一种消除表面痕迹的新型皮革制造技术

技术编号:8174998 阅读:173 留言:0更新日期:2013-01-08 20:34
本实用新型专利技术公开一种消除表面痕迹的新型皮革,其特征在于:包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革,所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部,所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中,所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。整个结构的设置可以有效消除表皮层的伤痕、皱痕等原始痕迹的同时保持原有天然表皮层的性能。同时上述复数个块状修饰皮革可充分利用裁切下来的边角料获得,不但使得原有头层皮制成革产品获得更大的经济价值,同时也达到了废弃原料回收再利用的效果。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种皮革,尤其是指一种消除表面痕迹的新型皮革
技术介绍
皮革的使用文化已存在数千年历史,在现今塑料、橡胶工业等技术发达的情况下依然很难完全被取代。皮革制品大量应用于日常生活中,如皮鞋、包袋及沙发等。而皮革由表皮层及真皮层构成,表皮层纤维结构最为紧密,毛孔也更细密,强度及漓汗性能好,具有天然光滑的表面;而所述真皮层中越靠近表皮层的真皮层纤维结构越紧密,毛孔越细密,强度及漓汗性能越好;越远离表皮层的真皮层纤维结构则越疏松,毛孔越大,强度及漓汗性越差;去除表皮层后的真皮层正反两个表面均为粗糙的纤维结构,必须通过人造覆膜等表面 处理,才能形成光滑表面。一般把包括表皮层和最靠近表皮层的真皮层分割下来作为生产高档皮制品的原料,即所谓的头层皮,用作对强度、漓汗性及外观要求较高的高档皮制品,如座垫、沙发等制品;而余下依次分割出的二层、三层等多层革,则作为中低档皮制品。在用头层皮生产高档皮制品时,由于动物原料皮不可避免地留下伤痕、皱痕等原始痕迹,原料皮经过蓝湿革处理过程、鞣革染色过程到制成革,均不能消除表皮层的这些痕迹,只有经过局部表面覆膜、填色等处理材料遮掩,但经过上述工序则使得表皮层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消除表面痕迹的新型皮革,其特征在于:包括相同质地的皮革本体及复数个块状修饰皮革,所述皮革本体表面设有复数个凹陷置放部,所述复数个块状修饰皮革对应嵌入置放于上述复数个凹陷置放部中,所述皮革本体与块状修饰皮革间设有粘结剂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾江勇罗丰旭
申请(专利权)人:福建冠兴皮革有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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