洗净液组成物制造技术

本发明专利技术涉及一种洗净液组成物。该洗净液组成物包含碱性化合物A、含氟化合物B、直链型界面活性剂C及水D。根据本发明专利技术的洗净液组成物具有消泡性佳及凝胶物生成量低的优点。本发明专利技术亦提供一种清洗基板的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种洗净液组成物，尤其涉及一种消泡性佳及凝胶物生成量低的洗浄液组成物。
技术介绍
于各式洗浄液的应用范围中，清洗如玻璃的基板一直是重要的课题。附着于玻璃表面的污垢，经过长年的累积而使清洗更加困难，例如玻璃上的油溃经时间的推移，可能产生氧化而使油改质，或是经紫外线、酸雨、加热等因子，而使其更难清除。习知用以清洗基板的洗浄液通常包含碱剂、界面活性剤及溶剂，其中碱剂通常包含碳酸钠或氢氧化钠等强碱或有机胺，溶剂则可选用水溶性溶剂。如日本特开平11-269486中所揭露的洗剂，其包含碱剂、阳离子界面活性剤、非离子界面活性剤及水溶性溶剂，虽有可效清洗玻璃上的油污，但却有消泡性不佳及凝胶物生成量高，造成后续洗净液清除不易的问题。玻璃基板的应用十分广泛，自一般生活、建材到精密电子产品皆可应用，而如何有效清除基板上的油污，且可达到良好消泡性及降低凝胶物生成，俾利后续洗净液清除，已成为本
中的一重要课题。
技术实现思路
本专利技术提供ー种包含优异配方的洗净液组成物，其具有消泡性佳及凝胶物生成量低的优点。因此，本专利技术提供了一种洗净液组成物，其包含碱性化合物⑷；含氟化合物(B)，其具有如式(I)所示的结构，R-A 式(I);直链型界面活性剤(C)，其具有如式(2)所示的结构，R10-0-(EO) a (PO) b-H 式(2);及水(D)。本专利技术亦提供一种清洗基板的方法，其是使用前述的洗净液组成物。本专利技术有关ー种洗净液组成物，其包含碱性化合物⑷；含氟化合物(B)，其具有如式(I)所示的结构，R-A 式⑴；直链型界面活性剤(C)，其具有如式(2)所示的结构，R10-0- (EO) a (PO) b-H 式(2);及水(D)。 根据本专利技术的碱性化合物(A)包含无机碱性化合物(A-I)及/或有机碱性化合物(A-2)。前述各该无机碱性化合物(A-I)或有机碱性化合物(A-2)可単独使用或彼此混合使用。本专利技术所言的无机碱性化合物(A-I)是指pH值大于7的无机物质；于本专利技术的较佳具体例中，该无机碱性化合物(A-I)为碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、硅酸钠、硅酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾、磷酸钠、磷酸钾、磷酸ニ钠、磷酸ニ钾、磷酸三钠或磷酸三钾。上述的无机碱性化合物(A-I)可単独ー种使用或混合多数种使用。本专利技术所言的有机碱性化合物(A-2)是指pH值大于7的有机物质；于本专利技术的较佳具体例中，该有机碱为单こ醇胺、ニこ醇胺、三こ醇胺、甲胺、ニ甲胺、こ胺、ニこ胺、三こ胺、吗啉、环己胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四こ铵或ニ羟こ基三甲基氯化铵(通用名胆碱)。上述的有机碱性化合物(A-2)可単独ー种使用或混合多数种使用。根据本专利技术的含氟化合物(B)具有如式(I)所示的结构， R-A 式(I); 其中R具有如式(3)所示的结构，Rx /R2 R /R、 ο Λ A.C = C R9式(3) R, \ R6其中，R1至 R9 分别独立选自由 H、CH3 > F、CH2F, CHF2, CF3 > CF2CF3 及 CF2CF2CF3 所组成的群。式(3)的碳原子总数较佳为6至12;更佳为6至9。于本专利技术的ー较佳具体例中，R1至R9中至少两者为相同；于本专利技术的另ー较佳具体例中，R1至R9各为不同。于本专利技术的ー较佳具体例中，H R4及R5为CF3 ;R2、R6、R7、R8及R9为F。于本专利技术的另ー较佳具体例中，R1至R7及R9为F ;及R8为CF3。于本专利技术的再ー较佳具体例中，R1至R5及R7为F ;R6为CF2CF3 ;及R8及R9为CF3。于本专利技术的又ー较佳具体例中，R1及R2及R4至R7为F ;R3为CF2CF3 ;及R8及R9为CF30根据本专利技术，A是选自由 H、CH3 > F、CH2F, CHF2, CF3 > CF2CF3^ CF2CF2CF3^ -O (CH2CH2O)m-CH3、-O (CH2) n0H、-O (CH2) n0R 及-OAr 所组成的群；其中m代表I至50的整数；η代表4至20的整数；Ar代表包含P个-CH2X取代基或包含单ー Rb取代基的单环或多环的芳香基；X代表卤素；P代表2至5的整数；/CURb 选自 由 CH2CH20H、NH2、SO3Na本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种洗净液组成物，其包含：碱性化合物A；含氟化合物B，其具有如式1所示的结构，R？A？？？？式1；直链型界面活性剂C，其具有如式2所示的结构，R10？O？(EO)a(PO)b？H？？？？式2；及水D；其中：R具有如式3所示的结构，式3；R1至R9分别独立选自由H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3及CF2CF2CF3所组成的群；A？选自由H、CH3、F、CH2F、CHF2、CF3、CF2CF3、CF2CF2CF3、？O(CH2CH2O)m？CH3、？O(CH2)nOH、？O(CH2)nOR及？OAr所组成的群，m代表1至50的整数；n代表4至20的整数；Ar代表包含p个？CH2X取代基或包含单一Rb取代基的单环或多环的芳香基；X代表卤素；p代表2至5的整数；Rb选自由CH2CH2OH、NH2、SO3Na、？(COOMx)q？？、？T？(CH2)3？N+(CH3)3·I？、所组成的群；Y代表H或甲基；Mx选自由H、Na、K、Li、铵基、四甲铵基、四乙铵基及四丁铵基所组成的群；T代表或U表示氢原子或芳香基；Z代表H或烷基；Rc代表或W代表示H或甲基；s代表1至140的整数；q代表1或2；R10选自由C8至C18的直链烷基、C8至C18的直链烯基、C8至C18的直链酰基及具C8至C12的直链烷基取代的苯基所组成的群；EO代表乙氧基；PO代表丙氧基；a代表1至20的整数；及b代表0至20的整数。FDA00001751160600011.jpg,FDA00001751160600012.jpg,FDA00001751160600021.jpg,FDA00001751160600022.jpg,FDA00001751160600023.jpg,FDA00001751160600024.jpg,FDA00001751160600025.jpg,FDA00001751160600026.jpg...

【技术特征摘要】
2011.06.20 TW 1001215111.一种洗净液组成物，其包含 碱性化合物A ； 含氟化合物B，其具有如式I所示的结构， R-A 式 I ; 直链型界面活性剂C，其具有如式2所示的结构， R10-O-(EO)a(PO)b-H 式 2;及 水D ; 其中 R具有如式3所示的结构，2.根据权利要求I所述的洗净液组成物，其中，R1至R9各不相同。3.根据权利要求I所述的洗净液组成物，其中，R1至R9中至少两者为相同。4.根据权利要求I所述的洗净液组成物，基于碱性化合物A的使用量为100重量份，其中，含氟化合物B的使用量为O. 2至140重量份。5.根据权利要求I所述的洗净液组成物，基于碱性化合物A的使用量为100重量份，其中，直链型界面活性剂C的使用量为I至500重量份。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宇杰，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：