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带按摩的纳米溢香舒适鞋垫制造技术

技术编号:8167113 阅读:119 留言:0更新日期:2013-01-08 13:16
本实用新型专利技术提供兼具有优秀按摩功能和高透气性的带按摩的纳米溢香舒适鞋垫,包括薄片状的衬底,衬底具有位于最上方的顶面,所述衬底具有向下延伸的凸台,该凸台的截面面积随着远离衬底顶面而逐渐减小,该凸台具有平整的底面,衬底和凸台由具有弹性和香气的纳米材料一体成型,凸台上方的衬底中设有凹坑,该凹坑的截面面积随着远离衬底顶面而逐渐减小,相邻凹坑之间的间距相等,相邻凹坑之间的衬底顶面设有凸粒,凸粒截面面积小于凹坑截面面积,衬底之中具有从凸台底面贯通到凹坑底面的透气孔。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及鞋垫,尤其涉及兼具有按摩和透气功能的鞋垫。
技术介绍
目前已有的具备透气和按摩功能的鞋垫,均是通过贯通其上下表面的透气孔来实现透气的理想功能,由于鞋垫承受人体的全部重量,其上下表面在挤压下会挤出脚底的绝大部分空气,而脚底则会完全覆盖在鞋垫上导致透气孔被脚底完全堵塞,从而失去应有的透气功能。并且因为鞋垫承受人体的全部重量,在日积月累的挤压下鞋垫容易变形被踩平,使按摩效果降低,而且现有鞋垫容易打滑,尤其是脚底容易出汗的人,鞋内环境更加潮湿,脚底在鞋垫上打滑从而影响步行的舒适性。
技术实现思路
为了克服上述现有鞋垫的按摩和透气性能不可靠的缺陷,本技术提供兼具有优秀按摩功能和高透气性的带按摩的纳米溢香舒适鞋垫。本技术所提供的带按摩的纳米溢香舒适鞋垫,包括薄片状的衬底,衬底具有位于最上方的顶面,所述衬底具有向下延伸的凸台,该凸台的截面面积随着远离衬底顶面而逐渐减小,该凸台具有平整的底面,衬底和凸台由具有弹性和香气的纳米材料一体成型,凸台上方的衬底中设有凹坑,该凹坑的截面面积随着远离衬底顶面而逐渐减小,相邻凹坑之间的间距相等,相邻凹坑之间的衬底顶面设有凸粒,凸粒截面面积小于凹坑截面面积本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带按摩的纳米溢香舒适鞋垫,包括薄片状的衬底(1),衬底(1)具有位于最上方的顶面(2),其特征在于:所述衬底(1)具有向下延伸的凸台(3),该凸台(3)的截面面积随着远离衬底顶面(2)而逐渐减小,该凸台(3)具有平整的底面(5),衬底(1)和凸台(3)由具有弹性和香气的纳米材料一体成型,凸台(3)上方的衬底中设有凹坑(4),该凹坑(4)的截面面积随着远离衬底顶面(2)而逐渐减小,相邻凹坑(4)之间的间距相等,相邻凹坑(4)之间的衬底顶面(2)设有凸粒(6),凸粒(6)截面面积小于凹坑(4)截面面积,衬底(1)之中具有从凸台底面(5)贯通到凹坑(4)底面的透气孔(7)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:谭建斌陈朱云
申请(专利权)人:陈朱云
类型:实用新型
国别省市:

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