磁转子和具有磁转子的旋转泵制造技术

本发明专利技术涉及磁转子和具有磁转子的旋转泵。一种用于旋转泵（2）的磁转子（1），其中所述转子（1）在用于输送流体（3）的旋转泵（2）的定子（5）内在泵壳体（4）中可以磁性非接触的方式受到驱动并且处于悬浮状态并且所述转子（1）借助于包括氟化烃的外封装（6）被封装。根据本发明专利技术，所述转子（1）包括被所述封装（6）内的金属护套（7）包护的永磁体（8），所述金属护套（7）包含选自包括钽、铌、锆、钛、铪、金、铂、钯、锇、铱、钌和铑的元素组的至少一种金属。本发明专利技术还涉及设备部件，特别是具有磁转子（1）的旋转泵（2）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于旋转泵的磁转子以及设备部件，特别是涉及一种具有根据独立权利要求I和7的前序部分所述的磁转子的旋转泵。
技术介绍
磁悬浮式旋转泵在一些特定应用
中已得到应用，在这些特定应用
中，叶轮在优选完全封闭的泵壳体内部受到磁力的作用以浮动方式处于悬浮状态并且在由常常被布置在泵壳体外部的定子产生的旋转场的作用下受到驱动。这些泵对于以下这些应用而言是特别有利的，在所述这些应用中，要进行输送的流体不可以受到污染，例如用于输送生物液体例如血液或者非常纯的液体例如超纯水。 另外，这样的旋转泵适合用于输送在短时间内会对机械轴承造成损伤的具有侵蚀性的液体。因此，这样的旋转泵特别优选地用于半导体工业中，例如在处理半导体晶片的过程中用于输送在机械方面具有侵蚀性的液体。化学机械抛光工艺(CMP，化学机械平整化)在这里可被称作一个重要实例。在这些工艺中，典型地由非常细的固体颗粒和液体组成的悬浮液，通常被称作浆料，被施加到旋转晶片上面并且在那里用于对非常细微的半导体结构进行抛光或研磨。另一个实例是将光致抗蚀剂施加到晶片上面或者对计算机硬盘表面进行粗糙化以防止读写头在附着力例如范德瓦尔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于旋转泵（2）的磁转子，其中所述转子能够在用于输送流体（3）的旋转泵（2）的定子（5）内在泵壳体（4）中以磁性非接触的方式受到驱动并且处于悬浮状态并且所述转子借助于包括氟化烃的外封装（6）被封装，其特征在于，所述转子包括被所述封装（6）内的金属护套（7）包护的永磁体（8），所述金属护套（7）包含选自包括钽、铌、锆、钛、铪、金、铂、钯、锇、铱、钌和铑的元素组的至少一种金属。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：R舍布，T埃贝勒，N巴尔莱塔，
申请(专利权)人：莱维特朗尼克斯有限责任公司，
类型：发明
国别省市：