【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及放射紫外光的荧光灯，特别是涉及发光波长在200 250nm附近的荧光灯。
技术介绍
紫外线用于各种处理对象物的改性或者通过利用了光化学反应的处理而制造物质等场合。并且，在例如用紫外线对粘合剂等树脂进行硬化处理或者印刷基板等的曝光处理中，用到了 200nm左右的紫外光。此外，在近来的半导体制造工序中，提升低电容率膜(Iowk膜)的机械强度的工序也用到了同样波长范围的紫外光。 近年来，在上述半导体的低电容率膜(Iowk膜)的制造中，随着装置的高集成化，对于精密布线和多层布线结构的需要不断提高，出于降低电力消耗的同时增加装置的处理速度的目的，为减少层间容量，开始使用low-k膜材料。因此，随着材料电容率的减少，材料的机械强度(弹性率，或者EM)减少的问题不容忽视，出于增大机械强度的目的，开始将之前通过热(退火)进行的硬化处理，改为通过紫外线照射进行硬化处理，从而改善强度低下的问题。并且，对于用于上述的改善low-k膜强度的紫外光，如专利文献I (特开2009-289996号公报)所记载，包括波长200nm左右光线的紫外线是有效的，特别是200 260nm...
【技术保护点】
一种荧光灯，包括：由石英玻璃制成、内部封入含有氙气的放电气体的发光管；配置在该发光管外部的一对电极；和形成于所述发光管的内表面的荧光体层，其特征在于：所述荧光体层包括用通式(Y1？x，Prx)Al3B4O12表示的荧光体。
【技术特征摘要】
...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。