保持垫制造技术

技术编号:8025676 阅读:151 留言:0更新日期:2012-11-29 07:23
本发明专利技术提供一种即使大型化仍可确保平坦性,并且可全面安装在保持定盘上的保持垫。保持垫(10)具有在略平坦的保持面(P)的背面侧已进行过抛光处理的胺基甲酸乙酯薄片(2)。在胺基甲酸乙酯薄片(2)的保持面(P)的背面侧是与黏着片(4)的一面贴合。在黏着片(4)中,具黏着性的无支撑胶带(41、42)是以相互邻接地方式配置。在黏着片(4)的另一面是与树脂基材(5)的一面相互贴合。树脂基材(5)的一面及另一面分别为连续面。树脂基材(5)的另一面则与黏着片(6)相互贴合。黏着片(6)具有用以安装至保持定盘的一面。在黏着片(6)中,具黏着性的无支撑胶带(61、62)是以相互邻接地方式配置。保持垫(10)可藉由树脂基材(5)而全面被支撑。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是有关于一种保持垫,特别是有关于一种具有用以保持被研磨物的树脂制的薄片材料的保持垫。
技术介绍
迄今,在透镜、平行平面板、反射镜等光学材料、硅晶圆、硬碟用基板或液晶显示器用玻璃基板等材料中,由于需具有高精度的平坦性,所以使用研磨垫进行研磨加工。通常在研磨加工时,使用同时对被研磨物的双面进行研磨加工的双面研磨机、或分别对被研磨物的单面进行研磨加工的单面研磨机等。以双面研磨机来说,是使被研磨物的双面抵接至分 别贴附在表面平坦的上下定盘的研磨垫上,一边供给含有研磨粒子等的研磨液,一边进行研磨加工。另一方面,单面研磨机则是使被研磨物的一面侧保持在安装于保持定盘的保持垫上,再藉由贴附在研磨定盘上的研磨垫,一边供给研磨液,一边对研磨物的另一面侧进行研磨加工。此时,会有被保持垫所保持的被研磨物在研磨加工进行中产生移动,而损及加工表面的平坦性的情况发生。为了防止被研磨物的移动,会将被研磨物插入至模型(模板,Template)中之后,再进行研磨加工。以被研磨物来说,特别就液晶显示器用玻璃基板而言,伴随着液晶显示器的大型化,玻璃基板亦有大型化的倾向。举例来说,由于对基板厚度1mm、外围尺寸I. 5mX I. 8m的玻璃基板进行研磨加工时,会有难以将玻璃基板等被研磨物插入模型中的问题。因此,无需使用模型,仍能够保持被研磨物,并具高平坦性的大型保持垫实为目前所需。此外,就硅晶圆来说,以提高研磨加工的效率为目的而对复数种材料同时进行研磨加工的技术也正在进步发展中。在此种情况下,也必须将研磨加工所使用的保持垫予以大型化。例如,已开发了单边边长为超过2000mm的矩形或直径超过2000mm的圆形的保持垫。在保持垫中,为了安装至保持定盘,通常会使用具有基材的双面胶带。然而,当藉由单枚的双面胶带将保持垫贴附至保持定盘时,在保持垫与保持定盘间会有夹杂空气或是形成皱纹等问题存在。此外,由于保持垫需要被贴附在保持定盘的正确位置上,且无法再度黏贴,因此贴附作业是非常困难的。为了因应保持垫的大型化,须有单边边长或直径超过2000m的单枚的大型双面胶带。当使用这种大型的双面胶带将保持垫贴附至保持定盘时,会令贴附作业变得更加困难。在此,现状仍是采用将多枚双面胶带并列贴合,且各别的双面胶带依序贴合的方式以因应保持垫的大型化。另一方面,保持垫具有用以保持被研磨物的树脂制的薄片材料。此树脂制薄片材料是将聚胺基甲酸乙酯树脂溶解于水溶性的有机溶媒中所产生的树脂溶液,涂布至薄片状的成膜基材上后,在水型凝固液中使树脂凝固再生(湿式成膜法)而被制造。在所制造的薄片材料的表面上,致密的微多孔所形成厚度数μ m程度的表面层(表肤层,Skin Layer)得以被形成。由于致密地形成了微多孔,所以表肤层的表面具有微观的平坦性。由于此表肤层与被研磨物间的接触性优异,所以能够用于被研磨物的保持。亦即,表肤层的表面成为用以保持被研磨物的保持面。然而,就湿式成膜法而言,由于树脂溶液具有黏性,所以当对成膜基材进行涂布时会发生厚度不均,并且在凝固再生时,会因为有机溶媒与水型凝固液间的置换而故容易发生厚度不均。因此,会损及薄片材料本身表面的微观的平坦性(成为大波浪型的表面)。因此,在维持表肤层的微观的平坦性的状态下,减少厚度不均以提高微观的平坦性是重要的。为了在保留表肤层的状态下减低厚度不均,举例来说,已公开了一种对薄片材料的保持面的背面侧施以抛光处理的技术(日本特开2006-62059号公报参照)。
技术实现思路
专利技术所欲解决的问题 然而,就日本特开2006-62059号公报的技术而言,通过对薄片材料的保持面的背面侧进行抛光处理,虽可在保留表肤层的状态下将薄片材料的厚度制成大致均匀的状态,但是却未提及针对保持垫的大型化的因应手段。以现状来说,作为针对保持垫的大型化所采取的因应措施,为了能将保持垫容易的贴附至保持定盘上,是将具有基材的复数片双面胶带并列贴合。在此种情形中,在搬运时等,会有在各别具有基材的双面胶带的间断处部分产生弯折,或在薄片材料上产生裂痕等的可能性。此外,当安装在保持定盘时,会在双面胶带等的间断处部分使薄片材料被拉伸,而在薄片材料的二面上产生皱纹或塌陷等凹凸不平的现象。当使用具有这种凹凸不平状态的保持垫来进行研磨加工时,由于其高低差会被转印在被研磨物上而产生条纹等,所以被研磨物的表面会变得难以平坦化。本专利技术有鉴于上述事项,以提供即使大型化,仍可确保其平坦性并可全面安装在保持定盘上的一种保持垫为课题。解决问题的手段为解决上述课题,本专利技术是具有用以保持被研磨物的保持面的树脂制的薄片材料;具有与前述薄片材料的保持面的背面侧相贴合的一面,且具黏着性的多个第一黏着构件是相互邻接配置的第一黏着层;具有用以安装在定盘上的一面,且具黏着性的多个第二黏着构件是相互邻接配置的第二黏着层;以及介于前述第一黏着层与第二黏着层间,一面是被贴合在前述第一黏着层的另一面,另一面则是被贴合在前述第二黏着层的另一面的树脂基材,以前述树脂基材的前述一面及另一面分别是连续面为其特征的保持垫。在本专利技术中,将第一黏着层以多个第一黏着构件构成,并将第二黏着层以多个第二黏着构件构成,藉此,即便薄片材料大型化,仍能够全面安装至定盘上,并且藉由在第一黏着层与第二黏着层之间,设置一面及另一面分别是连续面的树脂基材介在其中,而使树脂基材可发挥全面支撑薄片材料的机能,并可抑制在搬送时或者是安装至定盘时发生弯折或是在保持面上形成皱纹等问题,故可确保保持面的平坦性。在这种情况中,第一黏着构件及第二黏着构件也可以是仅以不具有基材的黏着剂构成的无支撑型黏着胶带(以下,简称为无支撑胶带。)。此时,黏着剂可使用自丙烯酸系、胺基甲酸乙酯系及环氧系黏着剂中所选择的至少一种。第二黏着层的一面侧中,多个第二黏着构件的表面是以可各自剥离的离型膜加以覆盖较佳。这种保持垫乃是薄片材料及树脂基材为一致的形状,且对向二边的边长为2000mm以上的矩形或直径为2000mm以上的圆形亦可对应。保持垫是将第一黏着层、树脂基材及第二黏着层预先相互贴合较为适宜。此外,多个第二黏着构件的边界部分彼此之间与多个第一黏着构件的边界部分彼此之间,通过树脂基材而被配置在与厚度方向交叉的方向上的相同的位置上亦可。此时,多个第一黏着构件的边界部分及多个第二黏着构件的边界部分所形成的间隙,皆设定成2_以下较佳。可将构成第二黏着构件的黏着剂设成具有比构成第一黏着构件的黏着剂还大的接着力。此夕卜,将薄片材料以使用湿式成膜法所形成的聚胺基甲酸乙酯树脂制薄片来实施亦可。专利技术的效果根据本专利技术,将第一黏着层以多个第一黏着构件构成,并将第二黏着层以多个第二黏着构件构成,藉此,即便薄片材料大型化,仍能够全面安装至定盘上,并且藉由在第一黏着层与第二黏着层间,设置一面及另一面分别是连续面的树脂基材介在其中,而使树脂基材可发挥全面支撑薄片材料的机能,并可抑制在搬送时或安装至定盘时,发生弯折或是在保持面上形成皱纹等问题,故可确保保持面的平坦性。附图说明图I为适用本专利技术的实施形态的保持垫的剖面示意图。 图2为在实施形态中制作保持垫所使用的贴膜机的剖面示意图。具体实施例方式以下,请参阅图式,针对适用本专利技术实施形态的保持垫进行说明。(构成)如图I所示,本实施形态的保持垫10是包含作为有略平坦本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:望月吉见兵头荣利久米贵宏
申请(专利权)人:富士纺控股公司旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:

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