一种薄膜残余应力分离和测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种薄膜残余应力分离和测量装置，包括密封箱、干涉仪、反射镜、加热板、水平微调底座及输气管，干涉仪、反射镜、加热板、水平微调底座及输气管均设置在密封箱内，干涉仪发出光束，经反射镜反射到达待测样品的表面，光束被反射后再次经过反射镜反射回到干涉仪中，与干涉仪中的标准面的反射光发生干涉。与现有技术相比，本发明专利技术可以测量计算薄膜样品的残余应力；各成分应力(由水诱发应力、热应力和内应力)；薄膜的热膨胀系数和弹性模量；模拟薄膜样品在真空中应力的演化情况，是一种非接触、无破坏性的检测方法，测量精度高，操作方便。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学元器件，尤其是涉及一种薄膜残余应力分离和测量装置。
技术介绍
几乎所有的薄膜都存在应力，光学薄膜的应力研究在薄膜器件的设计和使用中占有重要的地位。薄膜应力的存在直接影响薄膜器件的成品率，张应力过大会引起薄膜破裂，而压应力过大则会导致薄膜卷曲和剥落。从器件整体上讲，残余应力又影响着光学器件表面面形，在使用中引起入射反射波前畸变，影响器件的光学性能。对于蒸发沉积制备的薄膜，受较低的沉积粒子表面动能(< 300meV)和沉积温度(通常在20°C到300°C之间)的影响，形成的薄膜较疏松，呈多孔柱状的微结构。薄膜的多孔结构易吸附水蒸气，对薄膜最终应力的影响很大。离子束辅镀的薄膜从真空环境移到大 气环境中后，应力值发生较大变化，并且光谱向长波方向漂移。薄膜的残余应力按照成因一般可分为内应力、热应力和由水诱发的应力。内应力是在薄膜的生长过程中形成的，受粒子能量、沉积速率、薄膜厚度以及材料的物理或化学掺杂的影响。热应力是由于薄膜和基底的热膨胀系数不匹配引入的。若薄膜与基底的热膨胀系数差异较大，基底温度又有很大的变化，则热应力对总的残余应力贡献较大。不同的薄膜-基底组合会产本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜残余应力分离和测量装置，其特征在于，该装置包括密封箱(1)、干涉仪(2)、反射镜(3)、加热板(5)、水平微调底座(6)及输气管(7)，所述的干涉仪(2)、反射镜(3)、加热板(5)、水平微调底座(6)及输气管(7)均设置在密封箱(1)内，加热板(5)上放置待测样品(4)，干涉仪(2)发出光束，经反射镜(3)反射到达待测样品(4)的表面，光束被反射后再次经过反射镜(3)反射回到干涉仪(2)中，与干涉仪(2)中的标准面的反射光发生干涉。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：叶晓雯，丁涛，程鑫彬，马彬，何文彦，韩金，张艳云，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：