防伪元件、具有这种防伪元件的有价文件和这种防伪元件的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种防伪元件(1)，其用于防伪纸、有价文件等，包括具有被分割成多个像素(4)的表面区域(3)的载体(8)，所述多个像素(4)在各情况下包括至少一个光学活性小面(5)。根据本发明专利技术，所述多个像素(4)分别包括数个光学活性小面(5)，所述光学活性小面对于每个像素(4)具有相同的取向，并且所述小面(5)取向成使得表面区域(3)能够被观察者感觉为相对于其实际三维形状向前和/或向后突出的表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于防伪纸、有价文件等的防伪元件，涉及具有这种防伪元件的有价文件，并且涉及用于制造这种防伪元件的方法。
技术介绍
待保护物体常常设置有防伪元件，其允许检验物体的真实性，同时用作对未授权复制的保护。待保护的物体例如是防伪纸、身份证件和有价文件(例如钞票、芯片卡、护照、身份证、身份卡、股票、投资性证券、契约、收据、支票、入场券、信用卡、健康卡等等)以及例如标签、封条、包装件等产品验证元件。 在防伪元件的领域中特别普遍并且为实际上平坦的箔片给予三维外观的技术涉及各种形式的全息术。然而，这种技术对于防伪特征特别是在钞票上的使用具有一些缺点。一方面，全息图的三维图示的质量在很大程度上取决于照明条件。全息图的图示常常很难识别，特别是在漫射照明中。此外，全息图具有这样的缺点，即它们同时存在于日常生活中的许多地方，因此，它们作为防伪特征的特殊地位正在消失。
技术实现思路
在这些基础上，本专利技术基于避免现有技术的缺点的目的，并且特别提供一种用于防伪纸、有价文件等的防伪元件，其在作为防伪元件的极其扁平构造的同时，获得良好的三维外观。根据本专利技术，该目的通过一种用于防伪纸、有价文件等的防伪元件得以实现，所述防伪元件具有具有被分割成多个像素的表面区域的载体，所述多个像素分别包括至少一个光学活性小面，其中大部分像素分别具有对于每个像素取向相同的数个光学活性小面，并且所述小面取向成使得所述表面区域能够被观察者感觉为相对于其实际空间形状突出和/或后退的区域。这使得能够提供极其扁平的防伪元件，其中例如小面的最大高度不大于IOymdM是仍然在观察时生成非常好的三维印象。因此，能够借助于(肉眼上)平坦的表面区域为观察者模拟出具有强烈凸出外观的区域。以这种方式基本上能够生成可感觉区域的任意成形的三维构造。因此能够模拟出人物、物体、图形(motif)或者具有三维外观的其它物体。三维印象在这里总是相对于表面区域的实际空间形状。因此，表面区域自身可以具有扁平构造或者具有弯曲的构造。然而，总是相对于该基底区域形状获得三维外观，以便对于观察者来说，表面区域于是不呈现出与表面区域自身一样的平坦或者弯曲。能够被感觉为突出和/或后退区域的表面区域在这里应理解为特别是指表面区域能够被感觉为连续地凸出的区域。因此，所述表面区域能够被感觉为例如具有偏离该表面区域的弯曲形状或者实际空间形状的明显凸起的区域。通过本专利技术的防伪元件，因此能够通过模拟相应的反射行为而模仿出例如凸出的表面。表面区域特别是连续的表面区域。然而，表面区域还可以具有间隙或者甚至包括不连续的局部部位。这样，表面区域能够与其它防伪特征交织。其它防伪特征可以涉及例如真彩色全息图，以便观察者能够一起感觉到真彩色全息图和通过本专利技术的表面区域提供的突出和/或后退区域。特别是，所述小面的取向选择成使得所述表面区域能够被观察者感觉为非平坦的区域。分别具有对于每个像素来说取向相同的数个光学活性小面的大部分像素可以为像素数量的51%。然而，所述大部分也可以大于像素数量的60%、70%、80%，或者特别大于90%。此外，也可以是表面区域的全部像素都分别具有取向相同的数个光学活性小面。 光学活性小面可以构造成反射性和/或透射性小面。所述小面可以形成在所述载体的表面中。此外，小面也可以形成在载体的上侧以及下侧，并且彼此相对。在该情况下，小面优选构造成具有折射效果的透射性小面，其中载体自身当然也是透明或者至少半透明的。小面的尺寸和取向于是选择成特别使得区域能够被观察者感觉为相对于载体的上侧和/或下侧的实际空间形状突出和/或后退。载体可以构造成层叠的复合物。在该情况下，小面可以位于层叠复合物内的界面上。因此，小面可以例如被压印到位于载体箔片上的压印漆中，接下来被金属化，并嵌入另一漆层(例如保护漆或者粘结漆)中。特别地，在本专利技术的防伪元件中，小面可以构造成嵌入式小面。特别地，所述光学活性小面构造成使得所述像素没有光学衍射效果。光学活性小面的尺寸可以在I μ m-300 μ m之间,优选在3 μ m-100 μ m之间,特别优选在5 μ m-30 μ m之间。特别地,优选存在大致射线光学反射行为或者大致射线光学折射效果O像素的尺寸如此选择使得像素的面积比表面区域的面积小至少一个数量级，优选小至少两个数量级。表面区域的面积和像素的面积在这里应理解为特别指沿正交于表面区域的宏观表面的方向投射到一平面时的相应面积。特别地，像素的尺寸可以选择成使得像素的尺寸至少在一个方向上比表面区域的面积的尺寸小至少一个数量级，优选小至少两个数量级。像素的最大延伸度优选处于5 μ m-5mm之间，优选处于10 μ m-300 μ m之间，特别优选处于20 μ m-100 μ m之间。像素形状和/或像素尺寸可以在防伪元件内变化，但并不是必须的。每个像素的小面的光栅周期(小面可以形成周期性的或者非周期性的光栅，例如锯齿光栅)优选在I μ m-300 μ m之间或者3 μ m-300 μ m之间，优选在3 μ m-100 μ m之间或者5 μ m-100 μ m之间，特别优选在5 μ m-30 μ m之间或者10 μ m-30 μ m之间。光栅周期选择成特别使得每个像素包含至少两个相同取向的小面，并且衍射效果实际上不再对入射光起作用(例如从380nm-750nm的波长范围)。因为没有或者没有实际上相关的衍射效果发生，小面可以称为无色差小面，或者像素称为无色差像素，这引起方向性地无色差的反射。防伪元件因此对于通过像素的小面存在的光栅结构具有无色差反射性。小面优选构造成大致平坦的面积组元(area element)。小面构造成大致平坦的面积组元的所选表述，考虑了由于制造原因在实践中通常从来不能制造完全平坦的面积组元这一事实。小面的取向特别由它们的倾斜角和/或它们的方位角确定。小面的取向当然也可以由其它参数确定。特别地，所涉及的参数是两个彼此正交的参数，比如相应小面的法向矢量的两个分量。在小面上，至少可以在某些区域中形成反射性或者反射增强涂层(特别是金属或者高折射性涂层)。反射性或者反射增强涂层可以是例如气相沉积的金属涂层。作为涂层材料，可以特别地采用铝、金、银、铜、钯、铬、镍和/或钨以及它们的合金。替代地，反射性或者反射增强涂层可以由具有高折射率的材料的涂层形成。反射性或者反射增强涂层可以特别构造成部分透射性涂层。 再一实施例中，可以在小面上至少在某些区域中形成颜色偏移涂层。颜色偏移涂层可以特别地构造成薄膜系统或者薄膜干涉涂层。这里可以实现例如金属层-介电层-金属层的层序或者三个介电层的层序，其中中间层的折射率低于其它两个层的折射率。作为介电材料，可以采用例如ZnS、SiO2、Ti02/MgF2。颜色偏移涂层也可以构造成干涉滤光器、通过等离子共振效果具有选择性透射的薄半透明金属层、纳米颗粒等。颜色偏移层也可以特别实施为液晶层、衍射性浮雕结构或者子波长光栅。由反射层、介电层、吸收层(以该顺序形成在小面上)构成的薄膜系统也是可能的。薄膜系统加小面如上所述可以不仅构造成小面/反射层/介电层/吸收层，而且还构造成小面/吸收层/介电层/反射层。其顺序特别取决于将从哪侧观察防伪元件。此夕卜，当薄膜系统加小面构造成例如吸收层/介电层/吸收层/小面或者吸收层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C福斯，M拉姆，A劳赫，W考勒，
申请(专利权)人：德国捷德有限公司，
类型：
国别省市：