一种地漏改良结构制造技术

技术编号:8158499 阅读:153 留言:0更新日期:2013-01-07 17:55
本发明专利技术公开了一种地漏改良结构,它包括排水槽、地漏及地漏盖板,所述排水槽位于地面以下,排水槽内设置有与下水管连通的地漏,所述地漏上覆设有地漏盖板,且所述地漏盖板上表面在排水槽顶面以下。优选的,所述排水槽为地面装饰排水槽。所述地漏盖板为活动式地漏盖板。本发明专利技术采用大排量暗藏式地漏,装饰效果好,地漏暗藏隐蔽;排水通畅,满足人们大排量排水的要求;并且检修方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种地漏改良结构
技术介绍
传统建筑装饰工程中的地漏明装,施工很简便,也易于饰面排版,但随着市场需求的不断提升,明装地漏的缺点倍加显著,主要体现在装饰效果差,地面排水不畅等质量问题。更具体的讲,现有技术存在以下弊端 I、地漏都是与四周的石材或地砖表面硬收口的明装样式,常常会产生石材或地砖切割 爆边,做法粗糙,地漏四周只能用云石胶或填缝剂进行嵌缝修补,时间一长就会发黑,观感极差。2、地漏的排水量基本都在每分钟50升左右,远不能满足现代人们洗浴排水的要求,经常会出现,卫生问的水溢到卧室的现象,给使用者经济上造成很大损失。3、地漏的密封性差,使用寿命短,难清理。会出现地漏返味,严重的还会碰到污水返溢、小虫爬出等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种地漏改良结构,它的装饰效果好,地漏暗藏隐蔽;排水通畅,满足人们大排量排水的要求;并且检修方便。为达成的专利技术目的,本专利技术的技术方案是 一种地漏改良结构,它包括排水槽、地漏及地漏盖板,所述排水槽位于地面以下,排水槽内设置有与下水管连通的地漏,所述地漏上覆设有地漏盖板,且所述地漏盖板上表面在排水槽顶面以下。优选的,所述排水槽表面还覆设有装饰材料面层,且所述装饰材料面层延伸覆盖至排水槽周围的地面上。优选的,所述地漏盖板为活动式地漏盖板。优选的,所述排水槽下方还设有防水层和地面找平层。本专利技术的优点是采用大排量暗藏式地漏,装饰效果好,地漏暗藏隐蔽;排水通畅,满足人们大排量排水的要求;并且检修方便。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的描述 图I是本专利技术实施例安装使用状态的剖面示意 图2是本专利技术实施例的结构分解示意图。其中1地漏盖板;2装饰材料面层;3防水层;4地面找平层;5下水管;6地漏。具体实施例方式以下结合一优选实施例对本专利技术的技术方案作进一步的说明。如图I、图2所示,该地漏改良结构包括排水槽、地漏6、地漏盖板I。排水槽位于地面以下,排水槽内设置有地漏6,地漏6上方放置有起遮盖作用的地漏盖板I。地漏盖板I位于排水槽内,地漏盖板I上表面低于装饰材料面层表面2。排水槽为地面装饰排水槽,外观表面由石材等地面装饰材料构成,装饰效果好。地漏盖板I为活动式地漏盖板。地漏盖板I采用石材或者不锈钢制作的成品地漏盖板。本实施例的加工施工过程 (I)在楼层施工面上进行地面找平20mm,处理好地面浮灰和墙角坡度。 (2)在地面找平层4上做防水层3,厚I. 5mm,做好下水管5管根部分的防渗漏处理工作。(3)安装装饰材料面层2,同时处理好装饰材料面层2和地漏6之问的收口节点处理措施。(4)工厂加工成品活动式地漏盖板1,工厂排版制作好排水孔,并将活动式地漏盖板I直接放置在地面排水槽内。应当指出,对于经充分说明的本专利技术来说,还可具有多种变换及改型的实施方案,并不局限于上述实施方式的具体实施例。上述实施例仅仅作为本专利技术的说明,而不是限制。总之,本专利技术的保护范围应包括那些对于本领域普通技术人员来说显而易见的变换或替代以及改型。权利要求1.一种地漏改良结构,其特征在于它包括排水槽、地漏(6)及地漏盖板(I),所述排水槽位于地面以下,排水槽内设置有与下水管(5)连通的地漏¢),所述地漏(6)上覆设有地漏盖板(I),且所述地漏盖板(I)上表面在排水槽顶面以下。2.根据权利要求I所述的地漏改良结构,其特征在于所述排水槽表面还覆设有装饰材料面层(2 ),且所述装饰材料面层延伸覆盖至排水槽周围的地面上。3.根据权利要求I或2所述的地漏改良结构,其特征在于所述地漏盖板(I)为活动式地漏盖板。4.根据权利要求I或2所述的地漏改良结构,其特征在于所述排水槽下方还设有防水层(3)和地面找平层(4)。全文摘要本专利技术公开了一种地漏改良结构,它包括排水槽、地漏及地漏盖板,所述排水槽位于地面以下,排水槽内设置有与下水管连通的地漏,所述地漏上覆设有地漏盖板,且所述地漏盖板上表面在排水槽顶面以下。优选的,所述排水槽为地面装饰排水槽。所述地漏盖板为活动式地漏盖板。本专利技术采用大排量暗藏式地漏,装饰效果好,地漏暗藏隐蔽;排水通畅,满足人们大排量排水的要求;并且检修方便。文档编号E03F5/06GK102852203SQ20121033292公开日2013年1月2日 申请日期2012年9月11日 优先权日2012年9月11日专利技术者吕巍 申请人:苏州柯利达装饰股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种地漏改良结构,其特征在于:它包括排水槽、地漏(6)及地漏盖板(1),所述排水槽位于地面以下,排水槽内设置有与下水管(5)连通的地漏(6),所述地漏(6)上覆设有地漏盖板(1),且所述地漏盖板(1)上表面在排水槽顶面以下。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吕巍
申请(专利权)人:苏州柯利达装饰股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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