一种基板清洗设备及基板清洗系统技术方案

本发明专利技术实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统，涉及显示器制造领域，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。该基板清洗设备包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器。其中，清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；补液单元，用于存储清洗液向所述清洗单元补充清洗液；控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示器制造领域，尤其涉及一种基板清洗设备及基板清洗系统。
技术介绍
在TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的制造过程中，清洗设备需要对进行光刻技术前的基板(即涂覆光刻胶之前的基板)进行清洗，以去除基板表面的杂质。当前基板清洗的过程中，往往采用两台基板清洗设备交替工作的方式进行基板清洗。在两台基板清洗设备上分别设定好清洗周期、清洗数量后，两台设备轮流定时进行重 置。其中，“重置”是指基板清洗设备排出废液，重新向清洗箱加入清洗液并加热的过程。清洗液由洗涤剂和水混合而成，清洗液温度通常需要达到43°C。但是，在实际的基板清洗过程中，第一台基板清洗设备先进行清洗，基板位于基板清洗设备上面的流水线上，基板清洗设备通过内部设置的抽水装置将清洗液抽上去，再由基板清洗设备的喷洒装置向流水线上的基板喷洒清洗液，以清洗基板。随着流片的进行(“流片”是指基板通过流水线的运输经过基板清洗设备清洗的过程)，基板会带走部分清洗液，导致在清洗基板的数量还没有达到第一台基板清洗设备预设数量时，清洗液就已经低于液位底线。这时，第一台基板清洗设备需要将清洗液补充满并且重新重置。第一台基板清洗设备进行重置时，第二台基板清洗设备进行基板清洗。当第一台基板清洗设备重置完成后，再切换回第一台基板清洗设备进行基板清洗。这时，由于第一台基板清洗设备已经清洗了一定数量的基板，因此，当第一台基板清洗设备达到设定好的清洗数量后，第一台基板清洗设备会排掉所有的清洗液，补充新的清洗液，这一过程造成了清洗液的极大浪费，同时重置会浪费大量时间。此外，若第一台基板清洗设备和第二台基板清洗设备同时重置，就会导致死机，则流水线上没有基板清洗设备进行工作，影响清洗效率。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案—方面，本专利技术实施例提供一种基板清洗设备，包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给所述清洗液。所述控制器，具体用于当所述清洗单元中所述清洗液的液面高度低于预设高度时，根据已清洗的基板的数量和预设数量的差值，调节所述补液控制装置，以使得所述补液单元向所述清洗单元补给相应的所述清洗液。所述控制器还用于，控制所述补液控制装置，隔断清洗液在所述清洗单元与补液单元之间的流动。所述清洗单元和所述补液单元腔体相通；所述补液控制装置包括设置在所述清洗单元和所述补液单元之间的可移动的隔 液门。所述隔液门，具体用于通过所述隔液门的上升或下降，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。所述清洗液是由洗涤剂和水混合而成的。所述基板清洗设备，还包括与所述清洗单元均连接的洗涤剂管道、注水管道、排水管道以及洗液回流管道，其中，所述洗涤剂管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述洗涤剂；所述注水管道，用于向所述清洗单元和补液单元内注入所述水；所述排水管道，用于排出所述清洗单元内的所述清洗液；所述洗液回流管道，用于使得进行基板清洗后的所述清洗液回流入所述清洗单J Li ο所述基板清洗设备，还包括设置于所述清洗单元中的第一加热装置和第一液位传感器，其中，所述第一加热装置，用于加热所述清洗单元内的所述清洗液；所述第一液位传感器，用于检测所述清洗单元内的所述清洗液的液面高度。所述基板清洗设备，还包括设置于所述补液单元的第二加热装置和第二液位传感器，其中，所述第二加热装置，用于加热所述补液单元内的所述清洗液；所述第二液位传感器，用于检测所述补液单元内的所述清洗液的液面高度。一方面，本专利技术实施例提供一种基板清洗系统，包括至少两台具有上述任意特征的基板清洗设备。本专利技术实施例所提供的基板清洗设备及基板清洗系统，通过设置相互连通的清洗单元和补液单元，设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置，与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器，其中，清洗单元，用于存储清洗液，补液单元，用于存储清洗液，控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液由补液单元流入清洗单元内。通过该方案，由于在清洗单元与补液单元之间设置了补液控制装置，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，同时，由于两台基板清洗设备都是在清洗完预设数目的基板之后才进行重置，重置时间可控，防止由于补充清洗液发生多次重置，造成两台基板清洗设备可能会同时进行重置导致死机，影响设备正常工作。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本专利技术实施例提供的基板清洗设备结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的基板清洗设备工作流程图一；图3为本专利技术实施例提供的基板清洗设备工作流程图二 ；图4为本专利技术实施例提供的基板清洗设备工作流程图三。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种基板清洗设备，包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置； 与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。示例性的，本专利技术实施例提供一种基板清洗设备1，如图I所示，包括相互连通的清洗单元10、补液单元11，设置于清洗单元10与补液单元11之间的，用于控制液体流动的补液控制装置12，以及与补液控制装置12连接，控制补液控制装置动作的控制器13;清洗单元10，用于存储清洗液对基板进行清洗。进一步地，基板清洗设备1，还包括与该清洗单元10均连接的洗涤剂管道14、注水管道15、排水管道16以及洗液回流管道17，其中，洗涤剂管道14，用于向清洗单元10和补液单元11内注入洗涤剂；注水管道15，用于向清洗单元10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，其特征在于，包括：相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘聪聪，金相旭，张建政，徐涛，程晋燕，朱建涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：