两者之制程却截然不同。IC业界之一主要挑战，系于直径300公厘之晶圆上形成具有小关键尺寸之图征，其目标为尽可能提高晶体管之安装数量，俾使相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·基恩，T·莱迪格，
申请(专利权)人：派因布鲁克成像系统公司，
类型：
国别省市：