对基体进行旋转涂布的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于用液态介质对基体进行旋转涂布的装置，具有转盘(1)和覆盖单元(2)，所述覆盖单元用于在液态介质通过转盘(1)的旋转而实现的散布过程中覆盖所述基体，其中转盘(1)能够与覆盖单元(2)密封地拼装，但其中设有周围设置的通孔，通过所述通孔由覆盖单元(2)和转盘(1)构成的涂布内腔向外连通，其中基体盘(3)贴靠在转盘(1)上，其中，转盘(1)在与基体相面对的侧面上具有至少一个密封件(4)，所述密封件适于相对于转盘(1)气体密封基体盘(3)。

【技术实现步骤摘要】
对基体进行旋转涂布的装置
本专利技术涉及一种用于对基体进行旋转涂布的装置、应用和方法。
技术介绍
由现有技术已知多种不同的用于对基体进行旋转涂布的装置。特别是在半导体技术中已知用于向基体上施加光感漆(Fotolack)的旋转涂布机或旋涂机。这种旋转涂布机或旋涂机也称为“涂层机(Coater)”。晶片或玻璃片或类似部件用作基体。对于这种情况特别可以参考EP1743220A1。在现有技术中记载的用于对基体进行旋转涂布的装置描述了一种旋涂机，所述旋涂机具有可旋转的基体盘，用于水平地放置基体，还具有覆盖单元，用于在通过基体保持件的旋转来散布液态介质的过程中覆盖基体，其中，基体保持件与覆盖单元能够密封地拼装。基体保持件具有周围设置的通孔，经由所述通孔由覆盖单元和基体保持件构成的涂布内腔保持与外部连通，与周围设置的通孔间隔开地设有沿径向对置的壁段，其中在旋转涂布期间通孔相对于壁段发生相对运动。然而，在由现有技术记载的装置中，不存在相互分离的转盘和基体盘。相反，在现有技术中，被称为基体保持件的区域一体地成形。但目前一般较为常见的是，现有技术的基体保持件分成两部分，即一个基体盘和一个转盘，以便能够响本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于用液态介质对基体进行旋转涂布的装置，具有转盘(1)和覆盖单元(2)，所述覆盖单元用于在液态介质通过转盘(1)的旋转而实现的散布过程中覆盖所述基体，其中转盘(1)能够与覆盖单元(2)密封地拼装，但其中设有周围设置的通孔，通过所述通孔由覆盖单元(2)和转盘(1)构成的涂布内腔向外连通，其中基体盘(3)贴靠在转盘(1)上，其特征在于，转盘(1)在与基体相面对的侧面上气体密封。

【技术特征摘要】
2011.06.01 DE 102011050824.4;2011.06.01 DE 2020111.一种用于用液态介质对基体进行旋转涂布的装置，具有转盘(1)和覆盖单元(2)，该覆盖单元用于在液态介质通过所述转盘(1)的旋转而实现的散布过程中覆盖所述基体(9)，其中所述转盘(1)能够与所述覆盖单元(2)密封地拼装，但其中设有周围设置的通孔，通过所述通孔由所述覆盖单元(2)和所述转盘(1)构成的涂布内腔向外连通，其中基体盘(3)贴靠在所述转盘(1)上，其特征在于，在所述基体盘(3)与所述转盘(1)之间设有第一O形密封件(4)及第二密封件(4.1)，所述装置的升降装置(8)设置成能穿过所述转盘(1)和所述基体盘(3)以便将所述基体(9)从所述基体盘(3)上抬起，其中所述升降装置(8)由所述第一O形密封件(4)包围，旋转轴(6)由所述第二密封件(4.1)包围，从而所述基体盘(3)相对于所述转盘(1)气体密封。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：皮尔明·马夫勒，
申请(专利权)人：半太阳能股份有限公司，
类型：发明
国别省市：