遮光膜制造技术

本发明专利技术的课题在于廉价地制造耐热性、尺寸稳定性优异、且具有高遮光性、低光泽性、而且其偏差少的遮光膜。提供一种遮光膜，其特征在于，其为包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径0.01~1μm的黑色填料、平均粒径0.1~10μm的无机颗粒的遮光膜，遮光膜中的聚酰胺酰亚胺树脂的含有率为55~91重量%、黑色填料的含有率为1~10重量%、无机颗粒的含有率为8~35重量%。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包含聚酰胺酰亚胺树脂与黑色填料、无机颗粒的遮光膜。更详细而言，涉及耐热性、尺寸稳定性、低光泽性、遮光性等优异的、能够适宜地用作数码摄像机、手机、车载照像机等的镜头单元上搭载的光圈、快门叶片、或投影仪的光圈、光量调整用光圈装置的光圈叶片、光学设备部件、绝缘基板用的防反射层等的遮光膜。
技术介绍
近年来，市场上大量涌现了能够移动到任何地方随时使用的便携性优异的袖珍相机(compact camera)、数码摄像机。与之相伴地,要求袖珍相机、数码摄像机的进一步轻量化、小型化、高性能化。由此，由于光学设备，尤其是袖珍相机或数字照相机的轻量化、小型化和高性能化，因而需要构成它们的部件也轻量化、小型化、和高性能化。尤其是光学设备中使用的快门叶片或光圈叶片，由于快门速度的高速化，因而需 要轻量化。另外，由于必须覆盖CCD等摄像元件的前表面而遮蔽光，因而从根本上需要遮光性。进而，为了防止各叶片之间的漏光，期望表面的反射率低。另外，因使用环境而导致照相机内部变得高温，因此快门叶片、光圈叶片需要耐热性、尺寸稳定性。以往，前述遮光膜通常使用金属薄板(SUS、A1等)。例如，照相机的镜头快门(lensshutter)中，在使用金属薄板的遮光膜作为快门叶片、光圈叶片的情况下，开合叶片材时，金属板之间相互摩擦，产生大的噪音。投影仪中也会发出同样的噪音，为了降低该噪音而使叶片以低速工作，此时，存在光量调整赶不上图像的变化，图像变得不稳定的问题。从前述问题、轻量化的观点来看，将使用合成树脂的薄膜而非金属薄板用作基材正成为主流。但是，使用绝缘性的合成树脂薄膜时，产生因静电的带电而造成灰尘附着的问题，因此，对于遮光膜，还要求导电性。根据上述内容，遮光膜的必需特性为高遮光性、耐热性、尺寸稳定性、低光泽性、导电性等。为了满足这种遮光膜的特性，一直以来提出了使用各种材料、薄膜结构的遮光膜。例如专利文献I中记载了通过对在聚酯薄膜中配混有炭黑的薄膜进行喷砂而使薄膜表面粗糙化并涂布导电剂，从而制造遮光膜的方法。另外，专利文献2中提出了一种遮光膜，其在基材薄膜的至少一个面上设置有由粘结剂树脂、平均粒径I μ m以下的黑色微细粉末、平均粒径O. 5^10 μ m的有机填料、平均粒径O. ΓΙΟ μ m的润滑剂构成的遮光层；专利文献3中提出了一种遮光膜，其在基材薄膜的至少一个面上设置有由Tg40°C以上、软化点80°C以上的热固性树脂、平均粒径I μ m以下的黑色微细粉末、平均粒径O. 5^10 μ m的有机填料、平均粒径O. f 10 μ m的润滑剂构成的遮光层的遮光膜。进而，专利文献4中提出了一种柔性印刷基板，其通过在柔性印刷基板上涂布由平均粒径21 μ m的二氧化硅微粒、芳香族聚酰胺酰亚胺形成的遮光性墨而具有遮光性。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平1-120503号公报专利文献2 :日本特开平7-319004号公报专利文献3 :日本特开2003-29314号公报专利文献4 :日本特开2008-251877号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，专利文献I的方法中，由于将聚酯薄膜作为基底，因而存在耐热性、尺寸稳定性差的问题点。另外，专利文献2、专利文献3的方法中，耐热性、尺寸稳定性也差，存在薄膜的表面和背面上遮光性、光泽性存在差异的大问题点。另外，专利文献2、专利文献3中，即使在基材薄膜的两面设置遮光层，也存在聚酯基底膜截面上的光泽感变高，厚度方向上的光泽性产生偏差，得不到充分的低光泽度的问题点。 专利文献4中，由于二氧化硅的添加量少，存在厚度方向上的分散性有偏差、光泽感不均匀的问题点，存在从截面观察薄膜时的光泽度也变高的问题。本专利技术是以解决上述的课题为目的而作出的。即，本专利技术的目的在于，提供耐热性、尺寸稳定性优异，且具有高遮光性、低光泽性，薄膜的表面和背面以及截面上的光泽性的偏差少的遮光膜。用于解决问题的方案为了解决上述课题，本专利技术提供以下的遮光膜。(I) 一种遮光膜，其特征在于，其为包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径O. Oflym的黑色填料、平均粒径O. f 10 μ m的无机颗粒的遮光膜，遮光膜中的聚酰胺酰亚胺树脂的含有率为55、1重量％、黑色填料的含有率为f 10重量％、无机颗粒的含有率为8 35重量％。(2)根据⑴所述的遮光膜，其中，前述黑色填料为炭黑。(3)根据(I)或(2)所述的遮光膜，其中，前述无机颗粒为二氧化硅。(4)根据(1) (3)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，前述无机颗粒为用硅油和/或硅烷偶联剂进行过表面处理的二氧化硅。(5)根据(1) (4)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，除了含有前述聚酰胺酰亚胺树脂、前述黑色填料、前述无机颗粒以外，还含有前述黑色填料和/或前述无机颗粒的分散剂。(6)根据(5)所述的遮光膜，其中，相对于100重量份的黑色填料或/和无机颗粒，前述分散剂的含量为1 50重量份。(7)根据(1) (6)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，前述聚酰胺酰亚胺树脂包含偏苯三酸酐作为酸成分，包含3，3’ - 二甲基-4，4’ -二氨基联苯或与其对应的二异氰酸酯作为胺成分。(8)根据(1Γ(7)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，前述聚酰胺酰亚胺树脂包含偏苯三酸酐、二苯甲酮四羧酸二酐和联苯四羧酸二酐作为酸成分，包含3，3’ - 二甲基_4，4’ - 二氨基联苯或与其对应的二异氰酸酯作为胺成分。(9)根据(1) (8)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，遮光膜的厚度为5 100 μ m。(10)根据(1) (9)中的任一项所述的遮光膜，其特征在于，根据JIS Ζ8741-1997中记载的镜面光泽度测定方法测定的遮光膜的两面的光泽度为40以下。(11) 一种遮光膜，其特征在于，其分别按照以下的所示的含有率包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径O. ΟΓ μπι的黑色填料、和平均粒径O. ΓΙΟ μ m的无机颗粒，且该遮光膜为单层结构。(i)聚酰胺酰亚胺树脂的含有率为55 91重量％ ；(ii)平均粒径(λ ΟΓ μ m的黑色填料的含有率为f 10重量％ ；(iii)平均粒径O. ΓΙΟ μ m的无机颗粒的含有率为8 35重量％。专利技术的效果根据本专利技术的遮光膜，提供一种偏光膜，其为包含聚酰胺酰亚胺树脂、平均粒径O. Oflym的黑色填料、平均粒径O. f 10 μ m的无机颗粒的遮光膜；遮光膜中的聚酰胺酰亚 胺树脂的含有率为55 91重量％、黑色填料的含有率为f 10重量％、无机颗粒的含有率为8^35重量％，因而耐热性、尺寸稳定性、高遮光性、低光泽性的各种性能的平衡优异。即，本专利技术的遮光膜由于含有聚酰胺酰亚胺树脂，因而耐热性、尺寸稳定性优异。另外，由于包含8 35重量％的平均粒径O. ΓΙΟ μ m的无机颗粒，因而低光泽性优异，能够抑制表面和背面、截面、厚度方向上的偏差。另外，由于包含广10重量％的平均粒径O. Oflym的黑色填料，因而遮光性优异。使用本专利技术的遮光膜时，能够容易地制造需要遮光特性的光学材料用途尤其是数码摄像机、手机、车载照像机等的镜头单元上搭载的光圈、快门叶片、投影仪的光圈、光量调整用光圈装置的光圈叶片、光学设备部件、绝缘基板用的防反射层坐寸ο具体实施例方式本专利技术的遮光膜包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：多田谦太，久保绘美，山本佑，
申请(专利权)人：东洋纺株式会社，
类型：
国别省市：