【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种超声波清洗机的摆动吹风机构。技术背景随着各种半导体产品的广泛应用及半导体技术的发展,半导体产品的批量生产规模越来越大。对于半导体制品,例如非晶体硅太阳能电池板、有机发光显示器件、液晶显示器件等,其生产都需要利用玻璃等作为基体,在基体上进行多种工序进而形成多层薄膜,工艺步骤中涉及的镀膜、光刻、蚀刻等工艺会产生粉尘附着在基体上,进而影响基体的清洁度,基体的清洁度对产品的质量有着重大影响。因此,在于镀膜、光刻及蚀刻等步骤中必须贯穿有清洗步骤,以维持基体在生产过程中的表面清洁度。在其生产过程中,除了清洗之夕卜,另一重要工序就是风干。若所述的玻璃基片上残留清洗液或水珠,将会影响半导体产品的质量。为解决上述问题,通常会另外增设多个风干装置来风干所述的玻璃基体,但这样便导致整个清洁系统的结构复杂,且增加了生产成本,且现有的风干装置不能达到使整个工件均匀吹风,降低了其生产效率。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种超声波清洗机的摆动吹风机构,可以对工件进行均匀吹风。为了实现上述技术目的,本技术采用如下技术方案一种超声波清洗机的摆动吹风机构,设置在清洗槽的上方,它包括用于提供动力的气缸、沿横向延伸且与压缩空气源相连通的吹气管路、沿所述的吹气管路轴向排列且与所述的吹气管路内部连通的喷嘴、设置在机架上且沿纵向延伸的导轨,所述的吹气管路与所述的气缸的活塞杆传动连接,所述的吹气管路的一端部上设置有滑块,所述的滑块滑动配合在所述的导轨上,所述的吹气管道呈水平设置,所述的导轨与所述的气缸的活塞杆相平行设置。优选地,所述的吹气管路的横截面为矩形。优选地,所述的喷嘴包括与所 ...
【技术保护点】
一种超声波清洗机的摆动吹风机构,设置在清洗槽的上方,其特征在于:它包括用于提供动力的气缸、沿横向延伸且与压缩空气源相连通的吹气管路、沿所述的吹气管路轴向排列且与所述的吹气管路内部连通的喷嘴、设置在机架上且沿纵向延伸的导轨,所述的吹气管路与所述的气缸的活塞杆传动连接,所述的吹气管路的一端部上设置有滑块,所述的滑块滑动配合在所述的导轨上,所述的吹气管道呈水平设置,所述的导轨与所述的气缸的活塞杆相平行设置。
【技术特征摘要】
1.一种超声波清洗机的摆动吹风机构,设置在清洗槽的上方,其特征在于它包括用于提供动力的气缸、沿横向延伸且与压缩空气源相连通的吹气管路、沿所述的吹气管路轴向排列且与所述的吹气管路内部连通的喷嘴、设置在机架上且沿纵向延伸的导轨,所述的吹气管路与所述的气缸的活塞杆传动连接,所述的吹气管路的一端部上设置有滑块,所述的滑块滑...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈宏,
申请(专利权)人:张家港市超声电气有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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