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正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料制造技术

技术编号:8045162 阅读:226 留言:0更新日期:2012-12-06 01:21
本发明专利技术涉及一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,属于纺织面料领域。包括基布(1),基布(1)由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线(3),所述包芯线(3)由蚕丝包覆金属离子纤维形成,所述基布(1)的正反两面均设有提花层(2),所述提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22),所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列,位于正反两面的提花区域(21)和非提花区域(22)交错对称分布。正反交错提花面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域,增强了面料的层次感。所述基布是麻、纱、丝纤维织层,具有凉爽丝滑感觉。且具有抗电磁辐射功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种面料,尤其涉及一种制作服装、玩具的面料,属于纺织面料领域。
技术介绍
提花面料手感柔软舒适,透气性能好,颇受人们的喜爱。现有的提花面料多为单面提花或双面提花,层次感不强。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足,提供一种层次感强的正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料。本专利技术的目的是这样实现的一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,包括基布,所述基布由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯 线,所述包芯线由蚕丝包覆金属离子纤维形成,且所述金属离子纤维呈波浪形,所述基布的正反两面均设有提花层,所述提花层包括若干个提花区域和非提花区域,所述提花区域呈块状,所述提花区域和非提花区域交错排列,位于正反两面的提花区域和非提花区域交错对称分布。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是 I、正反交错提花面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域,增强了面料的层次感。2、由于在经线和若干纬线中嵌置有几根蚕丝包覆金属离子纤维的包芯线,且将蚕丝包覆金属离子纤维的包芯线中的金属离子纤维制成具有记忆性的波浪形,因此,在具有抗电磁辐射的同时又大大提高了面料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正反交错提花凉爽丝滑抗电磁辐射面料,包括基布(1),其特征在于:所述基布(1)由若干经线和若干纬线交织而成,若干经线和若干纬线中嵌置有几根包芯线(3),所述包芯线(3)由蚕丝包覆金属离子纤维形成,且所述金属离子纤维呈波浪形,所述基布(1)的正反两面均设有提花层(2),所述提花层(2)包括若干个提花区域(21)和非提花区域(22),所述提花区域(21)和非提花区域(22)均呈块状且交错排列,位于正反两面的提花区域(21)和非提花区域(22)交错对称分布。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙建良
申请(专利权)人:孙建良
类型:发明
国别省市:

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