以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，它是一种在印制电路板（PCB）超精细电路的生产制造工艺中，用于除去超细铜线路表面干膜的褪菲林液。它公开了该褪菲林液组合物包括：a）6.0～10.0wt％的脂肪胺，b）0.5～2.0wt％的醇醚类有机溶剂，c）0.05～0.20wt％的缓蚀剂，d）其余为水。其中缓蚀剂选用二取代苯并噻唑，本发明专利技术可以快速除去铜线路表面的菲林，并且不腐蚀铜面，缓蚀效果好，充分保证线路板线路的完整性，提升线路板的品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在印制电路板(PCB)超精细线路的生产工艺过程中，用于快速高效地除去铜线路表面菲林的褪菲林液，该褪菲林液对铜面有良好的缓蚀作用，保证褪膜后线路的完整性。
技术介绍
随着电子产品功能的多元化、轻薄微型化、便携化和低成本的发展要求，对作为电子产品的核心一电路板的制造也提出了更高的要求，在线路制作方面，线路的设计越来越密集，制作越来越精细化，铜导线的线宽/间距(L/S)由100 μ m/100 μ m — 80 μ m/80 μ m—50 μ m/60 μ m — 40 μ m/50 μ m逐渐缩小，甚至出现了更细的超精细线路。精细线路的制作是靠光化学图形转移来实现的，该过程必须要使用附着力强、高解析度的干膜，而精细线路上的高解析度干膜的褪除需要使用性能更高的褪菲林液。 在褪菲林工艺中，业界一般使用无机碱如3 5%氢氧化钠溶液或氢氧化钾溶液。使用无机碱作为褪菲林液价格便宜，一直在线路板制造行业中广泛使用。无机碱褪菲林液的缺点主要有对附着力强的干膜和幼细线路菲林褪除效果差，对高密度幼细间距中菲林无法褪除干净而造成线路间短路；处理时间长，生产效率低；NaOH易氧化和腐蚀铜面，使铜线变薄，在后续工序中容易造成线路变形，影响成品的品质。基于无机碱作为褪菲林液的上述缺点，业界逐渐开发出以有机碱作为主要成分的褪菲林液，并逐步被PCB生产厂家接受并投入使用。专利号为ZL 01808573. 3提到用于大规模集成电路(LSI)和超大规模集成电路(VLSI)等半导体器件的制造工艺中的光刻胶剥离液组合物，包含一乙醇胺、单异丙醇胺等氨基醇化合物，N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等有机溶剂，儿茶酚、间苯二酚、D-木糖醇作为缓蚀剂，其余为水。专利号为ZL200410059458. O提到一种光致抗蚀剂剥离液组合物,在半导体元件和液晶显示元件等的制造工序中，用于剥离在湿蚀刻和干蚀刻工序后残留的光致抗蚀剂。其组合物含有一乙醇胺、二乙醇胺等有机胺化合物；乙二醇一丁醚、二甘醇一丁醚等乙二醇醚化合物；嘌呤、6-氨基嘌呤、6-甲氧基嘌呤等作缓蚀剂，还含有山梨糖醇、甘露醇、木糖醇等与上述嘌呤类物质作为混合缓蚀剂，其余成分为水。这些有机碱和有机溶剂的组合褪膜液能极大提升褪膜性能，但对细线路的保护能力不强，仍然会出现铜线被腐蚀的情况，后续工序的品质仍然得不到保障。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，在印制电路板(PCB)超精细线路的生产工艺过程中，用于快速高效地除去铜线路表面菲林的褪菲林液，并且不腐蚀铜面，保证铜线的厚度，使后续工序不会产生线路变形，保证成品的品质。为了达到这些目的，本专利技术提供一种以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，所述该褪菲林液组合物包含如结构式(I)的二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的有机胺水溶液。本专利技术的技术解决方案是，本专利技术由6. O 10. O wt%的脂肪胺，O. 5 2. O wt%的醇醚类有机溶剂，O. 05 O. 20被％的二取代苯并噻唑作为缓蚀剂，其余为水组成，其中二取代苯并噻唑为现有技术物质，它的结构式是本文档来自技高网...

【技术保护点】
以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，其特征是褪菲林液由6.0～10.0？wt％的脂肪胺，0.5～2.0？wt％的醇醚类有机溶剂，？0.05～0.20wt％的二取代苯并噻唑作为缓蚀剂，其余为水组成，其中二取代苯并噻唑的结构式是：？？式中，R1？=？SH，NH2？？？？？？R2？=？NH2，OCH3，SO3Na，OC2H5。2012103602615100001dest_path_image001.jpg

【技术特征摘要】
1.以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，其特征是褪菲林液由6.O 10. Owt %的脂肪胺，O. 5 2. O wt %的醇醚类有机溶剂，O. 05 O. 20wt%的二取代苯并噻唑作为缓蚀剂，其余为水组成，其中二取代苯并噻唑的结构式是2.根据权利要求I所述的以二取代苯并噻唑作为缓蚀剂的褪菲林液组合物，其特征是作为缓蚀剂的二取代苯并噻唑选自以下的一种或任意两种化合物的组合2_氨基-4-甲氧基苯并噻唑，2-巯基-6-氨基苯并噻唑，2-氨基-6-乙氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶绍明，刘彬云，李卫明，王植材，
申请(专利权)人：广东东硕科技有限公司，
类型：发明
国别省市：