薄膜的清洁化方法技术

本发明专利技术涉及将行驶薄膜高度清洁化的方法，其特征在于包括以下顺序的工序：（ａ）向在导辊上通过的薄膜表面的每个单面喷射纯水的工序；（ｂ）使纯水在上升行驶的薄膜的两面上以膜状流下的工序；（ｃ）用气刀向在导辊上通过的薄膜表面的每个单面喷射空气的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于获得高清洁度的塑料膜的清洁化方法。特别涉及适用于光学元件中所使用的塑料膜的清洁化方法。
技术介绍
液晶显示装置等的制造中使用将塑料膜表面沿一方向摩擦处理的基板膜。基板膜广泛用于液晶单元中液晶分子的取向处理(例如参照专利文献1)。此外，已知在基板膜上形成液晶性高分子层而直接或将该液晶性高分子层转写到透光性基板膜上的视野角改善板、位相差板、色补偿板等光学元件的制造方法(例如参照专利文献2)。该塑料膜的加工使用高度洁净的原料膜在净室内进行，但有时在原料膜中混入异物，或者在摩擦工序中由于薄膜表面被切削而产生微细的粉尘。在薄膜加工时，由于从搬运用的多个辊间通过或摩擦时摩擦等产生的静电，异物、粉尘容易附着在薄膜表面上。这些异物、粉尘为数10μm-数100μm左右微细的粒子，如果在这些粒子附着的表面涂布液晶性高分子，会产生数mm的涂布斑。此外，附着有该粒子的薄膜在被送入后续工序之前有时作为薄膜卷一度被卷取，卷取张力造成薄膜间的粒子使薄膜变形，其大小甚至达到数mm，并且如果从薄膜卷中反复取出薄膜会在每个卷周期产生缺陷。该缺陷使制品的产率降低。过去已提出了几个塑料膜的高清洁化方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
本专利技术涉及将行驶薄膜高度清洁化的方法，其特征在于包括以下顺序的工序：（ａ）向在导辊上通过的薄膜表面的每个单面喷射纯水的工序；（ｂ）使纯水在上升行驶的薄膜的两面上以膜状流下的工序；（ｃ）用气刀向在导辊上通过的薄膜表面的 每个单面喷射空气的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山梨辉昭，清原稔和，福田靖，大村匠，村田洁，
申请(专利权)人：新日石液晶薄膜株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]