提高基于单壁碳纳米管的场效应气体传感器性能的方法技术

技术编号:7934865 阅读:185 留言:0更新日期:2012-11-01 03:41
本发明专利技术涉及提高基于单壁碳纳米管的场效应气体传感器性能的方法,将单壁碳纳米管自组装在n型掺杂的Si/SiO2基底上(SiO2厚50-500um),然后用经典的微加工方法在上面覆盖叉指电极,再用紫外线照射,通过调节紫外线照射的高度、角度以及时间温度等来获得所需的性能。与现有技术相比,本发明专利技术基于紫外线对不同电性能SWNTs的不同作用,达到分离或富集的目的,每单位体积吸收的辐射能量和材料的介电常数成正比,所以在辐射时吸收更多的能量,因而就更容易破坏。而传感器上半导体性SWNTs比重的增加有利于提高场效应气体传感器性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
提高基于单壁碳纳米管的场效应气体传感器性能的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:a.将n型掺杂的硅片清洗后,再采用Piranha溶液对硅片进行亲水处理,然后用大量去离子水清洗、高纯N2吹干,得到基片;b.将亲水处理的基片浸泡在硅氧烷偶联剂溶液中,一段时间后取出,用大量去离子水冲洗,高纯N2吹干,置入真空烘箱中烘1h后,自然冷却,备用;c.将均匀分散的SWCNT离心处理,取上层溶液备用,再将经步骤b处理过的硅基片放入上层溶液中自组装,取出后用大量去离子水清洗,高纯N2吹干;d.将自组装过的硅片在烘箱中烘干,再旋涂光刻胶,接着曝光,将掩模版上的图形印制在光刻胶上显影,再用去离子水洗净,借助N2吹干,利用光学显微镜检查是否还有残余光刻胶;e.在经步骤d处理的硅片上溅射Cr和Au,采用lift?off工艺湿法刻蚀后利用乙醇、去离子水洗净,氮气吹干,得到场效应气体传感器样品;f.调节紫外照射的距离、角度、时间及温度,对场效应气体传感器样品进行处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:魏良明陈婷婷张亚非
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:

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