应用于步进光刻设备中的阻尼系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，包括光学元件、内部支架、第一阻尼环和第二阻尼环；光学元件固定在内部支架上；内部支架设置于第一阻尼环上，第一阻尼环设置于第二阻尼环上；第二阻尼环的顶部设有环形凸起，第一阻尼环的底部设有容纳环形凸起的环形槽，环形凸起与环形槽之间形成间隙。本实用新型专利技术通过在第一阻尼环的凹槽与第二阻尼环的凸起之间的间隙内填充有粘性阻尼流体；如果第二阻尼环相对于第一阻尼环移动，那么阻尼流体流过间隙且对此的阻力提供第二阻尼环相对于第一阻尼环的移动的阻尼，光学元件相对于其安装到的部位的运动也被阻尼；以使光学元件在生产过程中具有更强的抗震能力，来保证光刻精度的提高。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

应用于步进光刻设备中的阻尼系统
本技术涉及ー种应用于步进光刻设备中的阻尼系统。背景技木通常，在エ业持续发展的推动下，用于提供能够生产愈来愈小的线宽特征的步进光刻设备也在不断的发展中。随着平板显示的发展，在线宽减小的同时，要求光刻的基板却越来越大，提高步进曝光速度来满足这种发展是在必行，然而，这会产生部分问题，具体来讲，步进速度的提高，会导致设备各运动部件的震动加大，这样投影系统中的光学元件位置误差导致投影到基板上的图案的位置误差，轻微的导致图像模糊，严重的导致基板上被投影的图像产生移动。因此，需要改善在提高步进速度的同时，保证投影系统中的光学元件的定位精度。 在此之前的投影系统中的光学元件的定位精度已经通过提供具有加速度计/检波器反馈的伺服机构来提高，他们保证即使投影系统的壳体被绕动(例如震动被传输到投影系统中)，光学元件也能保持大致静止。然而，这样的配置，在高速步进运动中，不能保证图形的套刻精度。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，以解决上述技术问题。为达到以上目的，本技术采用如下技术方案一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，包括光学元件、内部支架、第一阻尼环和第二阻尼环；光学元件固定在内部支架上；内部支架设置于第一阻尼环上，第一阻尼环设置于第二阻尼环上；第二阻尼环的顶部设有环形凸起，第一阻尼环的底部设有容纳环形凸起的环形槽，环形凸起与环形槽之间形成间隙。本技术进ー步的改进在于间隙包括环形凸起与环形槽的两个内壁之间形成的第一侧环形间隙和第二侧环形间隙。本技术进ー步的改进在于第一侧环形间隙和第二侧环形间隙通过贯穿环形凸起的通孔连通。本技术进ー步的改进在于第一侧环形间隙和第二侧环形间隙内充有阻尼流体。本技术进ー步的改进在于第一阻尼环和第二阻尼环之间设置有捕获井。与现有技术相比，本技术具有以下优点本技术一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，通过将光学元件安装于内部支架上后，设置于第一阻尼环和第二阻尼环构成的阻尼系统上；第一阻尼环的凹槽与第二阻尼环的凸起之间的间隙内填充有粘性阻尼流体；如果第二阻尼环相对于第一阻尼环移动，那么粘性阻尼流体流过间隙且对此的阻力提供第二阻尼环相对于第一阻尼环的移动的阻尼；通常这样被称为压膜阻尼；通过该压膜阻尼，光学元件相对于其安装到的部位的运动也被阻尼；以使光学元件在生产过程中具有更强的抗震能力，来保证光刻精度的提高。附图说明图I为本技术的剖视图；图2为本技术的俯视图。具体实施方式以下结合附图对本技术做进ー步详细描述。图I和图2分别地显示出光学元件的支架的剖视图和俯视图。如图I和图2所示， 光学元件I固定到内部支架2，该内部支架2支撑着光学元件I。内部支架2连接到包括第一阻尼环3和第二阻尼环4的外部支架。该外部支架通过第二阻尼环4连接到例如投影系统的支撑框架。第一阻尼环3包括环形槽7，环形槽7被配置以容纳来自第二阻尼环4的环形凸起6，在第二阻尼环4的环形凸起6和第一阻尼3的环形槽7之间提供了小间隙5。间隙5包括环形凸起6与环形槽7的两个内壁之间形成的第一侧环形间隙和第二侧环形间隙。间隙5内填充有粘性液体。如果第二阻尼环4相对于第一阻尼环3移动，那么粘性液体流过间隙5且对此的阻力提供第二阻尼环4相对于第一阻尼环3的移动的阻尼。通常这样被称为压膜阻尼。通过该压膜阻尼，光学元件I相对于其安装到的部位的运动也被阻尼。为了防止阻尼流体从支架流出，阻尼环3和4之间的间隙5可以被最小化；另外，捕获井8被设置到第一阻尼环3和第二阻尼环4之间，用来收集逃逸的阻尼流体；间隙5两侧均未封闭时，间隙5两侧均设置捕获井8 ;间隙5的一侧封闭，另ー侧未封闭时,在为封闭一侧设置捕获井8。捕获井8的压カ正常时稍大于间隙5内阻尼流体的压力，当第二阻尼环4相对于第一阻尼环3移动，间隙5内的一侧阻尼流体受压，压カ增大而流入捕获井8，当该侧压カ回复时，捕获井8释放出所捕获的阻尼流体。间隙5的一侧封闭，另ー侧未封闭时，环形凸起6上设有连通环形凸起6两侧阻尼流体的微型通孔，使间隙5封闭ー侧的阻尼流体受压时，通过微型通孔流入另ー侧，进而流入捕获井8中。另外，环形凸起6与环形槽7之间的阻尼间隙5的尺寸确定了光学元件I可达到的运动范围，随着阻尼间隙5増加，阻尼降低，此时可以通过使用具有更高粘性的流体増加阻尼。在选择使用阻尼流体时，期望流体是可以在光刻设备中使用的流体，一般使用具有超低蒸汽压カ和极高表面张カ的而且被除气的液体，这样保证它不在光刻设备内释放污染物。通常使用具有合适的动态粘度的流体。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。权利要求1.一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，包括光学元件(I)、内部支架(2)、第一阻尼环(3)和第二阻尼环⑷；光学元件⑴固定在内部支架(2)上；内部支架(2)设置于第一阻尼环(3)上，第一阻尼环(3)设置于第二阻尼环(4)上；第二阻尼环(4)的顶部设有环形凸起出)，第一阻尼环(3)的底部设有容纳环形凸起￠)的环形槽(7)，环形凸起(6)与环形槽(7)之间形成间隙(5)。2.根据权利要求I所述的ー种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在干，间隙(5)包括环形凸起(6)与环形槽(7)的两个内壁之间形成的第一侧环形间隙和第二侧环形间隙。3.根据权利要求2所述的ー种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，第一侧环形间隙和第二侧环形间隙通过贯穿环形凸起出)的通孔连通。4.根据权利要求2所述的ー种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，第一侧环形间隙和第二侧环形间隙内充有阻尼流体。5.根据权利要求2至4中任一项所述的一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，第一阻尼环(3)和第二阻尼环(4)之间设置有捕获井(8)。专利摘要本技术公开了一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，包括光学元件、内部支架、第一阻尼环和第二阻尼环；光学元件固定在内部支架上；内部支架设置于第一阻尼环上，第一阻尼环设置于第二阻尼环上；第二阻尼环的顶部设有环形凸起，第一阻尼环的底部设有容纳环形凸起的环形槽，环形凸起与环形槽之间形成间隙。本技术通过在第一阻尼环的凹槽与第二阻尼环的凸起之间的间隙内填充有粘性阻尼流体；如果第二阻尼环相对于第一阻尼环移动，那么阻尼流体流过间隙且对此的阻力提供第二阻尼环相对于第一阻尼环的移动的阻尼，光学元件相对于其安装到的部位的运动也被阻尼；以使光学元件在生产过程中具有更强的抗震能力，来保证光刻精度的提高。文档编号G03F7/20GK202661774SQ20122016925公开日2013年1月9日 申请日期2012年4月19日 优先权日2012年4月19日专利技术者彭绍辉 申请人:彩虹(佛山)平板显示有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，包括光学元件(1)、内部支架(2)、第一阻尼环(3)和第二阻尼环(4)；光学元件(1)固定在内部支架(2)上；内部支架(2)设置于第一阻尼环(3)上，第一阻尼环(3)设置于第二阻尼环(4)上；第二阻尼环(4)的顶部设有环形凸起(6)，第一阻尼环(3)的底部设有容纳环形凸起(6)的环形槽(7)，环形凸起(6)与环形槽(7)之间形成间隙(5)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭绍辉，
申请(专利权)人：彩虹佛山平板显示有限公司，
类型：实用新型
国别省市：