【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种清洁装置，供以一流体将残留材料自一待清洁物加以移除，该待清洁物具有至少一开孔，其特征在于，该清洁装置包含：一清洁载具，具有一座部供装载该待清洁物及一外壳体连接于该座部上方，其中该外壳体顶端设有一导孔，该外壳体底端与该座部接合形成 一清洗腔，该座部包含一流体通道与该待清洁物连通，该导孔、该清洗腔及该流体通道相互连通；以及一压力控制系统，具有一给压部与该导孔压力相连，而使该压力控制系统与该清洁载具压力连通，其中该压力控制系统借正负压的转换，于该清洗腔及该流体通道 产生一流体力。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄世欣，彭哲夫，倪明福，陈明鑫，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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