光致变色材料制造技术

本发明专利技术是一种光致变色材料，其特征在于，由通式（1-1）表示的联咪唑化合物形成。（式中，R4和R5各自独立地表示卤素原子或烷基，R1～R3和R6～R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、氟烷基、羟基、烷氧基、氨基、烷基氨基、羰基、烷基羰基、硝基、氰基或芳基。Ar1～Ar4各自独立地表示取代或无取代的芳基。R4可以与R3一起形成缩合的取代或无取代的芳环，R5可以与R6一起形成缩合的取代或无取代的芳环。）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光致变色材料，特别涉及由新型联咪唑化合物形成的光致变色材料。
技术介绍
光致变色材料通常是具有通过照射光而引起异构化反应、使颜色(可见光的透射率)可逆地变化的功能(调光功能)的材料，不仅是光照射前的材料而且光照射后生成的材料也被称为光致变色材料。因此，光致变色材料可用作用于防眩光的眼镜、光学开关、或具有显示/非显示的切换功能的油墨等显示材料。另外，也研究了作为光盘等记录材料、全息照相的应用。光致变色材料所产生的颜色变化通常通过光照射所带来的材料的可逆的化学变 化来体现。作为代表性的光致变色材料，已知有螺吡喃系化合物、螺H恶嗪系化合物、萘并吡喃系化合物、俘精酸酐系化合物和二芳基乙烯系化合物等(例如下述非专利文献I)。另外，近年来也报道了具有高速的光应答性的新结构的化合物(例如下述非专利文献2)。光致变色材料大致分为以下种类显示出伴随着光照射所产生的结构变化由无色变为显色(着色)的被称为正光致变色的现象的材料；相反地，显示出因光照射由显色体(着色体)向无色体变化的被称为负光致变色的现象的材料(逆光致变色材料)。它们中，对于逆光致变色材料，报道了螺苯并吡喃衍生物(专利文献I)、二甲基二氢芘衍生物(专利文献2)、二芳基乙烯衍生物(专利文献3)等数例材料。现有技术文献非专利文献非专利文献I:《光致变色材料的开发》主编市村国宏发行株式会社CMC(pl P80)非专利文献2: Journal of the American Chemical Society131(12)，pp4227-4229 (2009)专利文献专利文献I:日本特开平04-128834号公报专利文献2:日本特开平07-009766号公报专利文献3:日本特开2009-062344号公报
技术实现思路
但是，对于调光功能，要求适合其用途的颜色、显色浓度、显色速度等特性。因此，需要开发出各种种类的衍生物、具有新分子骨架的化合物。因此，需要具有新结构的光致变色材料。本专利技术的目的在于提供一种通过利用光照射或光照射后在遮光下放置来呈现可逆的结构变化(颜色变化)的新结构的光致变色材料。本专利技术人等为了解决上述课题反复进行了认真研究，结果发现全新的光致变色分子。具体而言，本专利技术人等发现了以联咪唑为基本骨架、向通式(1-1)的R4和R5导入大体积的取代基而显示负光致变色的新化合物。该分子显示出在稳定状态或初期状态下为显色体、通过照射可见光而向消色体异构化的光致变色特性(逆光致变色特性)。权利要求1.一种光致变色材料，其特征在于，由下述通式(1-1)表示的联咪唑化合物形成，2.如权利要求I所述的光致变色材料，其特征在于，在所述通式(1-1)中，R4和R5为甲基，该材料由下述通式(1-2)表示，3.如权利要求I所述的光致变色材料，其特征在于，在所述通式(1-1)中，R4与R3—起形成缩合的取代或无取代的苯环，R5与R6 —起形成缩合的取代或无取代的苯环，该材料由下述通式(1-3)表示，4.一种光致变色材料，其特征在于，由下述通式(2-1)表示的联咪唑化合物形成，5.如权利要求4所述的光致变色材料，其特征在于，在所述通式(2-1)中，R24和R25为甲基，该材料由下述通式(2-2)表示，6.一种光致变色材料，其特征在于，由下述通式(3-1)表示的联咪唑化合物形成，7.如权利要求I所述的光致变色材料，其特征在于，在所述通式(3-1)中，R4和R5为甲基，该材料由下述通式(3-2)表示，8.如权利要求I所述的光致变色材料，其特征在于，在所述通式(3-1)中，R4与R3—起形成缩合的取代或无取代的苯环，R5与R6 —起形成缩合的取代或无取代的苯环，该材料由下述通式(3-3)表示，全文摘要本专利技术是一种光致变色材料，其特征在于，由通式(1-1)表示的联咪唑化合物形成。(式中，R4和R5各自独立地表示卤素原子或烷基，R1～R3和R6～R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、氟烷基、羟基、烷氧基、氨基、烷基氨基、羰基、烷基羰基、硝基、氰基或芳基。Ar1～Ar4各自独立地表示取代或无取代的芳基。R4可以与R3一起形成缩合的取代或无取代的芳环，R5可以与R6一起形成缩合的取代或无取代的芳环。)文档编号C07D487/04GK102906215SQ20118002108公开日2013年1月30日 申请日期2011年7月8日 优先权日2010年7月9日专利技术者堀野建, 鸨田敦大, 大嶋丰嗣 申请人:三菱瓦斯化学株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀野建，鸨田敦大，大嶋丰嗣，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：
国别省市：