【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于温室无土栽培
，尤其涉及植物的气雾栽培方法及系统。
技术介绍
随着现代农业科技的发展，各国采取“无土栽培技术”进行无公害蔬菜或花卉等植物的种植，主要分为两大类有基质栽培技术和无基质栽培技术。气雾栽培属于无基质栽培技术，它是利用喷雾装置将营养液雾化为小雾滴状，直接喷射到植物根系以提供植物生长所需的水分和养分的一种无土栽培技术。气雾栽培是不用土壤或基质来栽培植物的一项农业高新技术，其以人工创造植物根系环境取代了土壤环境，可有效解决传统土壤栽培中难以解决的水分、空气、养分供应的矛盾，使作物根系处于 最适宜的环境条件下，从而发挥植物的增长潜力，使植物生长量、生物量得到大大提高。但是现有的气雾栽培技术在应用过程中发现存在如下的缺点I、植物对营养液的吸收比较慢，吸收率比较低；2、营养液容易在装置和管道内结垢，时间长会引起管路堵塞，从而最终影响喷雾效果;3、一旦水源和营养液受到病菌污染，会造成连锁的植物病毒害反应。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种不宜导致管壁或装置积垢以及能够提高植物对营养液吸收速度和吸收率的植物的气雾栽培方法，以克服现有...
【技术保护点】
一种植物的气雾栽培方法，其特征在于：所述植物的根系位于栽培箱中，其栽培步骤为：A、先将营养液通过3000？5000GS的磁场进行磁化处理；B、再将营养液用1.7MHz？2.4MHz超声波进行雾化处理，形成超声波营养液气雾；C、最终将超声波营养液气雾输送到植物的根系周围让根系吸收。
【技术特征摘要】
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