一种基板清洗设备及基板清洗系统技术方案

本发明专利技术实施例提供一种基板清洗设备及基板清洗系统，涉及显示器制造领域，能够适应性通过补液单元向清洗单元补给清洗液，节省清洗液，缩短基板清洗设备重置的时间，避免流水线上由于两台基板清洗设备同时重置而引起的死机问题。该基板清洗设备包括相互连通的清洗单元和补液单元；设置于清洗单元和补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与补液控制装置连接，控制补液控制装置动作的控制器。其中，清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；补液单元，用于存储清洗液向所述清洗单元补充清洗液；控制器，通过控制补液控制装置的动作，控制清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示器制造领域，尤其涉及一种基板清洗设备及基板清洗系统。
技术介绍
在TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的制造过程中，清洗设备需要对进行光刻技术前的基板(即涂覆光刻胶之前的基板)进行清洗，以去除基板表面的杂质。当前基板清洗的过程中，往往采用两台基板清洗设备交替工作的方式进行基板清洗。在两台基板清洗设备上分别设定好清洗周期、清洗数量后，两台设备轮流定时进行重 置。其中，“重置”是指基板清洗设备排出废液，重新向清洗箱加入清洗液并加热的过程。清洗液由洗涤剂和水混合而成，清洗液温度通常需要达到43°C。但是，在实际的基板清洗过程中，第一台基板清洗设备先进行清洗，基板位于基板清洗设备上面的流水线上，基板清洗设备通过内部设置的抽水装置将清洗液抽上去，再由基板清洗设备的喷洒装置向流水线上的基板喷洒清洗液，以清洗基板。随着流片的进行(“流片”是指基板通过流水线的运输经过基板清洗设备清洗的过程)，基板会带走部分清洗液，导致在清洗基板的数量还没有达到第一台基板清洗设备预设数量时，清洗液就已经低于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，其特征在于，包括：相互连通的清洗单元和补液单元；设置于所述清洗单元和所述补液单元之间的，用于控制液体流动的补液控制装置；与所述补液控制装置连接，控制所述补液控制装置动作的控制器；其中，所述清洗单元，用于存储清洗液对所述基板进行清洗；所述补液单元，用于存储所述清洗液向所述清洗单元补充清洗液；所述控制器，通过控制所述补液控制装置的动作，控制所述清洗液在所述补液单元和所述清洗单元之间的流动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘聪聪，金相旭，张建政，徐涛，程晋燕，朱建涛，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：