【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于太阳能电池
,尤其涉及。
技术介绍
薄膜太阳能电池,具有制造成本低、高光电转化效率、抗辐射能力强、性能稳定等优点;其结构一般为减反射层/金属栅状电极/透明电极层/窗口层/过渡层/光吸收层/金属背电极/基底。其中,光吸收层为黄铜矿结构的铜铟硒(CIS)薄膜或铜铟镓硒(CIGS)薄膜。目前,CIGS薄膜的制备方法主要采用溅射后硒化或硫化法,即通过在基底上先磁 控溅射沉积铜铟镓(Cu-In-Ga,简称CIG)形成金属预置层,然后在Se气氛中硒化或在S气氛中硫化形成CIGS薄膜;也可先硒化后硫化或者先硫化后硒化,最终形成所需的或Cu (In,Ga) (Se, S)2化合物半导体薄膜。目前,硒化和/或硫化过程中所采用的Se气氛或S气氛,可直接采用H2Se或H2S气体,也可直接采用固态Se或S气化产生硒原子或硫原子。其中,采用H2Se或H2S气体得到的光吸收层薄膜质量较好,所得的CIS电池能量转化效率也较高,但H2Se、H2S均为剧毒气体,且易燃、造价高,对保存、操作的要求非常严格,大大限制了其应用。CN1547239A中公开了一种光电薄膜材料的制备方法 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种在太阳能电池阴极基底上形成光吸收层的方法,包括以下步骤 1)在太阳能电池阴极基底上形成金属预置层,所述金属预置层为CuIruCuGa或CuInGa ; 2)惰性气氛下将Se和/或S熔融,形成熔融液; 3)将形成有金属预置层的太阳能电池阴极基底浸入熔融液中,进行硒化和/或硫化反应,反应完成后即在太阳能电池阴极基底上形成所述光吸收层。2.根据权利要求I所述的方法,其特征在于,在太阳能电池阴极基底上形成金属预置层的方法为磁控溅射法、加热共蒸发法或电沉积法。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在太阳能电池阴极基底上形成金属预置层的方法为磁控溅射法;采用CuIn合金靶和CuGa合金靶单独溅射,分别形成Culn、CuGa金属预制层;采用CuInGa合金靶单独溅射、或CuIn合金靶和CuGa合金靶同时溅射,形成CuInGa金属预制层。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在太阳能电池阴极基底上形成金属预置层的方法为加热共蒸发法;蒸发Cu、In、Ga或其合金,并在阳极基底上共沉积,形成金属预置层。5.根据权...
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