【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体行业光刻
，主要应用在光学无掩膜光刻系统中，具体为一种。
技术介绍
光刻机是半导体制造业中主要的集成电路装备之一，精密移动平台作为光刻机的核心部件，用来实现快速移动，精密定位等功能。以位置同步信号触发扫描方式实现了光刻机系统的快速曝光，其工作原理为事先定义曝光的起始点位置，触发脉冲的位置间隔，随着平台的匀速移动按照设定的触发模式输出脉冲信号，以达到与外在装置同步的工作状态。但在实际的光刻机系统应用中，由于触发信号的延时导致曝光的起始点与绝对的图形位置出现了偏差，而这样的偏差在半导体制造业是绝对不能接受的，通过本专利技术的方法能 够很容易解决这种图形曝光后的绝对误差。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种，以解决现有技术中光刻机系统由于触发信号的延时导致曝光的起始点与绝对的图形位置出现偏差的问题。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为 ，包括有投影曝光模块、主控模块，投影曝光模块包括有曝光光源、空间光调制器，曝光光源与空间光调制器之间设有光学集光系统，空间光调制器下方设置有倾斜的分束器，分束器下方设置有基底，分束器与基底之间还设有透...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种同步信号触发扫描方式延迟时间测量方法，包括有投影曝光模块、主控模块，投影曝光模块包括有曝光光源、空间光调制器，曝光光源与空间光调制器之间设有光学集光系统，空间光调制器下方设置有倾斜的分束器，分束器下方设置有基底，分束器与基底之间还设有透镜(组)，分束器的分光面的前方光路上设有反射镜，反射镜的反射光的前方光路上设有CCD摄像机，所述的基底置于精密移动平台上；所述的主控模块包括有计算机系统、控制器，计算机系统分别通过一个控制器与空间光调制器、曝光光源、带动精密移动平台运动的电机控制连接，计算机系统还通过人工智能模块与CXD摄像机连接；曝光光源发射的光信号经光学集光系统集光后由空间光调制器接收，空间光调制器发射调制光，调制光经过分束器及透镜(组)投影至安装在精密移动平台上的基底表面以进行成像，精密移动平台输出位置同步信号至空间光调制器，分束器将基底表面的图像信号经反射镜传送至CCD摄像机，其特征在于测量方法包括以下步骤 ①、精密移动平台沿着I轴正方向以速度Vl运动并输出位置同步信号至空间光调制器 时，空间光调制器接受信号后翻转图形，在基底上曝光图形大框； ②、精密移动平台沿着I轴正方向以速度v2运动并输出位置同步信号至空间光调制器时，空间光调制器接受信号后翻转图形，在基底上曝光图形小框； ③、...
【专利技术属性】
技术研发人员：毕娟，朱亮，
申请(专利权)人：合肥芯硕半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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