本实用新型专利技术公开一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于：包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革，所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部，所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。整个结构的设置可以有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。同时上述复数个块状修饰皮革可充分利用裁切下来的边角料获得，不但使得原有头层皮制成革产品获得更大的经济价值，同时也达到了废弃原料回收再利用的效果。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种皮革，尤其是指一种消除表面痕迹的新型皮革。
技术介绍
皮革的使用文化已存在数千年历史，在现今塑料、橡胶工业等技术发达的情况下依然很难完全被取代。皮革制品大量应用于日常生活中，如皮鞋、包袋及沙发等。而皮革由表皮层及真皮层构成，表皮层纤维结构最为紧密，毛孔也更细密，强度及漓汗性能好，具有天然光滑的表面；而所述真皮层中越靠近表皮层的真皮层纤维结构越紧密，毛孔越细密，强度及漓汗性能越好；越远离表皮层的真皮层纤维结构则越疏松，毛孔越大，强度及漓汗性越差；去除表皮层后的真皮层正反两个表面均为粗糙的纤维结构，必须通过人造覆膜等表面 处理，才能形成光滑表面。一般把包括表皮层和最靠近表皮层的真皮层分割下来作为生产高档皮制品的原料，即所谓的头层皮，用作对强度、漓汗性及外观要求较高的高档皮制品，如座垫、沙发等制品；而余下依次分割出的二层、三层等多层革，则作为中低档皮制品。在用头层皮生产高档皮制品时，由于动物原料皮不可避免地留下伤痕、皱痕等原始痕迹，原料皮经过蓝湿革处理过程、鞣革染色过程到制成革，均不能消除表皮层的这些痕迹，只有经过局部表面覆膜、填色等处理材料遮掩，但经过上述工序则使得表皮层局部已不具有天然表皮层的性能，从而降低了用头层皮生产的高档皮制品的质量。本技术专利技术人即针对上述问题，提出了一种新型皮革的设计方案。
技术实现思路
本技术针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种消除表面痕迹的新型皮革，该皮革在有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。为实现上述目的，本技术采用如下之技术方案一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革，所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部，所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。本技术采用上述技术方案后，其有益效果在于通过在皮革本体留有伤痕、皱痕等原始痕迹的位置，去除表皮层和部分真皮层形成复数个凹陷置放部，该凹陷置放部内壁为天然真皮纤维结构，接着在凹陷置放部内注入粘结剂，然后将所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述复数个块状修饰皮革的真皮纤维与上述凹陷置放部内壁的真皮纤维结构充分接触，并通过粘结剂构成粘结剂层固定，进而获得该新型皮革。整个结构的设置可以有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。同时上述复数个块状修饰皮革可充分利用裁切下来的边角料获得，不但使得原有头层皮制成革产品获得更大的经济价值，同时也达到了废弃原料回收再利用的效果。附图说明图I是本技术的局部剖面示意图。具体实施方式以下结合附图与具体实施例来对本技术进行详细说明如图I所示为本技术的一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于包括相同质地的皮革本体I及复数个块状修饰皮革2，所述皮革本体I表面设有复数个凹陷置放部3，所述复数个块状修饰皮革2对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部3中，所述皮革本体I与块状修饰皮革2间设有粘结剂层4。本技术的重点在于，通过在皮革本体I留有伤痕、皱痕等原始痕迹的位置，去除表皮层5和部分真皮层6形成复数个凹陷置放部3，该凹陷置放部3内壁为天然真皮纤维 结构，接着在凹陷置放部3内注入粘结剂，然后将所述复数个块状修饰皮革2对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部3中，所述复数个块状修饰皮革2的真皮纤维与上述凹陷置放部3内壁的真皮纤维结构充分接触，并通过粘结剂构成粘结剂层4固定，进而获得该新型皮革。整个结构的设置可以有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。同时上述复数个块状修饰皮革2可充分利用裁切下来的边角料获得，不但使得原有头层皮制成革产品获得更大的经济价值，同时也达到了废弃原料回收再利用的效果。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术的技术范围作任何限制，故凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。权利要求1.一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革，所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部，所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。专利摘要本技术公开一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革，所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部，所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。整个结构的设置可以有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。同时上述复数个块状修饰皮革可充分利用裁切下来的边角料获得，不但使得原有头层皮制成革产品获得更大的经济价值，同时也达到了废弃原料回收再利用的效果。文档编号C14B7/00GK202643707SQ20122015988公开日2013年1月2日 申请日期2012年4月16日 优先权日2012年4月16日专利技术者曾江勇, 罗丰旭 申请人:福建冠兴皮革有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种消除表面痕迹的新型皮革，其特征在于：包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革，所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部，所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中，所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：曾江勇，罗丰旭，
申请(专利权)人：福建冠兴皮革有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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