移动式维修系统技术方案

技术编号:792437 阅读:167 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种移动式维修系统,其特征在于,通过移动体巡回顾客,进行过滤装置的维修作业。上述移动体搭载有由排水管及供应管组成的过滤设备,具有过滤装置的罐内含高浓度被除去物的排水,通过在上述顾客侧罐底部设置的排水管导入上述移动体上搭载的维修用过滤装置中,回收在上述维修用过滤材料中的被除去物,具备再次返回到顾客侧罐中的回收部件。上述移动体用通信网控制,使用位置检测系统,用控制室控制进程,通过调节巡回路径及时间构成。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及除去流体中含有的被除去物的被除去物除去装置及移式维修系统。
技术介绍
一般的说,金属、陶瓷等无机固体、有机类固体在进行切削、打磨或粉碎等处理时,会产生微粒。而这些微粒一般是随水等流体流出,以排水及污水的形式排出。本专利技术就涉及这种排出水的再利用系统。目前,减少工业废物,从生态学观点来看是一个重要课题,也是面向21世纪的企业的课题。这些工业废物中有各种各样的排水及污水。下面,将以水及药品等流体中含有被除去物的物质的排水进行说明。这些排水用高价的过滤处理装置等除去上述被除去物,使排水成为再次利用的清洁流体,不能除去的残留物质作为工业废物而被处理掉。特别是水,以清洁的状态返回河流及海洋等自然界,从而能够被再次利用。但是,由于存在过滤处理等的设备费、运转费等问题,所以采用这些装置是非常困难的,也就成为了环境问题。从这点可知,污水处理的技术从环境污染和再循环的角度来看都是重要的问题,人们迫切希望早日出现低建设费、低运转费的系统。作为一个例子,下面说明半导体领域的排水处理。一般的,在切削或打磨金属、半导体、陶瓷等板材时,考虑到防止设备温度上升、增加润滑性、研削碎屑或切削碎屑附着在板材上等问题,供给水等流体。例如,切割、打磨半导体材料的板材半导体晶片时,采用流动纯水的方法。切割装置中,为了防止切割刀口温度的上升,或为了防止切割碎屑附着在晶片上,使纯水在半导体晶片上流动,或对着刀口放置一个放出纯水用的喷嘴。另外在打磨过程中,减少晶片厚度时,基于同样的理由流过纯水。这里也可以用蒸馏水代替纯水。另一方面,在“环境优美”的主题下,混入上述半导体晶片的切割碎屑或打磨碎屑的排水通过过滤成为洁净水返回自然界,或者再利用,并回收浓缩后的排水。目前,在半导体制造中,以Si为主体的碎屑混入排水处理中,包括凝聚沉淀法、将过滤器过滤及离心分离机组合的方法,各半导体生产厂家常采用这两种方法。在所述的凝聚沉淀法中,在排水中混入作为凝聚剂的PAC(聚氯化铝)或Al2(SO4)3(硫酸矾土)等,生成与Si的反应物,通过排水的过滤除去这些反应物,。在过滤器过滤及离心机分离组合的方法中,过滤排水,然后离心机分离浓缩的排水,回收淤泥,同时将过滤排水得到的洁净水排放到自然界中,或者进行再利用。例如图14所示,切割时产生的排水收集在原水罐201中,通过泵202送到过滤装置203。由于过滤装置203中装有陶瓷类及有机物类过滤材料F,所以过滤后的水通过导管204送到回收水罐205而被再次利用。或排放到自然界中。另一方面,过滤装置203的过滤材料F的孔眼由于会堵塞,所以应该定期进行清洗。例如,关闭原水罐201一侧的阀门B1,打开阀门B3及向原水罐输送后来产生的洗涤水的阀门B2,用回收水罐205中的水,反向清洗过滤材料F。这样生成的混入高浓度Si屑的排水就又返回到原水罐201中。另外,浓缩罐206中的浓缩水通过泵208输送到离心分离机209中,经离心分离机209分离成淤泥(sludge)与分离液。使得由Si屑组成的淤泥收集在淤泥回收罐210中,分离液收集在分离液罐211中。而且,收集了分离液的分离液罐211的排水通过泵212被输送到原水罐201中。例如在回收切割、研磨以Cu、Fe、Al等金属材料为主要材料的固体或板材、陶瓷等由无机物组成的固体及板材时产生的碎屑时,也可以采用同样的方法。但是,在所述的聚集沉淀法中,由于使用了作为凝聚剂的化学药品,所以在过滤水中投放了上述化学药品。但是,要确定硅屑完全反应的药品量是非常困难的,总都会投放过量药品,残留未反应的药品。反过来,如果药品的量少,不能使所有Si屑聚集沉淀,则硅屑就不能被全部分离而残留在其中。特别是药品过量时,上清液中残留有药品。再利用时,由于过滤水中残留有药品,所以存在由于避免化学反应的物质不能再利用的问题。例如残留有药品的过滤水流到晶片上,由于能够引起不利的反应,存在不能作为切割时使用水的再利用的问题。另外,药品与硅屑的反应物呈絮凝状,可以生成如藻类的浮游物。形成这种絮凝物的条件是必须对PH严格要求,应维持在约6-8之间,这样就必须有搅拌机、PH测定装置、沉淀剂的注入装置及控制这些装置的控制部件等。另外,为了使絮凝物稳定,并使之沉淀,必须有很大的沉淀槽。例如如果排水处理能力为3m3/l小时,就要求有直径3米、深4米的罐(约15吨的沉淀罐),整个系统就必须占地约11米×11米,最终成为一个大系统。而且沉淀槽中也有不沉淀而是浮游的絮凝物,恐怕这些物质从罐中流到外面,全部回收是很困难的。即由于设备很大、整个系统的设备费高、水的再利用难、使用药品,因而造成设备运转费高等问题。另一方面,如图14,在使用5m3/l小时的过滤器过滤与离心分离机的组合方法中,由于在过滤装置203中使用了过滤材料F(称作UF组件,是由聚砜类纤维或陶瓷过滤材料构成),使水的再利用成为可能。但是,过滤装置203中有4个过滤材料F,由于过滤材料F的寿命,至少每年必须更换1次高达约50万日元/个的过滤材料。而且由于过滤材料F采用加压型过滤方法,所以过滤装置203前面的泵202的电动机的负荷大,泵202的容量高。另外,通过过滤材料F的排水中有2/3的返回原水罐201中。而且,泵202为了输送混有硅屑的排水,泵202的内壁容易磨损,所以泵202的寿命非常短。总结上面的观点,由于支付电动机的电费非常大,换取泵P及过滤材料F的费用大,所以存在设备运转费用非常大的问题。这些数据与本专利技术系统进行比较,数据如图12所示。存在以上系统过大、过滤材料的更换、过滤材料的清洗、运转费用等问题。从以上说明可知,为了尽可能的除去对地球环境有害的物质,使用各种各样的设备组成一个花费很大的系统,其结果造成设备费、运转费的膨胀。
技术实现思路
鉴于上述课题,本专利技术的目的在于提供一种低价的、容易维修的流体中被除去物的除去装置。因此,本专利技术提供一种利用流体所含被除去物中至少一部分组成的过滤材料除去上述被除去物而构成的装置。使用由被除去物堆积形成的过滤材料,能够形成比构成过滤材料被除去物还小的过滤孔。这样,通过小孔,能够除去更小的被除去物。第2,使含有被除去物的流体通过第1过滤材料,则在上述第1过滤材料表面形成由上述被除去物组成的第2过滤材料,通过除去上述流体中的上述被除去物形成过滤材料。在第1过滤材料表面可以形成由比第1过滤孔小的孔组成的第2过滤材料,从而提高过滤性能。第3,通过采用使含有被除去物的流体在第1过滤材料中循环的方法,在上述第1过滤材料表面形成由上述被除去物组成的第2过滤材料,从而解决了除去上述流体中上述被除去物的问题。通过循环,在第1过滤材料表面逐步形成由比第1过滤孔小的孔构成的第2过滤材料,而且,由于通过第1过滤孔的小的被除去物还在循环,最终形成即使从第1过滤孔通过的小的被除去物也能够通过第2过滤材料捕获。第4,解决了上述过滤材料或上述第2过滤材料含有大的不同的被除去物的问题。由于流体中分布有大小的不同的被除去物,通过它们的堆积,可以形成流体能够通过而且同时能够捕获小的被除去物的孔。第5,上述被除去物的粒径分布有2个峰值,而第1过滤材料的孔介于2峰值之间。介于2峰位之间的第1过滤材料的孔,最初能够捕获粒径大的被除去物。而且被捕获的被除去物以各种各样本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种被除去物的再利用方法,将被除去物再溶解而再利用,其特征在于:    上述被除去物是从在原水罐中被浓缩到高浓度的排水分离出来的物质。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:对比地元幸饭沼宏文
申请(专利权)人:三洋电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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